一种彩膜基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，在原本BM的区域形成色阻的材料和/或透明绝缘材料，通过对其进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。该制备方法包括，提供一基板，基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；在色阻区域内形成色阻图案，在间隔区域内形成绝缘图案；绝缘图案由色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于间隔区域内的绝缘材料进行黑化处理，以使间隔区域不透光。

Color film substrate and preparation method and display device thereof

The invention provides a color film substrate and preparation method thereof, display device, relates to the technical field of display, formed in the original color resistance region of BM material and / or transparent insulation material, through the blackening treatment so that it becomes opaque material, thus preventing adjacent color blocking out optical crosstalk effect; the original processes in the color film substrate removal in BM process, which can effectively solve the problem of bad products caused by the colored film substrate BM stripping, improve product yield. The preparation method comprises providing a substrate, the substrate divided into a plurality of spaced apart color resistance region and is located in the interval between two adjacent color resistance region; the formation of color in the color region of resist pattern resistance, insulation pattern is formed on the spacer region; an insulating pattern by color resistance patterns and / or transparent materials made of insulation material; the insulating material is located within the interval blackening treatment so that the interval is not transparent.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
彩膜基板(ColorFilter，简称为CF)是显示面板中的重要组成之一，从液晶层透过的背光或从有机电致发光器件发出的白光透过彩膜基板上阵列排布的红、绿、蓝等颜色的色阻，从而发出红、绿、蓝等各种颜色的光，以实现显示面板的彩色显示。为了防止从相邻颜色的色阻透射出的光发生串扰，彩膜基板上通常设置有黑矩阵(BlackMatrix，简称为BM)，黑矩阵上形成有阵列排布的间隔开来的多个镂空区域，相邻颜色的色阻涂覆在黑矩阵的镂空区域内，以实现防串扰的目的。然而，由于BM材料与彩膜基板的衬底之间黏附性较弱，容易发生剥离(Peeloff)问题，影响显示面板的正常显示。例如，在液晶显示面板中BM材料剥离后会出现液晶盒内的气泡不良(Bubble)。
技术实现思路
鉴于此，为解决现有技术的问题，本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，在原本BM的区域形成色阻的材料和/或透明绝缘材料，通过对色阻的材料和/或透明绝缘材料进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面、本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制备方法，所述制备方法包括，提供一基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；所述制备方法包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光。可选的，所述对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，通过掩膜板，采用激光灼烧、紫外曝光、碳化处理和离子掺杂中的任一种方法对所述间隔区域内的所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料进行处理，以使所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料转变为不透光材料；其中，所述掩膜板的透过区域露出所述绝缘图案，所述掩膜板的不透过区域遮挡住所述色阻图案。作为一种可选的方式，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的绝缘图案；所述绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述色阻图案的材料或所述透明绝缘材料转变为不透光材料。作为一种可选的方式，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和第二绝缘图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；所述保护层由透明绝缘材料构成；对所述第二绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。作为一种可选的方式，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案、第二绝缘图案和隔垫物的图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；在所述第二绝缘图案上形成隔垫物；所述隔垫物由透明绝缘材料构成；对所述隔垫物进行黑化处理，以使所述隔垫物的材料转变为不透光材料。作为一种可选的方式，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，将所述间隔区域空缺出来，在所述色阻区域内形成间隔设置的色阻图案；形成覆盖所述色阻图案和所述间隔区域的保护层；其中，所述保护层在覆盖所述间隔区域内的部分为绝缘图案，所述绝缘图案具有预设厚度；所述保护层由透明绝缘材料构成；对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。作为一种可选的方式，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和隔垫物的图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，将所述间隔区域空缺出来，在所述色阻区域内形成间隔设置的色阻图案；形成覆盖所述色阻图案和所述间隔区域的保护层；所述保护层在覆盖所述间隔区域内的部分为第一绝缘图案；在所述第一绝缘图案上形成具有预设厚度的隔垫物；其中，所述隔垫物由透明绝缘材料构成；对所述隔垫物进行黑化处理，以使所述隔垫物的材料转变为不透光材料。第二方面、本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，包括基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；所述彩膜基板还包括，设置在所述色阻区域内的间隔开来的色阻图案；所述彩膜基板还包括，设置在所述间隔区域内的绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成。优选的，所述彩膜基板还包括覆盖所述基板的保护层和设置在所述保护层上的隔垫物；在所述绝缘图案包括有由透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成的情况下，所述透明绝缘材料为所述保护层位于所述间隔区域内的部分和/或位于所述间隔区域上方的所述隔垫物。第三方面、本专利技术实施例提供了一种显示装置，包括上述的彩膜基板。基于此，通过本专利技术实施例提供的上述制备方法，通过对形成在间隔区域内的色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制备方法流本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制备方法，所述制备方法包括，提供一基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；其特征在于，所述制备方法包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制备方法，所述制备方法包括，提供一基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；其特征在于，所述制备方法包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，通过掩膜板，采用激光灼烧、紫外曝光、碳化处理和离子掺杂中的任一种方法对所述间隔区域内的所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料进行处理，以使所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料转变为不透光材料；其中，所述掩膜板的透过区域露出所述绝缘图案，所述掩膜板的不透过区域遮挡住所述色阻图案。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的绝缘图案；所述绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述色阻图案的材料或所述透明绝缘材料转变为不透光材料。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和第二绝缘图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；所述保护层由透明绝缘材料构成；对所述第二绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案、第二绝缘图案和隔垫物的图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透...

【专利技术属性】
技术研发人员：林海云，赵清辉，李东朝，杜楠楠，董廷泽，李京鹏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11