在光学器件中使用的含苯并三唑的新聚合物制造技术

技术编号:1573652 阅读:186 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及含苯并三唑重复单元的聚合物。含本发明专利技术聚合物的光学器件在色纯度、器件效率和/或使用寿命上可以表现出显著的优点。此外,所述聚合物具有良好的溶解度特性以及相对高的玻璃转化温度,这有助于将它们制备成相对薄的、热稳定的和相对没有缺陷的涂层和薄膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含苯并三唑重复单元的新聚合物,以及它们在光学器件如含场致发光器件或光电器件中的用途。聚(对亚苯基亚乙烯基)衍生物已知有时可用作场致发光(EL)材料(如参见WO90/13148)。WO98/11150公开了式 的三嗪聚合物以及它们在场致发光(EL)排列中的用途。WO 00/46321和US-B-6,512,083涉及含芴聚合物以及它们在EL排列中的用途。WO01/49768公开了包含三亚芳基重复单元的发光聚合物,其包含通式 的三亚芳基,其是取代的或未取代的并且亚芳基重复单元--不同于三亚芳基重复单元,其中X”和Y”每个独立地是O、S、CR、SiR或NR并且每个R独立地是烷基、芳基或H。WO97/12882涉及具有下面通式的苯并三唑聚合物 其用作紫外光稳定剂和金属螯合剂。WO97/12882的产物是4-羟苯乙酮苯并三唑和4-羟基苯基甲基甲醇苯并三唑的衍生物。WO 02/059121涉及具有下面通式的单体 其可以是取代的或未取代的其中X’和Y’是相同或不同的并且是能够进行链延长的活性基团;X是O、S、NR、RC-CR或RC=CR;Y是O、S、NR、RC-CR或RC=CR;R是H或取代基;以及Ar是取代或未取代的芳基或杂芳基。当它们的性能与现有技术相比时,有机EL显示器的引入面临诸多挑战。获得特定指南(即NTSC)所要求的准确色座标是成问题的。当与现有无机技术相比时,EL器件的使用寿命相对较低。此外,制备长寿命的纯蓝色材料是这个行业最大的难题。因此,本专利技术的目的是提供新的材料,当掺合到光学器件中时,其在色纯度、器件效率和/或使用寿命上表现出显著的优点。所述目的通过本专利技术的含苯并三唑重复单元的聚合物得以解决。包含本专利技术聚合物的光学器件在色纯度、器件效率和/或使用寿命上可以表现出显著的优点。此外,所述聚合物具有良好的溶解度特性以及相对高的玻璃转化温度,这有助于将它们制备成相对薄的、热稳定的和相对没有缺陷的涂层和薄膜。如果所述聚合物含有能够交联的端基,那么在所述薄膜或涂层形成后的这些基团的交联增加了其耐溶剂性,这在应用中是有利的,其中基于一种或多种溶剂的材料层沉积到其上。因此,本专利技术的聚合物应具有超过100℃的玻璃转变温度,尤其是应具有超过150℃的玻璃转变温度。本专利技术聚合物的重复单元包含苯并三唑骨架 其中苯并三唑的苯基可以以任何方式被取代,包括稠环体系。苯并三唑单体(或共聚单体)可以使聚合物产生主链或侧链结构,其两者都可以是共轭或非共轭的。本专利技术不局限于苯并三唑结构,其中与聚合物的一个连接是通过苯环或与其连接的基团,而另一个是通过附着于氮原子的取代基。其它结构可以存在,其中与聚合物链的两种连接是在苯环或与其连接的基团上,以及类似地,其中两种聚合物连接是在附着于氮原子的取代基上。此外,苯并三唑部分可以以侧链方式连接到聚合物上。苯并三唑骨架的例子是下式的基团 其中A21、A22、A23、A24、A11、A12、A13、A14、A15、A16、A17和A18互相独立地是H、卤素、SO3-、C1-C18烷基、被E取代和/或被D间断的C1-C18烷基、C6-C24芳基、C1-C18全氟烷基、被G取代的C6-C24芳基、C2-C20杂芳基、被G取代的C2-C20杂芳基、C2-C18链烯基、C2-C18炔基、C1-C18烷氧基、被E取代和/或被D间断的C1-C18烷氧基、C7-C25芳烷基或-CO-R28,其中E、D、G和R28如下所定义,或互相相邻的两个基团A11、A12、A13、A14、A15、A16、A17和A18是基团 或 其中A31、A32、A33、A34、A35、A36和A37互相独立地是H、卤素、SO3-、C1-C18烷基、被E取代和/或被D间断的C1-C18烷基、C1-C18全氟烷基、C6-C24芳基、被G取代的C6-C24芳基、C2-C20杂芳基、被G取代的C2-C20杂芳基、C2-C18链烯基、C2-C18炔基、C1-C18烷氧基、被E取代和/或被D间断的C1-C18烷氧基、C7-C25芳烷基或-CO-R28,以及高达2个取代基A21、A22、A23、A24、A11、A12、A13、A14、A15、A16、A17、A18、A31、A32、A33、A34、A35、A36和A37可以表示与聚合物的连接。