The utility model relates to a novel cascade developing tank, belonging to the technical field of semiconductor wafer processing. The first tank, which comprises a bracket, second slot, third slot, recycling barrel and a liquid discharging valve, the bracket is ladder shaped, the first slot, second slot, third slot are fixed on the bracket first step, second step, third step, a liquid discharging valve are respectively arranged on each slot, and third slot discharge the liquid valve positioned in the second groove above the second tank liquid discharging valve located above the first groove, wherein the recycling barrel is placed in the liquid valve is arranged under the first groove. The utility model realizes the automatic replacement between the solution of the cascade developing tank, and improves the work efficiency and the qualified rate of the product.
【技术实现步骤摘要】
一种新型的串级显影槽
本技术涉及半导体晶圆加工
,尤其涉及一种新型的串级显影槽。
技术介绍
目前的半导体企业黄光工序的显影基本都是平行放置的二级或者三级的串级显影槽结构,显影作业时,为了提升产品的品质,反应片需要经过多次显影液处理。每次都是从第一槽开始,然后依次经第二槽、第三槽的显影液处理。这样第一槽溶液一般都会先脏,当累计反应片数到达一定的程度时,第一槽的溶液首先报废。然后下一槽溶液可以作为第一次又开始循环利用,这样的结构可以实现显影时溶液的循环利用,节约物料成本,并且由于循环利用而利于环保。然而现有的串级显影槽结构在实际操作时并不方便,以三级串级显影槽为例,由于每次当第一槽溶液报废时,下一槽溶液就会被当做首次溶液,用烧杯从第二个槽子人工舀到第一个槽子中,从第三个槽子中舀到第二个槽子中,操作及其不便,且在管理时,有时也会因为员工失误没有执行这样的操作,给材料的异常也带来一定的隐患,影响产品的合格率。
技术实现思路
针对现有技术中缺陷与不足的问题,本技术提出了一种新型的串级显影槽,实现了串级显影槽溶液间的自动替换,提升了工作效率和产品的合格率。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种新型的串级显影槽,包括支架、第一槽、第二槽、第三槽、回收桶和放液阀门,所述支架为阶梯形,第一槽、第二槽、第三槽依次固定在支架的第一阶梯、第二阶梯、第三阶梯上,每一槽上分别安装有放液阀门,且第三槽的放液阀门位于第二槽上方,第二槽的放液阀门位于第一槽上方,所述回收桶放置在第一槽的放液阀门下方。进一步的,所述第一槽、第二槽、第三槽材料为不锈钢。进一步的,所述第一槽、第二槽、第三槽均 ...
【技术保护点】
一种新型的串级显影槽,其特征在于:包括支架、第一槽、第二槽、第三槽、回收桶和放液阀门,所述支架为阶梯形,第一槽、第二槽、第三槽依次固定在支架的第一阶梯、第二阶梯、第三阶梯上,每一槽上分别安装有放液阀门,且第三槽的放液阀门位于第二槽上方,第二槽的放液阀门位于第一槽上方,所述回收桶放置在第一槽的放液阀门下方。
【技术特征摘要】
1.一种新型的串级显影槽,其特征在于:包括支架、第一槽、第二槽、第三槽、回收桶和放液阀门,所述支架为阶梯形,第一槽、第二槽、第三槽依次固定在支架的第一阶梯、第二阶梯、第三阶梯上,每一槽上分别安装有放液阀门,且第三槽的放液阀门位于第二槽上方,第二槽的放液阀门位于第一槽上方,所述回收桶放置在第一槽的放液阀门下方。2.根据权利要求1所述的一种新型的串级显影槽,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:汪良恩,汪曦凌,
申请(专利权)人:安徽安芯电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
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