显示器件结构、显示器件制备方法技术

本申请一种显示器件结构及显示器件制备方法，涉及半导体技术领域，通过在显示模组与顶部膜层及柔性基底与保护膜之间设置缓冲层，以用于缓冲诸如贴合工艺等对显示模组施加的应力，进而有效的避免因应力而造成器件损伤，提高显示器件的性能。

Display device structure and method for preparing display device

The application of a display device structure and method for manufacturing display device, relates to the field of semiconductor technology, the buffer layer is arranged between the display module and the top layer and the flexible substrate and the protective film for buffer such as laminating process on the display module of the applied stress, thus effectively avoid device damage caused by stress. To improve the characteristics of display device.

【技术实现步骤摘要】
显示器件结构、显示器件制备方法
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种显示器件结构及显示器件制备方法。
技术介绍
目前，在柔性显示器件的制备工艺中，由于柔性显示屏在弯曲时会产生的弯曲应力，及后段制程(BEOL)中的贴合工艺(诸如薄膜封装后的一次贴合工艺、激光离型工艺后的二次贴合工艺等)所产生的应力均会对柔性显示器件的性能产生不利影响，甚至会导致器件的失效。例如，在进行顶部保护膜(1stLaminationProtectFilm)或偏光片(Polarizer)的贴合工艺时，所采用的滚筒在压合时会对面板(panel)上显示区域或有效区(ActiveArea，简称AA)产生暗点、暗区或光晕(Mura)等诸多缺陷，具体的：a)在进行上述压合工艺时，异物颗粒(Particle)会对薄膜封装层(ThinFilmEncapsulationLayer，简称TFE)产生破坏，进而会致使水汽侵入，即会在显示器件上产生上述的暗点缺陷；b)同样的，在进行上述的压合工艺时，压合时所产生的应力会造成OLED剥落(Peeling)，进而会在显示器件上产生上述的暗区缺陷；c)在进行上述压合工艺时，若压合胶的流动性不佳，则会导致贴合面不平整或有小气泡产生，进而会在显示器件上产生上述的光晕缺陷。同样，在柔性基板激光离型工艺后，上述的保护膜贴合时所产生的应力会造成柔性基底上层的缓冲层(bufferlayer)膜质产生变化，进而会导致显示器件中的TFT电性漂移，进而会影响整个面板的驱动效果；而上述的压合应力还会使得柔性基底中产生水汽侵入通道的缺陷，会进一步增加显示器件产生上述暗点缺陷的几率。为了尽量降低上述缺陷的产生，当前业界主要是通过在显示器件的保护膜层上贴合强化层，以防止弯曲时应力对面板所造成的损伤；但是，目前都是采用压合工艺贴合上述的强化层，而压合所产生的应力还是会在显示器件的面板上造成诸如暗点、暗区、光晕等缺陷；另外，当前对于强化层厚度也有一定的要求，若强化层的厚度小于25μm会加大贴合的难度，而若强化层的厚度大于300μm时则又会使得面板(panel)弯曲特性大大降低，故强化层的厚度要限定在25～300μm之间，这就会大大的限制了面板选择及其厚度的降低。
技术实现思路
鉴于上述技术问题，本申请提供一种显示器件结构，包括：柔性基底，具有正面表面及相对于所述正面表面的背面表面；显示模组，覆盖所述柔性基板的正面表面；顶部膜层，设置于所述显示模组的上方；保护膜，位于所述柔性基底的下方；第一缓冲层，设置于所述顶部膜层与所述显示模组之间；以及第二缓冲层，覆盖所述柔性基板的背面表面，且位于所述保护膜与所述柔性基板之间。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述顶部膜层为偏光片或保护层。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述保护层与所述保护膜的材质相同。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中，所述显示模组包括：显示基板，覆盖所述柔性基底的正面表面；有机发光层，位于所述显示基板的上方；以及薄膜封装层，位于所述有机发光层的上方，且所述第一缓冲层位于所述薄膜封装层与所述顶部膜层之间。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层为采用喷墨印刷工艺制备的薄膜。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层的材质为丙烯酸脂或硅氧树脂。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层的厚度为2～10μm。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中，所述柔性基底上设置有：若干个显示单元区，且临近每个所述显示单元区均对应设置有一外引线焊接区；间隔区，用以将相邻的所述显示单元区与所述外引线焊接区均予以隔离；以及所述外引线焊接区中未设置有所述第一缓冲层和所述第二缓冲层。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层至少覆盖部分所述显示单元区。作为一个优选的实施例，上述的显示器件结构中：所述第一缓冲层和/或第二缓冲层位于所述间隔区中。本申请还提供了一种显示器件的制备方法，包括：提供一柔性基底，且所述柔性基底具有正面表面及相对于所述正面表面的背面表面；于所述柔性基底的正面表面上制备显示模组后，在所述显示模组的上方制备第一缓冲层；于所述柔性基底的背面表面制备第二缓冲层；于所述第一缓冲层的上方制备顶部膜层；以及于所述第二缓冲层的下表面制备保护膜。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：所述顶部膜层为偏光片或保护层。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：所述保护层与所述保护膜的材质相同。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中，制备显示模组的步骤包括：于所述柔性基底的正面表面制备显示基板；于所述显示基板的上方制备有机发光层；以及于所述有机发光层的上方制备所述薄膜封装层；其中，所述第一缓冲层位于所述薄膜封装层与所述顶部膜层之间。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：采用喷墨印刷工艺制备所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层的材质为丙烯酸脂或硅氧树脂。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层的厚度为2～10μm。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中，所述柔性基底上设置有：若干个显示单元区，且临近每个所述显示单元区均对应设置有一外引线焊接区；间隔区，将相邻的所述显示单元区与所述外引线焊接区均予以隔离；以及所述外引线焊接区中未设置有所述第一缓冲层和所述第二缓冲层。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层至少覆盖部分所述显示单元区。作为一个优选的实施例，上述的制备方法中：所述第一缓冲层和/或第二缓冲层位于所述间隔区中。上述技术方案具有如下优点或有益效果：本申请中的技术方案是通过在显示模组与顶部膜层及柔性基底与保护膜之间设置缓冲层，以用于缓冲诸如贴合工艺等对显示模组施加的应力，进而有效的避免因应力而造成器件损伤，提高显示器件的性能。附图说明参考所附附图，以更加充分的描述本专利技术的实施例。然而，所附附图仅用于说明和阐述，并不构成对本专利技术范围的限制。图1为传统柔性显示器件的结构示意图；图2为本申请实施例中显示器件的结构示意图；图3～5为本申请实施例中缓冲层的结构示意图。具体实施方式本申请中提供的显示器件结构及显示器件制备方法，主要是通过在薄膜封装层(TFE)与保护膜/偏光片(即顶层膜层)之间，以及在柔性基底与保护膜之间增加缓冲层(即第一缓冲层和第二缓冲层)，以降低后续压合制程中所产生的应力对面板有效区(即显示单元区)设置的器件结构造成的损伤；同时，采用喷墨印刷技术喷涂制备的缓冲层，能够在制备时通过精准的控制喷头的移动路径及喷墨量等，从而实现图案化的喷涂膜层，且还能精准的控制制备膜层的厚度及图形尺寸，以有效的降低会对面板有效区所造成的损伤，进而大大提高制备的柔性显示器件的性能及良率。下面结合附图和具体实施例对本专利技术的音视频转换装置进行详细说明。实施例一图1为传统柔性显示器件的结构示意图，图2为本申请实施例中显示器件的结构示意图；如图1所示，传统显示器件的柔性基底12的上表面制备有显示模组13(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示器件结构，其特征在于，包括：柔性基底，具有正面表面及相对于所述正面表面的背面表面；显示模组，覆盖所述柔性基板的正面表面；顶部膜层，设置于所述显示模组的上方；保护膜，位于所述柔性基底的下方；第一缓冲层，设置于所述顶部膜层与所述显示模组之间；以及第二缓冲层，覆盖所述柔性基板的背面表面，且位于所述保护膜与所述柔性基板之间。

