The utility model provides an outlet exhaust condensation reflux device wafer cleaning machine, including wafer cleaning machine top front plate, a silicon wafer cleaning machine is arranged above the exhaust pipe is in charge of the wafer cleaning machine before the top plate, the front plate and the silicon cleaning machine top silicon cleaning machine exhaust pipe connection tube set exhaust pipe installation gasket, the exhaust pipe mounting pad is arranged on the exhaust pipe in charge of fixed bolts, the middle position of the upper part of the wafer cleaning machine exhaust pipe is arranged in charge of the wafer cleaning machine exhaust manifold, on both sides of the silicon wafer cleaning machine is arranged on the front plate top reflux condenser skateboard, provided with a reflux condenser plate installed between the two reflux condenser and reflux condenser skateboard, install water scraper vertical plate mounting plate of the reflux condenser in front of the utility model. The groove is a groove type structure, and the water drops scraped by the water scraper are collected through a water collecting tank, and the drain pipe is condensed and discharged through a condensing reflux device.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗机排风口冷凝回流装置
本技术是一种硅片清洗机排风口冷凝回流装置,属于硅片清洗机
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。现有技术中,没有设置水刮板和集水槽,不能将硅片清洗机机顶上盖板上凝聚的水刮落,收集在集水槽内,在水汽抽排过程中,少量的水汽会凝结在硅片清洗机机顶上盖板上,凝结成水珠就容易滴落在硅片上,导致硅片损坏。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本技术目的是提供一种硅片清洗机排风口冷凝回流装置,以解决上述
技术介绍
中提出的没有设置水刮板和集水槽,不能将硅片清洗机机顶上盖板上凝聚的水刮落,收集在集水槽内,在水汽抽排过程中,少量的水汽会凝结在硅片清洗机机顶上盖板上,凝结成水珠就容易滴落在硅片上,导致硅片损坏的问题,本技术使用方便,便于操作,稳定性好,可靠性高。为了实现上述目的,本技术是通过如下的技术方案来实现:一种硅片清洗机排风口冷凝回流装置,包括硅片清洗机机顶前板,所述硅片清洗机机顶前板的上方设置有硅片清洗机排风管分管,所述硅片清洗机机顶前板与硅片清洗机排风管分管的连接处设置有排风管安装垫片,所述 ...
【技术保护点】
一种硅片清洗机排风口冷凝回流装置,包括硅片清洗机机顶前板(5),其特征在于:所述硅片清洗机机顶前板(5)的上方设置有硅片清洗机排风管分管(3),所述硅片清洗机机顶前板(5)与硅片清洗机排风管分管(3)的连接处设置有排风管安装垫片(4),所述排风管安装垫片(4)上设置有排风管分管固定螺栓(1),所述硅片清洗机排风管分管(3)的上方中间位置处设置有硅片清洗机排风管汇流管(2),所述硅片清洗机机顶前板(5)的两侧设置有冷凝回流器滑板(14),所述两个冷凝回流器滑板(14)之间设置有冷凝回流器安装板(6),所述冷凝回流器安装板(6)的前方设置有与冷凝回流器安装板(6)垂直的水刮板(7),所述水刮板(7)的前方设置有集水槽(12),所述集水槽(12)与水刮板(7)的连接处设置有集水槽安装螺栓(13),所述集水槽(12)的一侧设置有冷凝回流器排水管(9),所述冷凝回流器排水管(9)与集水槽(12)的连接处设置有密封胶圈(8),所述冷凝回流器排水管(9)远离密封胶圈(8)的一端设置有双通管(10)。
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗机排风口冷凝回流装置,包括硅片清洗机机顶前板(5),其特征在于:所述硅片清洗机机顶前板(5)的上方设置有硅片清洗机排风管分管(3),所述硅片清洗机机顶前板(5)与硅片清洗机排风管分管(3)的连接处设置有排风管安装垫片(4),所述排风管安装垫片(4)上设置有排风管分管固定螺栓(1),所述硅片清洗机排风管分管(3)的上方中间位置处设置有硅片清洗机排风管汇流管(2),所述硅片清洗机机顶前板(5)的两侧设置有冷凝回流器滑板(14),所述两个冷凝回流器滑板(14)之间设置有冷凝回流器安装板(6),所述冷凝回流器安装板(6)的前方设置有与冷凝回流器安装板(6)垂直的水刮板(7),所述水刮板(7)的前方设置有集水槽(12),所述集水槽(12)与水刮板(7)的连接处设置有集水槽安装螺栓(13),所述集水槽(12)的一侧设置有冷凝回流器排水管(9),所述冷凝回流器排水管(9...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晓丽,景欢旺,吕海军,高超,项望,
申请(专利权)人:江苏晶鼎电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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