一种水射流抛光设备制造技术

本发明专利技术公开了一种水射流抛光设备，包括机架，所述机架上设有可旋转的滚筒，该滚筒上部开口、下部封闭，该机架上设有和该滚筒相配的端盖，该端盖上设有若干射流喷头，射流喷头的进口连接有流体源，射流喷头的喷口和该滚筒的内腔相配。本发明专利技术的优点是：能够较好的抛光体积较小或不规则的物料。

【技术实现步骤摘要】
一种水射流抛光设备
本专利技术涉及表面处理设备
，尤其是涉及一种水射流抛光设备。
技术介绍
在机械加工、零部件生产等领域，经常会对加工件进行事先表面处理，比如进行抛光、研磨、精整加工等，以便于使加工件获得良好的表面质量。显然，这种抛光作业对于体型较为规则且体积较大的加工件而言，并不是一个难事。但是，对于体型不够规则、体积较小或者具有多个曲面精密加工的零件、部件而言，如果采用纯手工进行对其抛光，则必然抛光效果较差、工作效率较低，无法达到批量精整加工的要求。对于前述体型不够规则、体积较小或者具有多个曲面精密加工的零件、部件，我们可以称之为物料。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的不足，本专利技术的目的是提供一种水射流抛光设备，它具有能够较好对物料进行表面处理的特点。为了实现上述目的，本专利技术所采用的技术方案是：一种水射流抛光设备，包括机架，所述机架上设有可旋转的滚筒，该滚筒上部开口、下部封闭，该机架上设有和该滚筒相配的端盖，该端盖上设有若干射流喷头，射流喷头的进口连接有用于输出预设压力流体的流体源，射流喷头的喷口和该滚筒的内腔相配。所述端盖上设有磨料添加管，磨料添加管的上端连接有磨料斗，磨料添加管的下端和该滚筒的内腔相配。所述机架上设有位于上方的面板和位于下方的收集桶，该收集桶上部开口、下部封闭，同时，该面板上设有向上延伸的导柱，且该面板中部开有通孔，该端盖滑动设置于该导柱上，磨料添加管的下端位于该端盖的下方、射流喷头的喷口位于该端盖的下方，以及，该滚筒位于该收集桶内，且该滚筒的底部设有至少一渗液孔，该滚筒连接有驱使其旋转的动力装置，该收集桶的底部设有流体导管，该流体导管和一流体回收斗相配。所述收集桶和该滚筒均为圆筒形。所述收集桶的上沿设有凹槽，凹槽内设有滚珠，滚珠和滚筒的下表面相配。所述动力装置具有向上延伸且上端位于该收集桶内部的动力输出轴，该动力输出轴的上端设有一用于支撑该滚筒底部的水平支撑板，且该滚筒底部的下表面上设有卡槽、该水平支撑板的上表面上设有凸筋，凸筋和卡槽相配。所述至少一渗液孔配有滤芯。采用上述结构后，本专利技术和现有技术相比所具有的优点是：能够较好对物料进行表面处理。本专利技术的基于射流的表面处理设备在使用时，仅需通过磨料添加管将磨料添加入滚筒内、通过射流喷头向滚筒内喷射高压的流体进行射流，而需要抛光的体积较小或体型不规则的物料放置于滚筒内。然后驱使滚筒旋转，射流作用在磨料上。可以使磨料随射流冲击在物料上，滚筒的旋转可以实现物料与磨料之间的无序运动，使得物料的表面均匀加工。即可极为方便的对物料进行抛光、研磨和精整等表面处理，且相对于纯人工抛光而言，效果较佳、效率较高。同时，该基于射流的表面处理设备亦可完成人工无法完成的内腔、不规则内部结构的物料的精密加工。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明：图1是本专利技术的实施例的基于射流的表面处理设备的立体图；图2和图3是本专利技术的实施例的基于射流的表面处理设备在两个不同视角的立体分解图；图4是本专利技术的实施例的基于射流的表面处理设备在分解状态的主视图；图5是本专利技术的面板的立体图。图中：10、机架；20、面板，21、导柱，22、通孔，23、端盖，231、磨料添加管，2311、磨料斗，232、射流喷头；30、收集桶，31、滚筒，311、至少一渗液孔，3111、滤芯，312、动力装置，3121、动力输出轴，3122、水平支撑板，313、凹槽，314、卡槽，32、流体导管，321、流体回收斗。具体实施方式实施例，见图1至图5所示：一种水射流抛光设备，包括机架10。该机架10最好具有4个支腿。更具体的讲：该机架10上设有可旋转的滚筒31。该滚筒31上部开口、下部封闭，该滚筒31最好为圆筒形。该机架10上设有和该滚筒31相配的端盖23。即，该端盖23位于该滚筒31的上方且能够封闭该滚筒31的上部开口。该端盖23上设有若干射流喷头232，射流喷头232的进口连接有用于输出预设压力流体的流体源(图上未示出)，流体源输出的流体具有预设的压力，流体源输出预设压力值为20～40MPa的流体，如20MPa、25MPa、30MPa、40MPa等。其中，射流喷头232的结构还可以采用在端盖23上开设腔体，开设若干与腔体导通的射流孔，腔体与流体源导通的结构进行互换。射流喷头232的喷口和该滚筒31的内腔相配。即，射流喷头232喷出的流体喷入该滚筒31内。这样，仅需将物料放置于该滚筒31内，且将磨料预先放置于该滚筒31内，之后驱动该滚筒31旋转，而射流喷头232向该滚筒31内喷入高压流体，在运作预设时间后，即可对物料进行较好和高效的抛光。优化的：该端盖23上设有磨料添加管231，磨料添加管231的上端连接有磨料斗2311，磨料添加管231的下端和该滚筒31的内腔相配。即，可以通过该磨料添加管231将磨料添加入该滚筒31内。该机架10上设有位于上方的面板20和位于下方的收集桶30。该收集桶30上部开口、下部封闭，该收集桶30最好亦为圆筒形。同时，该面板20上设有向上延伸的导柱21，且该面板20中部开有通孔22。该端盖23滑动设置于该导柱21上，且该端盖23最好能够上下通过该通孔22。比如，该通孔22呈圆形，而该端盖23亦为圆形，且该端盖23的直径略小于该通孔22的内径。磨料添加管231的下端位于该端盖23的下方、射流喷头232的喷口位于该端盖23的下方。以及，该滚筒31位于该收集桶30内，且该滚筒31的底部设有至少一渗液孔311。该滚筒31连接有驱使其旋转的动力装置312。该收集桶30的底部设有流体导管32，该流体导管32和一流体回收斗321相配，该流体回收斗321最好位于该收集桶30的下方。即，该流体导管32的下端开口位于该流体回收斗321内，从而从该流体导管32流出的流体能够进入该流体回收斗321内。这样，通过该磨料添加管231将磨料添加入该滚筒31内、通过射流喷头232向该滚筒31内添加水等流体，而需要抛光的体积较小或体型不规则的物料放置于该滚筒31内，然后驱使该滚筒31旋转，即可对物料进行抛光。显然，仅需向上移动该端盖23即可方便的将物料添加入该滚筒31内。继续优化：该收集桶30的上沿设有凹槽313，凹槽313内设有滚珠(图上未示出)，滚珠和滚筒31的下表面相配。即，该滚筒31可以凭借自身重力压在滚珠上，但是不会影响该滚筒31的正常旋转。该动力装置312具有向上延伸且上端位于该收集桶30内部的动力输出轴3121。比如，该动力装置312包括电机，该电机通过一伞形齿轮副动力连接该动力输出轴3121，该电机固定在该机架10上，该动力输出轴3121呈竖向。该动力输出轴3121的上端设有一用于支撑该滚筒31底部的水平支撑板3122，且该滚筒31底部的下表面上设有卡槽314、该水平支撑板3122的上表面上设有凸筋(图上未示出)，凸筋和卡槽314相配。即，凸筋卡在卡槽314内，从而该水平支撑板3122旋转后带动该滚筒31旋转，且能够方便的将该滚筒31自该收集桶30内取出。另外：至少一渗液孔311最好配有滤芯3111以便于仅使流体通过而物料和磨料不可通过至少一渗液孔311。以上所述仅为本专利技术的优选实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水射流抛光设备，包括机架(10)，其特征在于：所述机架(10)上设有可旋转的滚筒(31)，该滚筒(31)上部开口、下部封闭，该机架(10)上设有和该滚筒(31)相配的端盖(23)，该端盖(23)上设有若干射流喷头(232)，射流喷头(232)的进口连接有用于输出预设压力流体的流体源，射流喷头(232)的喷口和该滚筒(31)的内腔相配。