【技术特征摘要】
1.一种显示器件结构，其特征在于，包括：柔性基底，具有正面表面及相对于所述正面表面的背面表面；显示模组，覆盖所述柔性基板的正面表面；顶部膜层，设置于所述显示模组的上方；保护膜，位于所述柔性基底的下方；第一缓冲层，设置于所述顶部膜层与所述显示模组之间；以及第二缓冲层，覆盖所述柔性基板的背面表面，且位于所述保护膜与所述柔性基板之间。2.如权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述顶部膜层为偏光片或保护层。3.如权利要求2所述的显示器件结构，其特征在于，所述保护层与所述保护膜的材质相同。4.如权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述显示模组包括：显示基板，覆盖所述柔性基底的正面表面；有机发光层，位于所述显示基板的上方；以及薄膜封装层，位于所述有机发光层的上方，且所述第一缓冲层位于所述薄膜封装层与所述顶部膜层之间。5.如权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层为采用喷墨印刷工艺制备的薄膜。6.如权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层的材质为丙烯酸脂或硅氧树脂。7.如权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层的厚度为2～10μm。8.如权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述柔性基底上设置有：若干个显示单元区，且临近每个所述显示单元区均对应设置有一外引线焊接区；间隔区，用以将相邻的所述显示单元区与所述外引线焊接区均予以隔离；以及所述外引线焊接区中未设置有所述第一缓冲层和所述第二缓冲层。9.如权利要求8所述的显示器件结构，其特征在于，所述第一缓冲层和/或所述第二缓冲层至少覆盖部分所述显示单元区。10.如权利要求8所述的显示器件结构，其特征在于，所述第一缓冲层和/或第二缓冲层位于所述间隔区...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈一鸣，黄添旺，吴建霖，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31