气浮导轨的表面处理方法技术

本发明专利技术的气浮导轨的表面处理方法，包括将气浮导轨置于等离子体反应腔；调节所述等离子体反应腔内的压强至第一值；向所述等离子体反应腔通入氧气及氩气；控制所述等离子体反应腔的阳极射频频率为50～100KHz，阴极射频频率为20～30MHz，以实现第一次辉光放电。本发明专利技术能高效清洗气浮导轨表面的有机残留物，从而保证表面光滑洁净，降低摩擦力，以提高工作稳定性及精密度并延长使用寿命。

Surface treatment method of air floatation guide rail

The surface treatment method of the invention of the air guide, including the air guide in a plasma reaction chamber; regulating the plasma reaction chamber of the pressure to the first value; oxygen and argon to the plasma reaction chamber; the anode RF frequency to control the plasma reaction chamber is 50 ~ 100KHz, the cathode RF frequency is 20 ~ 30MHz, to achieve the first glow discharge. The invention can efficiently clean the organic residue on the surface of the air floating guide rail, thereby ensuring the surface to be smooth and clean, and reducing the friction force, so as to improve the work stability and precision, and prolong the service life.

【技术实现步骤摘要】
气浮导轨的表面处理方法
本专利技术涉及气浮导轨领域，尤其涉及一种气浮导轨的表面处理方法。
技术介绍
气浮导轨基于气体动静压效应实现无摩擦和无振动的平滑移动，其具有运动精度高、清洁无污染等特点。因其误差均化作用，可用比较低的制造精度来获得较高的导向精度，通常与伺服驱动，传感器组成闭环系统，实现高精度位移定位。因此，目前气浮导轨在测量仪器、精密机械如数控机床中得到广泛应用。而气浮导轨的精密度与其清洁度息息相关，为了保证精密度，定期清洗显得十分重要。传统的气浮导轨的表面清洗方法是将清洗液加入水池，利用超声波振动来清洗气浮导轨，此法可有效提高气浮导轨的清洁度。然而，经清洗后的气浮导轨表面会存在清洗液残留(往往是有机物残留)，这些有机物残留会带来高速轴承的振动、噪声、异响，从而降低工作稳定性，降低机械如数控设备的精密度，缩短使用寿命。故此，亟需一种改进的处理方法以克服上述的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种气浮导轨的表面处理方法，其能高效清洗气浮导轨表面的有机残留物，从而保证表面光滑洁净，降低摩擦力，以提高工作稳定性及精密度并延长使用寿命。为实现上述目的，本专利技术的气浮导轨的表面处理方法，包括：将气浮导轨置于等离子体反应腔；调节所述等离子体反应腔内的压强至第一值；向所述等离子体反应腔通入氧气及氩气；控制所述等离子体反应腔的阳极射频频率为50～100KHz，阴极射频频率为20～30MHz，以实现第一次辉光放电。与现有技术相比，本专利技术的气浮导轨表面处理方法，通过给等离子体反应腔内的阴阳电极施加高频高压，从而发生辉光放电，生成的氩等离子体、氧等离子体轰击气浮导轨的表面，从而使气浮导轨表面的有机污物脱落、氧化、分解，进而保证表面光滑洁净，降低摩擦力，以提高工作稳定性及精密度并延长使用寿命。较佳地，控制所述第一次辉光放电的时间为600～700秒。较佳地，所述第一值为400～500pa。较佳地，所述氧气的流量为50～100sccm。较佳地，所述氩气的流量为400～500sccm。