电浆蚀刻设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种电浆蚀刻设备，包括上电极部、与上电极部相对间隔设置的下电极部；所述下电极部包括电极板、设于所述电极板上并覆盖所述电极板的阳极膜、并列且相互间隔设于所述阳极膜上的两吸附平台单元、及设在所述阳极膜上并包围每一吸附平台单元四周边缘的屏蔽环；能够同时对两片基板进行处理，从而使用该电浆蚀刻设备，与采用现有技术相比在相同的产能下，能够减少产线设备数量，提高厂房空间的利用率。

【技术实现步骤摘要】
电浆蚀刻设备
本技术涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种电浆蚀刻设备。
技术介绍
随着信息社会的发展，人们对显示设备的需求得到了增长，因而也推动了液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)、以及有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示器行业的快速发展。不论是LCD、还是OLED显示器，均包括一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)。蚀刻制程是制造TFT阵列基板过程中的一个重要制程。蚀刻工艺根据蚀刻剂的物理状态分为干蚀刻工艺和湿蚀刻工艺，其中干蚀刻工艺是在在电浆蚀刻机台中通过激发或解离蚀刻气体分子得到等离子体，利用等离子体做成射频(RadioFrequency，RF)电浆轰击薄膜进行蚀刻的技术。如图1所示，传统的电浆蚀刻机台包括，上电极部100、与上电极部100相对间隔设置的下电极部200、设于下电极部200下方的冷却板(未图示)、及与上电极部100、下电极部200相连的电源(未图示)，其中，所述下电极部200包括电极板210、覆盖所述电极板210的阳极膜220、及设于所述阳极膜220上的吸附平台230。其中，所述电极板210通过在四周边缘上设置镙钉而固定于其下方的冷却板上；所述上电极部100与下电极部200之间形成高压电场，驱动电浆对固定在吸附平台230上的晶元或基板进行轰击，以达到蚀刻的目的。若电极板210和固定晶元或基板的吸附平台230尺寸一样大小，则会导致待蚀刻晶元或基板的边缘上方的电浆能量减少，导致对晶元或基板的蚀刻不均匀。为解决上述问题，通常在电浆蚀刻设备中，电极板210的尺寸要大于吸附平台230的尺寸。这种情况下，为了抵挡电浆轰击电极板200、及铺在电极板200上的阳极膜220，防止电流直接穿透至阳极膜220及电极板210引发的异常放电与停机，图1所示的电浆蚀刻设备中还设置了包围吸附平台230四周边缘的屏蔽环(ShieldRing)240，该屏蔽环240的材料通常采用绝缘的陶瓷材料。另外，随着智慧型手机的普及，使得以触控为操作界面的相关技术蓬勃发展。其中，投射电容式触控面板(ProjectedCapacitiveTouchPanel，PCTP)由于具有轻、薄、防干扰的特性，以及能够实现真实多点触控的使用效果，已成为现有触控面板的主流。由于电容式触控面板在制作时必须在很细的边缘区中设置边缘走线，为了维持触控面板边缘走线良好的可靠性并避免相邻线路相接触而发生短路导致使用时产生信号干扰或信号错误的情形，现有设置边缘走线的方式也开始采用电浆蚀刻机台在触控面板的边缘区形成所规划的线路。目前，在实际面板生产工艺中，所采用的电浆蚀刻机台通常是对应于尺寸规格较大的第6世代(G6)面板产品而设置的，即电浆蚀刻机台的吸附平台230与G6产品的尺寸相适应，从而对于尺寸规格小于G6的产品，同样可使用该电浆蚀刻机台进行生产，例如尺寸规格为G6对半规格的G4.5触控产品，然而利用大规格的电浆蚀刻机台同样也只能每次对一片小规格的产品进行处理，这就造成设备的浪费，厂房空间的利用率降低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种电浆蚀刻设备，具有两并列的吸附平台单元，能够同时对两片基板进行处理，从而使用该电浆蚀刻设备，能够减少产线设备数量，提高厂房空间的利用率。为实现上述目的，本技术提供一种电浆蚀刻设备，包括上电极部、及与所述上电极部相对间隔设置的下电极部；所述下电极部包括电极板、设于所述电极板上并覆盖所述电极板的阳极膜、并列且相互间隔设于所述阳极膜上的两吸附平台单元、及设在所述阳极膜上并包围每一吸附平台单元四周边缘的屏蔽环。所述电极板包括并列设置的两电极板单元，所述两吸附平台单元分别对应设于所述两电极板单元的上方。所述两电极板单元并列且相互接触设置。所述的电浆蚀刻设备，还包括设于所述下电极部下方的冷却板。