一种镀膜基片的装卸机构制造技术

本实用新型专利技术涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种镀膜基片的装卸机构，其特征在于：所述装卸机构至少包括进片翻转机构、出片翻转机构、进片室输送机构、出片室输送机构和搬送室输送机构，其中所述进片翻转机构用于将水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态并输送至所述进片室之中，所述进片室输送机构用于接收垂直状态的未镀膜基片并输送至所述搬送室之中，所述搬送室输送机构用于完成基片在所述搬送室与所述真空镀膜室之间的输送，所述出片室输送机构用于将垂直状态的已镀膜基片从所述镀膜室输送至所述出片室，所述出片翻转机构用于接收垂直状态的已镀膜基片并将其翻转至水平状态输出。本实用新型专利技术的优点是：性能稳定、结构简单、成本低、效率高。

Loading and unloading mechanism for coating substrate

The utility model relates to the technical field of film preparation, in particular to a loading and unloading mechanism of coating substrate, characterized in that the loading mechanism comprises at least one into a turnover mechanism, a turnover mechanism, a conveying mechanism, a room into the room conveying mechanism and a conveying chamber conveying mechanism, wherein the feeding for the turnover mechanism in the horizontal state without coating substrate flip to the vertical state is transferred to the feeding chamber, the chamber into the conveying mechanism for the uncoated substrate receiving vertical state is transferred to the transfer chamber, a transfer chamber structure for conveying conveyor between substrate in the transfer chamber and the vacuum coating chamber, wherein the sheet conveying mechanism for vertical chamber has a coating substrate from the vacuum chamber is conveyed to the out of the room, a turnover mechanism for receiving vertically The substrate has been coated and flipped to a horizontal state output. The utility model has the advantages of stable performance, simple structure, low cost and high efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜基片的装卸机构
本技术涉及薄膜制备
，尤其是一种镀膜基片的装卸机构。
技术介绍
目前，自动化连续式真空镀膜设备成为镀膜设备发展的趋势之一。为实现真空镀膜设备自动化连续式工作,其中一个关键是基片装卸方式的自动化。真空镀膜设备的基片自动装卸机构的设计需要考虑到与镀膜腔室的镀膜流程以及其他前道和后道流程的兼容性，并兼顾性能稳定性和成本因素。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种镀膜基片的装卸机构，在进、出片室的两侧分别设置进、出片翻转机构，在进、出片室内设置进、出片分别设置进、出片输送机构，在搬送室内设置搬送机构，通过各机构之间的动作配合，实现镀膜基片的自动化装卸。