在此所使用的术语“本专利技术的聚合物”是指具有式I包括式Ia-Id、式II包括式IIa-IIg、式III和/或式IV包括式IVa-IVc的重复单元的聚合物。因此,本专利技术涉及包含下式重复单元的聚合物或 其中x和y是0或1,X1和X2互相独立地是二价连接基,Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7和Ar8互相独立地是可以任选被取代的芳基或杂芳基,尤其是可以任选被取代的C6-C30芳基或C2-C26杂芳基。在式IV的重复单元中,x和y中的至少一个是1。如果x和y两个都是1,得到式 的重复单元,其可以被看作以0.01-3%存在的“交联结构”。然而,式 和 的重复单元是优选的。在式I的重复单元当中,式 或 的重复单元是优选的,其中Ar2如上所定义,R1和R2互相独立地是H、卤素、SO3-、C1-C18烷基、被E取代和/或被D间断的C1-C18烷基、C1-C18全氟烷基、C6-C24芳基、被G取代的C6-C24芳基、C2-C20杂芳基、被G取代的C2-C20杂芳基、C2-C18链烯基、C2-C18炔基、C1-C18烷氧基、被E取代和/或被D间断的C1-C18烷氧基、C7-C25芳烷基或-CO-R28,或两个互相相邻的取代基R1和R2是基团 或 D是-CO-、-COO-、-S-、-SO-、-SO2-、-O-、-NR25-、-SiR30R31-、-POR32-、-CR23=CR24-或-C≡C-;以及E是-OR29、-SR29、-NR25R26、-COR28、-COOR27、-CONR25R26、-CN、-OCOOR27或卤素;G是E或C1-C18烷基,其中R23、R24、R25和R26相互独立地是H、C6-C18芳基、被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基、C1-C18烷基或被-O-间断的C1-C18烷基;或R25和R26一起形成5或6元环,特别是 或 R27和R28相互独立地是H、C6-C18芳基、被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基、C1-C18烷基或被-O-间断的C1-C18烷基;R29是H、C6-C18芳基、被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基、C1-C18烷基或被-O-间断的C1-C18烷基;R30和R31互相独立地是C1-C18烷基、C6-C18芳基或被C1-C18烷基取代的C6-C18芳基,以及R32是C1-C18烷基、C6-C18芳基或被C1-C18烷基取代的C6-C18芳基。优选地,R1和R2互相独立地是H、C1-C18烷基,例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或仲丁基,或C6-C24芳基如苯基、萘基或联苯基。D优选是-CO-、-COO-、-S-、-SO-、-SO2-、-O-、-NR25-,其中R25是C1-C18烷基,例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或仲丁基,或C6-C2本文档来自技高网...

【技术保护点】
包含下式重复单元的聚合物***其中x和y相互独立地是0或1,X↑[1]和X↑[2]互相独立地是二价连接基,Ar↑[1]、Ar↑[2]、Ar↑[3]、Ar↑[4]、Ar↑[5]、Ar↑[6]、Ar↑[7]和Ar↑[8]互相独立地是可以任选被取代的芳基或杂芳基,尤其是可以任选被取代的C↓[6]-C↓[30]芳基或C↓[2]-C↓[26]杂芳基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:J罗杰斯MR克雷格T谢菲尔
申请(专利权)人:西巴特殊化学品控股有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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