The invention relates to the use of mobile focus structure and a method of direct focusing imaging laser lithography, including exposure imaging platform and is located on the road just above the light exposure imaging platform; also includes a drive platform lifting mechanism exposure imaging platform vertically, the platform lifting mechanism driving exposure imaging platform vertically. Can make in the exposure surface in exposure imaging focal optical imaging platform PCB board. The invention realizes the lifting of the whole exposure imaging platform through the platform lifting mechanism, so that the exposure imaging platform PCB is located in the upper surface of the plate exposure imaging focal plane optical path, compared with the current focus, simplify the exposure optical structure way, enhance the stability of optical motion, but also simplifies the the exposure of mechanical structure of optical path, reduce the difficulty of mechanical installation, simplifies the steps of focusing lens exposure imaging, safe and reliable.
【技术实现步骤摘要】
激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法
本专利技术涉及一种移动聚焦结构及聚焦方法,尤其是一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法,属于激光直接成像曝光机的
技术介绍
生产PCB板的激光直接成像曝光机(LDI),是在不同厚度的PCB板上进行成像曝光的。要实现LDI的曝光光路的清晰成像,需要给LDI的曝光光路增加可以聚焦的能力。传统的聚焦是通过光路结构来实现的,例如增加聚焦棱镜等,传统的聚焦方法增加了光路的透镜组的数量,降低了光路运动时的稳定性。聚焦透镜的安装机械件使光路附近的机械结构复杂,增加了机械安装难度。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法,其能有效减少曝光光路透镜组的数量,简化曝光光路,提高光路运动的稳定性,降低安装难度,确保聚焦的稳定性,安全可靠。按照本专利技术提供的技术方案,所述激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,包括曝光成像平台以及位于所述曝光成像平台正上方的曝光光路;还包括用于驱动曝光成像平台竖直升降的平台升降机构,所述平台升降机构驱动曝光成像平台竖直升降时,能使得置于曝光成像平台上PCB板的上表面位于曝光光路的成像焦面上。所述曝光光路有且仅有成像镜筒。所述激光直接成像曝光机用移动聚焦方法,在曝光成型平台上设置用于驱动所述曝光成像平台竖直升降的平台升降机构;在曝光成像平台上放置所需的PCB板后,平台升降机构驱动曝光成像平台升降,直至曝光成像平台正上方曝光光路的成像焦面位于PCB板的上表面。所述曝光光路有且仅有成像镜筒。本专利技术的优点:通过平台升降机构实现曝 ...
【技术保护点】
一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,包括曝光成像平台(3)以及位于所述曝光成像平台(3)正上方的曝光光路(1);其特征是:还包括用于驱动曝光成像平台(3)竖直升降的平台升降机构(4),所述平台升降机构(4)驱动曝光成像平台(3)竖直升降时,能使得置于曝光成像平台(3)上PCB板(2)的上表面位于曝光光路(1)的成像焦面上。
【技术特征摘要】
1.一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,包括曝光成像平台(3)以及位于所述曝光成像平台(3)正上方的曝光光路(1);其特征是:还包括用于驱动曝光成像平台(3)竖直升降的平台升降机构(4),所述平台升降机构(4)驱动曝光成像平台(3)竖直升降时,能使得置于曝光成像平台(3)上PCB板(2)的上表面位于曝光光路(1)的成像焦面上。2.根据权利要求1所述的激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,其特征是:所述曝光光路(1)有且仅有...
【专利技术属性】
技术研发人员:李显杰,
申请(专利权)人:无锡影速半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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