对应每一吸附平台单元的外侧，相应的电极板单元的四周边缘上及其上方的阳极膜上设有数个镙孔，每一电极板单元通过对应穿过所述数个镙孔的数个镙钉而固定于所述冷却板上；所述屏蔽环完全覆盖对应每一电极板单元的数个镙钉。所述吸附平台单元的材料为氧化铝。所述屏蔽环的材料为绝缘陶瓷材料。所述两吸附平台单元的尺寸及形状相同。所述的电浆蚀刻设备，还包括与所述上电极部、下电极部相连的电源。所述的电浆蚀刻设备，用于触控面板边缘走线的制作。本技术的有益效果：本技术的电浆蚀刻设备，包括上电极部、与上电极部相对间隔设置的下电极部；所述下电极部包括电极板、设于所述电极板上并覆盖所述电极板的阳极膜、并列且相互间隔设于所述阳极膜上的两吸附平台单元、及设在所述阳极膜上并包围每一吸附平台单元四周边缘的屏蔽环；能够同时对两片基板进行处理，从而使用该电浆蚀刻设备，与采用现有技术相比，在相同的产能下，能够减少产线设备数量，提高厂房空间的利用率。附图说明为了能更进一步了解本技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本技术加以限制。附图中，图1为现有的电浆蚀刻设备的结构示意图；图2为本技术的电浆蚀刻设备的结构示意图；图3为本技术的电浆蚀刻设备中阳极膜与两吸附平台单元的俯视示意图。具体实施方式为更进一步阐述本技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图2，本技术提供一种电浆蚀刻设备，包括上电极部10、与上电极部10相对间隔设置的下电极部20、设于所述下电极部20下方的冷却板(未图示)、及与所述上电极部10、下电极部20相连的电源(未图示)；所述下电极部20包括电极板21、设于所述电极板21上并覆盖所述电极板21的阳极膜22、并列且相互间隔设于所述阳极膜22上的两吸附平台单元231、及设在所述阳极膜22上并包围每一吸附平台单元231四周边缘的屏蔽环24。具体地，所述上电极部10、下电极部20连接电源，二者之间形成高压电场，驱动电浆对固定在吸附平台单元231上的基板进行轰击。具体地，所述电极板21包括并列且相互接触设置的两电极板单元211，所述两吸附平台单元231分别对应设于两电极板单元211的上方。具体地，如图3所示，对应每一吸附平台单元231的外侧，相应的电极板单元211的四周边缘及其上方的阳极膜22上设有数个镙孔212，每一电极板单元211通过对应穿过所述数个镙孔212的数个镙钉而固定于所述冷却板30上。具体地，所述屏蔽环24完全覆盖对应每一电极板单元211的数个镙钉，从而避免能够导电的镙钉之间形成电弧(arcing)。具体地，所述吸附平台单元231的材料为氧化铝(Al2O3)。具体地，所述屏蔽环24的材料为绝缘陶瓷材料。具体地，所述两吸附平台单元231的尺寸及形状相同。具体地，本技术的电浆蚀刻设备用于触控面板边缘走线的制作。具体地，本技术的电浆蚀刻设备，可以由现有的对应G6产品规格的电浆蚀刻机台通过切割后制得，其具体制作方法包括如下步骤：步骤1、将现有电浆蚀刻机台的下电极部的电极板进行切割，得到两个并列的电极板单元211。步骤2、在两个电极板单元211上进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电浆蚀刻设备，其特征在于，包括上电极部(10)、及与所述上电极部(10)相对间隔设置的下电极部(20)；所述下电极部(20)包括电极板(21)、设于所述电极板(21)上并覆盖所述电极板(21)的阳极膜(22)、并列且相互间隔设于所述阳极膜(22)上的两吸附平台单元(231)、及设在所述阳极膜(22)上并包围每一吸附平台单元(231)四周边缘的屏蔽环(24)。

【技术特征摘要】
1.一种电浆蚀刻设备，其特征在于，包括上电极部(10)、及与所述上电极部(10)相对间隔设置的下电极部(20)；所述下电极部(20)包括电极板(21)、设于所述电极板(21)上并覆盖所述电极板(21)的阳极膜(22)、并列且相互间隔设于所述阳极膜(22)上的两吸附平台单元(231)、及设在所述阳极膜(22)上并包围每一吸附平台单元(231)四周边缘的屏蔽环(24)。2.如权利要求1所述的电浆蚀刻设备，其特征在于，所述电极板(21)包括并列设置的两电极板单元(211)，所述两吸附平台单元(231)分别对应设于所述两电极板单元(211)的上方。3.如权利要求2所述的电浆蚀刻设备，其特征在于，所述两电极板单元(211)并列且相互接触设置。4.如权利要求2所述的电浆蚀刻设备，其特征在于，还包括设于所述下电极部(20)下方的冷却板。5.如权利要求4所述的电浆...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏彦荧，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42