测定装置和补充方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供测定装置和补充方法，即使处在规定时间以上的待机状态下，也能够抑制来自内部液体或校准液的结晶析出导致的流道堵塞。测定装置(100)具备测定电极(21)和参比电极(22)，根据所述测定电极(21)和所述参比电极(22)之间产生的电位差测定试样的特性值，测定装置(100)能够处于测定所述试样的特性值的测定状态和不进行测定的待机状态的两种状态，并具备补充所述校准液或用于参比电极的内部液体的补充机构(8)，所述补充机构(8)在所述待机状态下连续性或间歇地补充所述校准液或所述内部液体。

Measuring device and replenishing method

The present invention provides a measuring device and a supplemental method for blocking a flow channel resulting from the crystallization of an internal liquid or a calibration liquid even in a standby state above a predetermined time. Measuring device (100) having a measurement electrode and a reference electrode (21) (22), according to the measuring electrode (21) and the reference electrode (22) potentials generated between the differential characteristics of the sample value measuring device (100) can be measured in the sample determination of state characteristic value and not by the standby state of the two states, and has added the calibration solution or for reference electrode of the internal liquid supplement mechanism (8), the supplement mechanism (8) or intermittently supplement the calibration liquid or the internal liquid in the standby state.

【技术实现步骤摘要】
测定装置和补充方法
本专利技术涉及例如用于pH测定装置等的测定装置。
技术介绍
例如，已为公众所知的有，在通过玻璃电极和参比电极对储存在容器中的试样的pH进行测定的测定装置中，在测定试样的pH的测定状态、使用pH已知的校准液对玻璃电极和参比电极之间产生的电位差与测定值的关系进行修正的校准状态下，由于参比电极的内部液体从设置于参比电极的液接部一点一点地流出而减少，因此为了补充内部液体，从补充口适当补充内部液体。(专利文献1)例如，在通过取样机构等连续地取入试样并测定其pH的测定装置的情况下，参比电极的内部液体通过液接部与不断流过来的试样接触并发生扩散，参比电极的内部液体变稀薄或者内部液体从液接部流出，因此在测定状态下需要连续或定期地补充内部液体。此外，为了连续地持续进行准确的测定，不仅在测定开始时，而且每隔规定的期间都需要使用校准液对测定值进行校准，因此需要在连续测定试样期间定期送入校准液。另一方面，认为在不进行测定或校准的待机状态下，只要在下次的测定开始时补充内部液体就足够了，不担心内部液体量的变化。此外，例如在取得微量的试样并连续地测定其pH的测定装置中，特别是在待机状态下试样的流动停止，在流道内仅残留微量的试样，所以相比于试样总是流动的测定状态，认为待机状态下不易发生内部液体的扩散。基于这些理由，在以往的连续测定型的测定装置中，未考虑在待机状态下补充内部液体。此外，关于校准液，由于在不进行校准的待机状态下不被使用，所以以往不考虑在待机状态下补充校准液。可是本专利技术人首次发现了，如果将所述连续测定型的测定装置在待机状态下放置规定时间以上，则存在下述问题：在用于在测定状态或校准状态下补充内部液体或校准液而设置的流道内发生校准液或内部液体的蒸发，结晶从所述的内部液体或校准液析出并堵塞流道。现有技术专利文献1：日本专利公开公报特开2004-212174号
技术实现思路
本专利技术是鉴于所述的问题而做出的专利技术，本专利技术的目的是提供即使在待机状态下放置规定时间以上，也能够抑制由于从内部液体或校准液析出结晶而导致流道堵塞的测定装置。即，本专利技术提供一种测定装置，其具备测定电极和参比电极，根据所述测定电极和所述参比电极之间产生的电位差，测定试样的特性值，所述测定装置的特征在于，所述测定装置能够处于测定所述试样的特性值的测定状态和不进行测定的待机状态的两种状态，所述测定装置还具备补充机构，所述补充机构在所述待机状态下连续或间歇地补充校准液或内部液体。按照这样的测定装置，由于即使在所述待机状态下也通过补充机构连续或间歇地补充内部液体或校准液，因此能够抑制内部液体或校准液停留在流道内并结晶化，从而能够抑制流道的堵塞。可是，在以往的测定装置中，尽管是液密状态但是不是气密性空间的、参比电极内的内部空间，由于在液接部与外部空气接触等理由而存在有即使在待机状态下水分也从内部液体蒸发的可能性。因此，如果是下述的测定装置：所述校准液流过的校准液补充流道和所述内部液体流过的内部液体流道密闭，所述流道的内部处于被液体充满的状态的测定装置，则即使在待机状态下，也不会因水分蒸发使内部液体和校准液减少，无需补充内部液体和校准液。