本技术目的实现由以下技术方案完成：一种镀膜基片的装卸机构，用于真空镀膜系统的基片装卸，所述真空镀膜系统包括真空镀膜室、搬送室和进、出片室，所述真空镀膜室和所述搬送室相连接且内部连通，所述进、出片室分别连接在所述搬送室的两侧且分别与所述搬送室构成内部连通，其特征在于：所述装卸机构至少包括进片翻转机构、出片翻转机构、进片室输送机构、出片室输送机构和搬送室输送机构，其中所述进片翻转机构设置在所述进片室一侧用于将水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态并输送至所述进片室之中，所述进片室输送机构设置在所述进片室内用于接收垂直状态的未镀膜基片并输送至所述搬送室之中，所述搬送室输送机构设置在所述搬送室之中用于完成基片在所述搬送室与所述真空镀膜室之间的输送，所述出片室输送机构设置在所述出片室之中用于将垂直状态的已镀膜基片从所述镀膜室输送至所述出片室，所述出片翻转机构设置在所述出片室一侧用于接收垂直状态的已镀膜基片并将其翻转至水平状态输出。所述进片翻转机构包括皮带传送机构、水平夹紧机构、翻转机构、垂直夹紧机构、推送机构，其中所述皮带传送机构用于接收所述水平状态的未镀膜基片，所述水平夹紧机构用于对所述水平状态的未镀膜基片进行夹紧，所述翻转机构用于将已被所述水平夹紧机构夹紧的水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态，所述垂直夹紧机构用于夹紧垂直状态的未镀膜基片，所述推送机构用于将所述垂直状态的未镀膜基片输送到所述进片室之中。所述进片室输送机构包括皮带机构、夹紧机构、顶起机构、推送机构，其中所述皮带机构用于接收所述垂直状态的未镀膜基片，所述夹紧机构用于对所述垂直状态的未镀膜基片进行夹紧，所述顶起机构用于对已被所述夹紧机构夹紧的垂直状态的未镀膜基片进行顶起，所述推送机构用于将所述垂直状态的未镀膜基片输送到所述搬送室之中。所述搬送室输送机构包括夹紧机构、推送机构，其中所述夹紧机构用于夹紧基片，所述推送机构用于完成基片在所述真空镀膜室和所述搬送室之间的输送。所述出片室输送机构包括皮带机构、夹紧机构、顶起机构、推送机构，其中所述推送机构用于将垂直状态的已镀膜基片从所述镀膜室输送到所述出片室，所述夹紧机构用于对所述垂直状态的已镀膜基片进行夹紧，所述顶起机构用于对已被所述夹紧机构夹紧的垂直状态的已镀膜基片进行顶起，所述皮带机构用于将所述垂直状态的已镀膜基片输送到所述出片翻转机构的对应位置上。根据权利要求1所述的一种镀膜基片的装卸机构，其特征在于：所述出片翻转机构包括皮带传送机构、水平夹紧机构、翻转机构、垂直夹紧机构、推送机构，其中所述推送机构用于将垂直状态的已镀膜基片从所述出片室内取出，所述垂直夹紧机构用于夹紧所述垂直状态的已镀膜基片，所述翻转机构用于将已被所述垂直夹紧机构夹紧的所述垂直状态的已镀膜基片翻转至水平状态，所述水平夹紧机构用于夹紧水平状态的已镀膜基片，所述皮带传送机构用于将所述水平状态的已镀膜基片输出。本技术的优点是：自动化程度高，实现对基片的稳定输送，避免基片在输送过程中发生破损；性能稳定、结构简单、成本低、效率高。附图说明图1为本技术的布置结构示意图；图2为本技术中进片翻转机构和进片室输送机构示意图（进片室推送机构处于推送状态）；图3为本技术中进片翻转机构和进片室输送机构示意图（进片室推送机构处于未推送状态）；图4为本技术中进片翻转机构、进片室输送机构和搬送室输送机构示意图（进片室推送机构处于未推送状态）。具体实施方式以下结合附图通过实施例对本技术特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：如图1-4所示，图中标记1-27分别表示为：真空镀膜室1、搬送室2、进片室3、出片室4、进片翻转机构5、出片翻转机构6、皮带传送机构7、水平夹紧机构8、翻转机构9、垂直夹紧机构10、推送机构11、皮带传送机构12、顶起机构13、夹紧机构14、推送机构15、夹紧机构16、推送机构17、DRUM转动机构18、推送机构19、顶起机构20、夹紧机构21、皮带传送机构22、推送机构23、垂直夹紧机构24、翻转机构25、皮带传送机构26、水平夹紧机构27。实施例：本实施例中镀膜基片的装卸机构设置在真空镀膜系统中，如图1所示，真空镀膜系统包括真空镀膜室1、搬送室2、进片室3、出片室4，其中进片室3和出片室4分别固定设置在搬送室2的两侧且分别与搬送室2的内部构成连通，搬送室2与真空镀膜室1固定设置在真空镀膜室1的一侧且内部构成连通，在真空镀膜室1的内部设置有DRUM转动机构18，DRUM转动机构18上具有若干基片的镀膜工位。如图1所示，在进片室3的外侧固定设置有进片翻转机构5，进片翻转机构5用于将水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态并输送至进片室3之中。进片翻转机构5包括皮带传送机构7、水平夹紧机构8、翻转机构9、垂直夹紧机构10、推送机构11。