作为一个优选实施例，还包括第二次辉光放电，具体包括：调节所述等离子体反应腔内的压强至第二值，所述第二值大于所述第一值；向所述等离子体反应腔通入氧气及氩气，所述氧气及所述氩气的流量均小于所述第一次辉光放电时的流量；控制所述等离子体反应腔的阳极射频频率为10～15MHz，阴极射频频率为2～5GHz。较佳地，所述第二次辉光放电中所述氧气的流量为40～60sccm，所述氩气的流量为300～350sccm。较佳地，控制所述第二次辉光放电的时间为600～700秒。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术气浮导轨的表面处理方法作进一步说明，但不因此限制本专利技术。本专利技术的气浮导轨的表面处理方法在气浮导轨经过清洗(例如超声波振动清洗)后进行，可有效去除表面的有机物残留并提高工作稳定性。本专利技术的一个优选实施例包括两次辉光放电处理，第一次辉光放电处理目的是清除表面残留的有机物，第二次辉光放电处理目的是降低气浮导轨表面的粗糙度以提高工作稳定性。具体地，第一次辉光放电包括以下步骤：将气浮导轨置于等离子体反应腔；调节等离子体反应腔内的压强至第一值；向等离子体反应腔通入氧气及氩气；控制等离子体反应腔的阳极射频频率为50～100KHz，阴极射频频率为20～30MHz。具体地，通过连接真空泵调节等离子体反应腔内的压强至400～500pa，例如当真空度在450pa时通入氩气和氧气，其中氧气的流量为50～100sccm，氩气的流量为400～500sccm。继而控制等离子体反应腔的阳极射频频率为50～100KHz，例如80KHz为佳，阴极射频频率为20～30MHz，例如27.12MHz为佳。保持射频辉光时间为600～700秒。由此，经过第一次射频辉光放电处理的气浮导轨，其表面的有机物可被氧化、分解从而脱落。第二次辉光放电包括以下步骤：调节等离子体反应腔内的压强至第二值，所述第二值大于所述第一值；向等离子体反应腔通入氧气及氩气，所述氧气及所述氩气的流量均小于所述第一次辉光放电时的流量；控制所述等离子体反应腔的阳极射频频率为10～15MHz，阴极射频频率为2～5GHz。具体地，调节反应腔的真空度在800pa，并减小氧气及氩气的流量，其中氧气的流量为40～60sccm，氩气的流量为300～350sccm。在本实施例中，阳极射频频率为13.56MHz，阳极射频频率为2.45GHz。保持射频辉光时间为600～700秒。气浮导轨的表面经过第二次射频辉光放电处理后，变得更加光滑洁净，摩擦力减少，从而提高工作稳定性。综上，本专利技术的气浮导轨表面处理方法，通过给等离子体反应腔内的阴阳电极施加高频高压，从而发生辉光放电，生成的氩等离子体、氧等离子体轰击气浮导轨的表面，从而使气浮导轨表面的有机污物脱落、氧化、分解，进而保证表面光滑洁净，降低摩擦力，以提高工作稳定性及精密度并延长使用寿命。以上所揭露的仅为本专利技术的较佳实施例而已，当然不能以此来限定本专利技术之权利范围，因此依本专利技术申请专利范围所作的等同变化，仍属本专利技术所涵盖的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气浮导轨的表面处理方法，包括：将气浮导轨置于等离子体反应腔；调节所述等离子体反应腔内的压强至第一值；向所述等离子体反应腔通入氧气及氩气；控制所述等离子体反应腔的阳极射频频率为50～100KHz，阴极射频频率为20～30MHz，以实现第一次辉光放电。

【技术特征摘要】
1.一种气浮导轨的表面处理方法，包括：将气浮导轨置于等离子体反应腔；调节所述等离子体反应腔内的压强至第一值；向所述等离子体反应腔通入氧气及氩气；控制所述等离子体反应腔的阳极射频频率为50～100KHz，阴极射频频率为20～30MHz，以实现第一次辉光放电。2.如权利要求1所述的气浮导轨的表面处理方法，其特征在于：控制所述第一次辉光放电的时间为600～700秒。3.如权利要求1所述的气浮导轨的表面处理方法，其特征在于：所述第一值为400～500pa。4.如权利要求1所述的气浮导轨的表面处理方法，其特征在于：所述氧气的流量为50～100sccm。5.如权利要求1所述的气浮导轨的表面处理方法，其特征在于：所述氩气的流量为4...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘向东，
申请(专利权)人：东莞新科技术研究开发有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44