【技术特征摘要】
1.一种水射流抛光设备，包括机架(10)，其特征在于：所述机架(10)上设有可旋转的滚筒(31)，该滚筒(31)上部开口、下部封闭，该机架(10)上设有和该滚筒(31)相配的端盖(23)，该端盖(23)上设有若干射流喷头(232)，射流喷头(232)的进口连接有用于输出预设压力流体的流体源，射流喷头(232)的喷口和该滚筒(31)的内腔相配。2.根据权利要求1所述的基于射流的表面处理设备，其特征在于：所述端盖(23)上设有磨料添加管(231)，磨料添加管(231)的上端连接有磨料斗(2311)，磨料添加管(231)的下端和该滚筒(31)的内腔相配。3.根据权利要求2所述的基于射流的表面处理设备，其特征在于：所述机架(10)上设有位于上方的面板(20)和位于下方的收集桶(30)，该收集桶(30)上部开口、下部封闭，同时，该面板(20)上设有向上延伸的导柱(21)，且该面板(20)中部开有通孔(22)，该端盖(23)滑动设置于该导柱(21)上，磨料添加管(231)的下端位于该端盖(23)的下方、射流喷头(232)的喷口位于该端盖(23)的下方，以及，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊红朝，程晓民，施飞，
申请(专利权)人：宁波工程学院，
类型：发明
国别省市：浙江,33