磁共振成像装置、RF匀场方法以及磁共振成像方法制造方法及图纸

为了MRI装置的摄像部使用包含对第一区域进行激励的预备RF脉冲、和对与上述第一区域不同的第二区域进行激励的激励RF脉冲在内的高频脉冲来收集NMR信号，算出对由从多个通道照射的高频脉冲产生的照射磁场分布进行调整的匀场参数的匀场参数算出部对预备RF脉冲和激励RF脉冲分别设定不同的匀场参数，摄像部使用以不同的匀场参数调整后的预备RF脉冲和激励RF脉冲来进行摄像。

Magnetic resonance imaging device, RF shimming method, and magnetic resonance imaging method

In order to contain for RF pulse, and high frequency of RF, pulse incentive for second regions different from the first region of the pulse signal NMR to collect the first region, the use of camera MRI device, calculated to adjust the distribution of magnetic field generated by the high frequency radiation exposure from multiple channel pulse shimming the parameters of the shimming parameters to calculate the set shimming different parameters respectively to prepare RF pulse and RF pulse excitation, camera used in different shimming parameters adjusted for RF and pulse excitation of camera pulse RF.

【技术实现步骤摘要】
磁共振成像装置、RF匀场方法以及磁共振成像方法
本专利技术涉及磁共振成像装置(以下称作MRI装置)，尤其涉及使用了对规定的信号进行抑制的抑制脉冲的摄像技术。
技术介绍
MRI装置是测量来自存在于生物体内的原子核、主要为来自质子的NMR信号，对构成生物体组织的原子核密度(质子密度)、NMR信号的相位信息进行图像化的装置。在MRI装置中，开发有各种利用了血流质子和静止的组织的质子的行为的差异的血流摄像法，进而广泛使用了利用血流方向的不同，以比其他血流更高的亮度来描绘期望的血流的技术。例如，有对上游侧或者下游侧的血流质子进行预备激励，抑制进入到摄像区域的血流的信号，从而将静脉和动脉分离的技术等。在这种技术中，为了抑制来自不需要的血流的信号，使用预先使不需要的血流的质子饱和来减弱信号的RF脉冲(称作预饱和脉冲：presaturationpulse)。在该方法中能够分离动脉和静脉，但不能选择性地仅描绘多个动脉或者静脉之中的期望的部分。与此相对，还开发了通过RF脉冲与区域选择倾斜磁场的组合来仅对期望的部位进行激励的方法(2D激励法)。例如专利文献1中提出了以下的技术：在对头颈部的血管的行进状态进行图像化时，采用2D激励法，抑制来自2个颈动脉之中的一个颈动脉的信号，仅描绘另外一个颈动脉。另一方面，在当前的MRI装置中，使用组合了多个小型线圈的多通道发送线圈来照射RF脉冲。在该情况下，在激励RF脉冲中，对要进行激励的区域，有想要使被照射的磁场(照射磁场)在空间上一致的要求。这是由于，如果在激励磁场中存在分布，则起因于此而在来自组织的NMR信号中产生不均匀，就无法得到正确的质子分布、相位信息。因此，在现有的MRI装置中，预先对利用从各通道照射的RF脉冲产生的磁场分布进行测定，算出用于使磁场分布均匀化的校正量，对产生RF脉冲的RF线圈的驱动电压叠加该校正量(专利文献2)。该校正量被称作RF匀场参数(以下简称为匀场参数)。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开201I/037064号专利文献2：JP特开2010-29640号公报专利技术所要解决的课题在仅描绘来自多个动脉的血流之中的期望的动脉的情况下，在上述的2D激励法中，将特殊形状(包络线：envelope)的RF脉冲和倾斜磁场脉冲组合起来进行施加，仅激励被限定的区域来进行预饱和，因此RF匀场能够省略。但是，由于通过RF脉冲和倾斜磁场脉冲的组合来进行激励，因此存在预饱和所需的脉冲施加时间长这样的问题。
技术实现思路