可是，本专利技术人发现，即使是流道被密封且其内部被液体充满的测定装置，如果规定时间以上处于待机状态，则也会从流道内的内部液体和校准液析出由水分蒸发引起的结晶，从而堵塞流道。另外，本专利技术人通过后述的试验，确认到水分也从例如流道的表面蒸发。这样，如果发生水分从密闭的流道的表面蒸发，则在测定装置在规定时间以上处于待机状态的情况下，水分从停留在流道内的一部分的校准液和内部液体持续蒸发，存在结晶析出而导致流道堵塞的可能性。关于这一点，按照本专利技术的测定装置，由于流道内含有液体，如果在待机状态下连续或间歇地补充内部液体或校准液，则能够可靠地使内部液体和校准液在流道内移动，能够抑制水分从流道的表面蒸发导致的局部浓度的上升，从而能够抑制校准液或内部液体的结晶化。如果是所述校准液补充流道和所述内部液体流道的全部或一部分为毛细管状的测定装置，则由于水分从流道的表面蒸发对流道内的校准液和内部液体造成的影响较大，所以能够显著发挥抑制校准液和内部液体的结晶化导致堵塞的效果。由于相比于在测定状态和校准状态下供给和补充需要的校准液和内部液体的量，在待机状态下从流道的表面等蒸发的内部液体和校准液的量少，所以如果在待机状态下补充的所述校准液或内部液体的液体量，比在所述测定状态或校准状态下相同时间带中补充的所述校准液或内部液体的液体量少，则可以将校准液和内部液体的使用量控制为恰当的量。如果是在所述待机状态下在规定期间内补充在所述规定期间内蒸发的水分量以上的量的所述校准液或内部液体的测定装置，则在待机状态下，能够补充用于抑制内部液体和校准液的结晶的析出的、恰当的量的校准液和内部液体。如果是在所述待机状态下至少1日1次补充规定量的所述校准液或所述内部液体的测定装置，则能够有效地抑制校准液和内部液体的结晶化，从而能够抑制流道的堵塞。此外，本专利技术还提供一种校准液或用于参比电极的内部液体的补充方法，其是向测定装置补充所述校准液或用于参比电极的内部液体的方法，所述测定装置具备测定电极和所述参比电极，根据所述测定电极和所述参比电极之间产生的电位差，测定试样的特性值，所述测定装置能够处于测定所述试样的特性值的测定状态和不进行测定的待机状态的两种状态，所述测定装置还具备补充机构，所述补充机构在所述待机状态下连续或间歇地补充所述校准液或所述内部液体，所述方法包括下述工序：在所述待机状态下，使所述补充机构向所述测定装置连续或间歇地补充所述校准液或用于参比电极的内部液体。按照所述的测定装置，由于即使在所述待机状态下也通过补充机构连续或间歇地补充内部液体或校准液，所以能够抑制内部液体或校准液停留在流道内发生结晶化，从而能够抑制流道的堵塞。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的测定装置的整体示意图。图2是表示同实施方式的参比电极的剖视图。图3是与同实施方式的测定装置的动作决定有关的框图。图4是另一实施方式的测定装置的整体示意图。附图标记说明测定装置…100测定电极…21参比电极…22补充机构…8取样流道…11校准液补充流道…822内部液体流道…9具体实施方式以下，参照附图说明本专利技术的一个实施方式。本实施方式的测定装置100是通过连接而组装入半导体制造装置的装置，例如用于测定用于半导体制造工序的药液等的pH，例如用于测定布线工序的清洗液、Cu镀液、加工布线等的蚀刻液、用于CMP(化学机械研磨)等的药液等(以下也称为“测定液”)的pH。如图1或图4所示，所述测定装置100与测定液流过的主流道(未图示)连接，包括：取样机构1，对测定液的一部分进行取样；以及pH测定仪2，测定采集到的测定液的pH。所述取样机构1具备：取样流道11，与所述主流道连通；以及流通控制机构12，控制向所述取样流道11导入作为测定试样的测定液等。取样流道11是被采集到的测定液或所述校准液流通的流道，由针对所述测定液具有抗腐蚀性的配管构件形成，是呈毛细管状的非常细的构件。在此，所谓的毛细管状是指管的内径约5mm以下，更优选的是3mm以下，并且管的长度是所述内径的约5倍以上。所述流通控制机构12具备：取样泵121，设置在所述取样流本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测定装置，其具备测定电极和参比电极，根据所述测定电极和所述参比电极之间产生的电位差，测定试样的特性值，所述测定装置的特征在于，所述测定装置能够处于测定所述试样的特性值的测定状态和不进行测定的待机状态的两种状态，所述测定装置还具备补充机构，所述补充机构在所述待机状态下连续或间歇地补充校准液或内部液体。

【技术特征摘要】
2015.12.14 JP 2015-2435821.一种测定装置，其具备测定电极和参比电极，根据所述测定电极和所述参比电极之间产生的电位差，测定试样的特性值，所述测定装置的特征在于，所述测定装置能够处于测定所述试样的特性值的测定状态和不进行测定的待机状态的两种状态，所述测定装置还具备补充机构，所述补充机构在所述待机状态下连续或间歇地补充校准液或内部液体。2.根据权利要求1所述的测定装置，其特征在于，所述校准液流过的校准液补充流道和所述内部液体流过的内部液体流道的内部处于含有液体的状态。3.根据权利要求1所述的测定装置，其特征在于，所述校准液流过的校准液补充流道和所述内部液体流过的内部液体流道的全部或一部分为毛细管状。4.根据权利要求1所述的测定装置，其特征在于，在所述待机状态下在规定期间内补充的所述校准液或所述内部液体的液体量，比在所述测定状态下在所述规定期间内补充的...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫村和宏，中井阳子，
申请(专利权)人：株式会社堀场制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP