一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。其中，制作方法包括在衬底基板上形成像素电极的步骤，形成所述像素电极的步骤包括：在绝缘层上形成导电反射层，对导电反射层进行构图，形成导电反射图形；沉积透明导电层，对透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，透明导电层的图形包括有覆盖导电反射图形的第一部分；第一部分与导电反射图形组成所述像素电极。在本发明专利技术的方案中，透明导电层的第一部分覆盖导电反射图形，从而为导电反射图形提供保护，防止其反光面划伤；此外，在后续形成配向膜的过程中，透明导电层的第一部分将配向液与导电反射图形隔开，从而避免了配向液与导电反射图形接触而影响其反射率。

Method for manufacturing display substrate, display substrate and display device

The invention provides a method for manufacturing a display substrate, a display substrate and a display device. The manufacturing method comprises a pixel electrode formed on a substrate to the step of forming the pixel electrode comprises the steps of: forming a conductive layer on the insulating reflective layer, patterning the conductive reflective layer, forming a conductive reflection pattern; transparent conductive layer is deposited, patterned on the transparent conductive layer, a transparent conductive layer is formed on the graphics. The transparent conductive layer pattern comprises a first part covers the conductive reflection patterns; the first part and the conductive reflection pattern composed of the pixel electrode. In the scheme of the invention, a transparent conductive layer of the first conductive part covers the reflection pattern, so as to provide protection for the conductive reflection pattern, to prevent its reflecting surface scratch; in addition, the formation of alignment film in the process of follow-up, the first part of the transparent conductive layer to the conductive liquid and separated with the reflection pattern, so as to avoid alignment of liquid and conductive contact reflection patterns affect the reflectivity.