本专利技术在使用预备RF脉冲和激励RF脉冲的摄像中，通过利用对规定的组织或者部位具有不同效果的不同的匀场参数来调整这些RF脉冲，从而不会导致脉冲施加时间的延长，能相对于两个组织或者部位之内的一个，以高亮度描绘出另一个。例如，针对预备RF脉冲，在由其激励的区域中，对匀场参数进行调整，以使得成为多个部位中的一个部位相比其他部位照射磁场变小的照射磁场分布，针对激励RF脉冲，调整匀场参数以使得被激励的区域整体成为均匀的照射磁场分布。专利技术效果本专利技术适合应用于血流摄像。附图说明图1为表示应用本专利技术的MRI装置的一实施方式的图。图2为表示本专利技术中采用的发送线圈的一实施方式的图。图3为第一实施方式的MRI装置的运算部的功能框图。图4为在第一实施方式中采用的脉冲序列的一例的图。图5为说明第一实施方式的摄像方法中的第一区域和第二区域的关系的图。图6为表示第一实施方式的运算部的动作的流程图。图7为表示第一实施方式中的用于ROI指定的输入画面例的图，示出在颈部断层像上指定两个ROI的情形。图8(a)、(b)表示第一实施方式中的初始照射磁场分布和利用匀场参数进行了调整之后的照射磁场分布。图9为表示由第一实施方式的MRI装置摄像的图像例的图，(a)为没有进行预饱和的情况下的头部图像，(b)为对来自右颈动脉的信号进行了抑制的头部图像，(c)为对来自左颈动脉的信号进行了抑制的头部图像。图10为说明第一实施方式的变形例中的ROI设定的图。图11为表示第二实施方式的运算部的动作的流程图。图12为表示由第二实施方式的MRI装置执行的摄像与通过该摄像得到的图像之间的关系的图。图13为说明第三实施方式的摄像方法中的第一区域与第二区域之间的关系的图。图14为表示在第三实施方式中采用的脉冲序列的一例的图。符号的说明1被检测体、2静磁场产生部、3倾斜磁场产生部(摄像部)、4序列发生器(摄像部)、5发送部(摄像部)、57发送线圈、6接收部(摄像部)、7信号处理部、73显示部(显示器)、75输入部、8运算部、81ROI设定部、82照射磁场算出部、83匀场参数算出部、84摄像控制部、85图像重构部、87显示控制部、89存储器、411抑制RF脉冲(预备RF脉冲)、421激励RF脉冲、400TOF脉冲序列、510第一区域、520第二区域、800ASL序列、801标记用RF脉冲(预备RF脉冲)、802激励RF脉冲具体实施方式说明本专利技术的实施方式的概要。本实施方式的MRI装置具备：具有从多个通道的每个通道照射高频脉冲的多通道发送线圈，使用包含对被检测体的第一区域进行激励的预备RF脉冲和对与上述第一区域不同的第二区域进行激励的激励RF脉冲在内的高频脉冲来收集NMR信号的摄像部；以及算出对通过从上述多个通道照射的高频脉冲产生的照射磁场分布进行调整的匀场参数的匀场参数算出部。上述匀场参数算出部算出与作为被设定成上述激励RF脉冲用的匀场参数的第二匀场参数不同的第一匀场参数，来作为上述预备RF脉冲用的匀场参数，上述摄像部使用以上述第一匀场参数进行了调整的预备RF脉冲和以上述第二匀场参数进行了调整的激励RF脉冲来进行摄像。匀场参数算出部算出上述第一匀场参数，以使得例如通过上述预备RF脉冲在上述第一区域中产生的照射磁场分布为第一部位的照射磁场比第二部位的照射磁场小。此外，所谓照射磁场(B1)大/小指的是其强度(|B1|)大/小。现有的RF匀场是设定匀场参数以使得摄像部位中的照射磁场分布均匀，相对于现有的RF匀场的设定，本实施方式的MRI装置通过设定在期望的部位(第一部位)使基于预备RF脉冲的照射磁场分布变小的匀场参数，从而能够在通过之后的激励RF脉冲来进行选择激励的摄像部位中，选择性地描绘该期望的部位。或者，能够在通过之后的激励脉冲来进行选择激励的摄像部位中，选择性地描绘该期望的部位以外的部位。接下来，对应用了本实施方式的MRI装置的整体结构进行说明。图1为表示本实施方式的MRI装置的整体结构的框图。如本图所示那样，本实施方式的MRI装置100具备：静磁场产生部2、倾斜磁场产生部3、序列发生器4、发送部5、接收部6、信号处理部7、运算部8以及载置被检测体1的卧台9。静磁场产生部2是使被检测体1所放置的空间产生均匀的静磁场的装置，其具备永磁铁方式、常导方式或者超导方式的静磁场产生装置。根据静磁场的方向的不同，有垂直磁场方式和水平磁场方式，根据其方式的差异，静磁场产生装置中包含的磁铁的形状、包围该磁铁的台架形状不同。在本专利技术中，哪种方式的静磁场产生装置都不受限定，都能够应用。倾斜磁场产生部3在静磁场产生部2所形成的静磁场空间中形成磁场梯度，且具备产生作为MRI装置的坐标系即静止坐标系的X、Y、Z的3轴方向的倾斜磁场的3组倾斜磁场线圈31、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁共振成像装置，其特征在于，具备：摄像部，具有从多个通道的每个通道照射高频脉冲的多通道发送线圈，使用包含对被检测体的第一区域进行激励的预备RF脉冲、和对与上述第一区域不同的第二区域进行激励的激励RF脉冲在内的高频脉冲来收集NMR信号；以及匀场参数算出部，算出对通过从上述多个通道照射的高频脉冲产生的照射磁场分布进行调整的匀场参数，上述匀场参数算出部算出与作为被设定成上述激励RF脉冲用的匀场参数的第二匀场参数不同的第一匀场参数，来作为上述预备RF脉冲用的匀场参数，上述摄像部使用以上述第一匀场参数进行了调整的预备RF脉冲、和以上述第二匀场参数进行了调整的激励RF脉冲来进行摄像。