如图2所示，皮带传送机构7具有两根间隔设置的皮带，水平状态的未镀膜基片承载在两根皮带上并在皮带的驱动下移送至翻转机构9所处的位置上。翻转机构9设置在皮带传送机构7的两根皮带之间，水平夹紧机构8设置在翻转机构9的两端，当水平状态的未镀膜基片在皮带的驱动下移送到翻转机构9的位置时，水平夹紧机构8可对水平状态的未镀膜基片进行夹紧，在夹紧之后翻转机构9通过顶推的方式将水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态。垂直夹紧机构10设置在翻转机构9翻转后的对应位置上，以对垂直状态的未镀膜基片进行夹紧。推送装置11设置在垂直夹紧机构10的上方，以将被垂直夹紧机构10夹紧的垂直状态的未镀膜基片输送到进片室3之中。如图1所示，在进片室3内设置有由皮带传送机构12、顶起机构13、夹紧机构14、推送机构15构成的进片室输送机构。结合图2和图3所示，皮带传送机构12包括上、下间隔设置的三根皮带，其中上方为一根皮带，下方为两根间隔设置的皮带，上、下间隔设置的皮带之间的间隔距离与垂直状态的未镀膜基片的高度相同，垂直状态的未镀膜基片可在皮带传送机构12的两根皮带之间传输。顶起机构13设置在位于皮带传送机构12下方两根间隔设置的皮带之间，可顶起垂直状态的未镀膜基片，使其高度满足于夹紧机构14以及推送机构15的高度要求。推送机构15设置在皮带传送机构12的一侧且位于其上方，用于将垂直状态基片的未镀膜基片输送到搬送室2之中。夹紧装置14设置在推送机构15上，用于对经顶起机构13所顶起的垂直状态的未镀膜基片进行夹紧，保证垂直状态的未镀膜基片在被推送机构15推送时状态稳定。如图1所示，在搬送室2内设置有由夹紧机构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜基片的装卸机构，用于真空镀膜系统的基片装卸，所述真空镀膜系统包括真空镀膜室、搬送室和进、出片室，所述真空镀膜室和所述搬送室相连接且内部连通，所述进、出片室分别连接在所述搬送室的两侧且分别与所述搬送室构成内部连通，其特征在于：所述装卸机构至少包括进片翻转机构、出片翻转机构、进片室输送机构、出片室输送机构和搬送室输送机构，其中所述进片翻转机构设置在所述进片室一侧用于将水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态并输送至所述进片室之中，所述进片室输送机构设置在所述进片室内用于接收垂直状态的未镀膜基片并输送至所述搬送室之中，所述搬送室输送机构设置在所述搬送室之中用于完成基片在所述搬送室与所述真空镀膜室之间的输送，所述出片室输送机构设置在所述出片室之中用于将垂直状态的已镀膜基片从所述镀膜室输送至所述出片室，所述出片翻转机构设置在所述出片室一侧用于接收垂直状态的已镀膜基片并将其翻转至水平状态输出。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜基片的装卸机构，用于真空镀膜系统的基片装卸，所述真空镀膜系统包括真空镀膜室、搬送室和进、出片室，所述真空镀膜室和所述搬送室相连接且内部连通，所述进、出片室分别连接在所述搬送室的两侧且分别与所述搬送室构成内部连通，其特征在于：所述装卸机构至少包括进片翻转机构、出片翻转机构、进片室输送机构、出片室输送机构和搬送室输送机构，其中所述进片翻转机构设置在所述进片室一侧用于将水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态并输送至所述进片室之中，所述进片室输送机构设置在所述进片室内用于接收垂直状态的未镀膜基片并输送至所述搬送室之中，所述搬送室输送机构设置在所述搬送室之中用于完成基片在所述搬送室与所述真空镀膜室之间的输送，所述出片室输送机构设置在所述出片室之中用于将垂直状态的已镀膜基片从所述镀膜室输送至所述出片室，所述出片翻转机构设置在所述出片室一侧用于接收垂直状态的已镀膜基片并将其翻转至水平状态输出。2.根据权利要求1所述的一种镀膜基片的装卸机构，其特征在于：所述进片翻转机构包括皮带传送机构、水平夹紧机构、翻转机构、垂直夹紧机构、推送机构，其中所述皮带传送机构用于接收所述水平状态的未镀膜基片，所述水平夹紧机构用于对所述水平状态的未镀膜基片进行夹紧，所述翻转机构用于将已被所述水平夹紧机构夹紧的水平状态的未镀膜基片翻转至垂直状态，所述垂直夹紧机构用于夹紧垂直状态的未镀膜基片，所述推送机构用于将所述垂直状态的未镀膜基片输送到所述进片室之中。3.根据权利要求1所述的一种镀膜基片的装卸机构，其特征在于：所述进片室输...

【专利技术属性】
技术研发人员：余海春，戴秀海，张洪，戴晓东，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31