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置
本专利技术涉及反射显示技术，特别是指一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。
技术介绍
传统的反射式显示器(如全反射显示器或半反射显示器)需要在基板上制作高反射率的反射图形，以通过反射光显示画面。目前厂商一般使用电阻率低的铝来制作基板的反射图形。基于反射原理可以知道，在常规的制作工艺中，反射图形位于基板的上方(防止被其他图层遮挡)，因此在后续涂覆配向膜的工艺中，会与配向液接触。由于铝材料本身硬度较低，因此目前反射式显示器的反射图形容易被划伤，使得表面平整度降低，导致反射效果不理想，发生显示画面亮度不均的问题。此外，配向液在与铝制的反射图形接触后，会大幅降低反射图形的反光率，导致显示画面的亮度低于正常水准。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决当前反射式显示器中的反射图形易被划伤且受配向液影响而降低反射率的问题。为实现上述目的，一方面，本专利技术的实施例提供一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成像素电极的步骤，形成所述像素电极的步骤包括：在绝缘层上形成导电反射层，对所述导电反射层进行构图，形成导电反射图形；沉积透明导电层，对所述透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，所述透明导电层的图形包括有覆盖所述导电反射图形的第一部分；所述第一部分与所述导电反射图形组成所述像素电极。其中，所述制作方法还包括：在形成所述绝缘层的步骤之前，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管；在形成所述导电反射图形的步骤后且形成所述透明导电层的步骤前，对所述绝缘层进行构图，形成暴露出所述薄膜晶体管的漏电极的第一过孔；所述透明导电层的图形还包括位于所述第一过孔中的第二部分，所述第二部分连接所述第一部分和所述漏电极。其中，所述制作方法还包括：在形成所述绝缘层的步骤之前，在所述衬底基板上形成第一公共电极线和第二公共电极线；在形成所述导电反射图形的步骤后且形成所述透明导电层的步骤前，对所述绝缘层进行构图，形成暴露出所述第一公共电极线的第二过孔和暴露出所述第二公共电极的第三过孔；其中，所述透明导电层的图形还包括位于所述第二过孔中的第三部分和位于所述第三过孔中的第四部分，所述第一公共电极线和所述第二公共电极线通过所述第三部分和第四部分连接。其中，所述第一过孔、第二过孔和第三过孔由同一构图工艺形成。其中，所述第一公共电极线和所述第二公共电极线由同一构图工艺形成。另一方面，本专利技术的实施例还提供一种显示基板，包括：位于衬底基板上的绝缘层；位于所述绝缘层上的导电反射图形和透明导电层，所述透明导电层包括有覆盖所述导电反射图形的第一部分，所述第一部分与所述导电反射图形组成所述像素电极。其中，所述显示基板还包括：形成在所述衬底基板与所述绝缘层之间的薄膜晶体管；所述绝缘层在对应所述薄膜晶体管的漏电极的位置设置有第一过孔；所述透明导电层的图形还包括位于所述第一过孔中的第二部分，所述第二部分连接所述像素电极和所述漏电极。其中，所述显示基板还包括：形成在所述衬底基板与所述绝缘层之间的第一公共电极线和第二公共电极线；所述绝缘层在对应所述第一公共电极线的位置设置有第二过孔，且在对应所述第二公共电极线的位置设置有第三过孔；所述透明导电层的图形还包括位于所述第二过孔中的第三部分和位于所述第三过孔中的第四部分，所述第三部分和第四部分连接所述第一公共电极线和所述第二公共电极线。其中，与所述漏电极同层同材料形成的导电图形；所述绝缘层在对应所述导电图形的位置设置有第四过孔，所述透明导电层的图形还包括位于所述第四过孔的第五部分，所述第五部分与所述导电图形接触。此外，本专利技术的实施例还提供一种显示装置，包括本专利技术上述提供的显示基板。本专利技术的上述方案具有如下有益效果：在本专利技术的方案中，透明导电层的第一部分覆盖导电反射图形，从而为导电反射图形提供保护，防止其反光面划伤，利于画面显示；此外，在后续形成配向膜的过程中，透明导电层的第一部分将配向液与导电反射图形隔开，从而避免了配向液降低导电反射图形的反射率，进而能够提供更高的显示亮度。附图说明图1为本专利技术的显示基板的结构示意图；图2A-图2G为本专利技术的显示基板的制作方法的详细流程图。具体实施方式为使本专利技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。针对现有反射式显示器的反射图形易划伤且与配向液接触后反射率下降的问题，本专利技术提供一种解决方案。一方面，本专利技术的实施例提供一种显示基板的制作方法，包括形成像素电极的步骤，参考图1所示，形成像素电极的步骤包括：在绝缘层2上形成导电反射层，并对导电反射层进行构图，形成导电反射图形3；沉积透明导电层，对透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，该透明导电层的图形包括有覆盖导电反射图形3的第一部分41；其中，第一部分41和导电反射图形3共同组成像素电极。显然，从图1中可以看出，本实施例的方案在导电反射图形3的上方设置透明导电层的第一部分41，该第一部分41覆盖导电反射图形3，从而为导电反射图形3提供保护，防止其被刮伤，使得导电反射图形的反光面更平整，利于画面显示。此外，在后续制作配向膜的过程中，透明导电层的第一部分41将配向液与导电反射图形3隔开，从而避免了配向液降低导电反射图形3的反射率，进而使导电反射图形3能够提供更高的显示亮度。具体地，进一步参考图1，在上述基础之上，本实施例的制作方法还包括：在形成绝缘层1的步骤之前，在衬底基板1上形成薄膜晶体管5；在形成导电反射图形3的步骤后且形成透明导电层的步骤前，对绝缘层2进行构图，形成暴露出薄膜晶体管5的漏电极51的第一过孔21；上述透明导电层的图形还包括：位于第一过孔21中的第二部分42，该第二部分42连接第一部分41和漏电极51。在现有技术中，导电反射图形3一般由Al制成，而透明导电层的形成材料一般是ITO(氧化铟锡)，ITO与Al直接接触会存在较高的势垒，对于信号驱动会存在不利的影响。如图1所示，在现有的显示基板中，会有导电图形7与漏电极51同层同材料形成，例如：导电图形7可以是信号导线，用于连接显示基板外围的检测端点，在对显示基板进行检测时，检测针头要与检测端点接触，从而通过该检测端点对导电图形7加载检测信号。若导电图形7上方覆盖有Al层和ITO层会产生较大势垒，可直接对检测结果产生不良影响。为避免这一样现象发生，本实施例的上述制作方法的顺序是先在绝缘层2上形成导电反射图形3，再在绝缘层上形成各种过孔，之后形成透明导电层。该制作顺序的目的是在形成透明导电层时，可以避免导电反射图形3覆盖绝缘层2的过孔，从而让如图1中的导电图形7直接与透明导电层接触，进而降低导电图形7处的势垒。当然，本实施的上述导电图形7用于泛指与漏电极51同层同材料的图形，并不一定限制于是用于检测的信号导线。下面结合实际应用对本实施例的制作方法进行示例性介绍。以底栅型的显示基板为例(顶栅型原理相同，本文不再举例赘述)，本实施例的制作方法包括：步骤21，参考图2A，采用常规工艺，在衬底基板1上形成公共电极走线和薄膜晶体管的栅电极52，其中，公共电极走线在显示基板的俯视角度上呈网格状结构，因此在图2A的剖视图呈现出：按照第一方向延伸的第一公共电极走线61和按照第二方向延伸的第二公共电极走线62，该第一方向垂直或大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成像素电极的步骤，其特征在于，形成所述像素电极的步骤包括：在绝缘层上形成导电反射层，并对所述导电反射层进行构图，形成导电反射图形；沉积透明导电层，对所述透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，所述透明导电层的图形包括有覆盖所述导电反射图形的第一部分；所述第一部分与所述导电反射图形组成所述像素电极。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成像素电极的步骤，其特征在于，形成所述像素电极的步骤包括：在绝缘层上形成导电反射层，并对所述导电反射层进行构图，形成导电反射图形；沉积透明导电层，对所述透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，所述透明导电层的图形包括有覆盖所述导电反射图形的第一部分；所述第一部分与所述导电反射图形组成所述像素电极。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，还包括：在形成所述绝缘层的步骤之前，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管；在形成所述导电反射图形的步骤后且形成所述透明导电层的步骤前，对所述绝缘层进行构图，形成暴露出所述薄膜晶体管的漏电极的第一过孔；所述透明导电层的图形还包括位于所述第一过孔中的第二部分，所述第二部分连接所述第一部分和所述漏电极。3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，还包括：在形成所述绝缘层的步骤之前，在所述衬底基板上形成第一公共电极线和第二公共电极线；在形成所述导电反射图形的步骤后且形成所述透明导电层的步骤前，对所述绝缘层进行构图，形成暴露出所述第一公共电极线的第二过孔和暴露出所述第二公共电极的第三过孔；其中，所述透明导电层的图形还包括位于所述第二过孔中的第三部分和位于所述第三过孔中的第四部分，所述第一公共电极线和所述第二公共电极线通过所述第三部分和第四部分连接。4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述第一过孔、第二过孔和第三过孔由同一构图工艺形成。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：冯玉春，王守坤，郭会斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11