【技术特征摘要】
2016.01.04 JP 2016-0000481.一种磁共振成像装置，其特征在于，具备：摄像部，具有从多个通道的每个通道照射高频脉冲的多通道发送线圈，使用包含对被检测体的第一区域进行激励的预备RF脉冲、和对与上述第一区域不同的第二区域进行激励的激励RF脉冲在内的高频脉冲来收集NMR信号；以及匀场参数算出部，算出对通过从上述多个通道照射的高频脉冲产生的照射磁场分布进行调整的匀场参数，上述匀场参数算出部算出与作为被设定成上述激励RF脉冲用的匀场参数的第二匀场参数不同的第一匀场参数，来作为上述预备RF脉冲用的匀场参数，上述摄像部使用以上述第一匀场参数进行了调整的预备RF脉冲、和以上述第二匀场参数进行了调整的激励RF脉冲来进行摄像。2.根据权利要求1所述的磁共振成像装置，其特征在于，上述匀场参数算出部算出上述第一匀场参数，以使得通过上述预备RF脉冲在上述第一区域中产生的照射磁场分布为在第一部位中照射磁场比第二部位小。3.根据权利要求2所述的磁共振成像装置，其特征在于，上述匀场参数算出部将不使上述第二部位中的照射磁场分布的平均值发生变化作为约束条件，进行反复运算，算出上述第一匀场参数。4.根据权利要求2或3所述的磁共振成像装置，其特征在于，上述匀场参数算出部将以上述第一匀场参数照射了上述预备RF脉冲时的比吸收率不超过使在上述第一区域中产生的照射磁场分布的均匀度最优化了的情况下的比吸收率作为约束条件，进行反复运算，算出上述第一匀场参数。5.根据权利要求2所述的磁共振成像装置，其特征在于，该磁共振成像装置还具备输入部，该输入部受理上述第一区域中的部位的指定，上述匀场参数算出部针对经由上述输入部指定的部位，算出上述第一匀场参数。6.根据权利要求5所述的磁共振成像装置，其特征在于，上述输入部包含显示部，该显示部显示包含上述第一区域在内的被检测体图像、和用于在上述被检测体图像上指定上述部位的GUI。7.根据权利要求6所述的磁共振成像装置，其特征在于，上述被检测体图像是对作为摄像对象的上述被检测体进行摄像而得到的形态图像或者照射磁场...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤公辅，泷泽将宏，
申请(专利权)人：株式会社日立制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP