一种电镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及电镀设备领域，具体的说是一种电镀装置，包括支座、处理容器、空心转轴、回收容器、电刷单元、阳极棒、储存箱、循环泵、电机和控制器，处理容器位于支座上方并通过空心转轴与支座相连接；回收容器用于回收处理容器排出的电镀液；电刷单元使处理容器与电源的负极相连；储存箱用于存放从空心转轴排出的电镀完成的镀件；循环泵用于循环利用电镀液；电机用于驱动空心转轴转动。本发明专利技术主要用于0.1‑5000微米的粉末体，超小型电容器、电阻器、二极管、连接器、弹簧开关、钉子、螺钉、螺母和垫圈等小零件的电镀，其能够提高小零件的电镀质量、提高处理容器的使用寿命、降低小零件的损坏率，以及提高本发明专利技术的安全使用性能。

Electroplating device

The present invention relates to the field of electroplating equipment, in particular to an electroplating device, comprising a support, container, container, hollow shaft, recovery unit, brush anode, storage tank, circulating pump, motor and controller, handle container is a support above and connected through the hollow shaft and the bearing; recycling containers for electroplating liquid recovery the processing vessel from the cathode unit; brush handle container and connected to the power supply; storage box for storage of electroplating plating discharged from the hollow shaft complete; circulating pump for recycling electroplating solution; motor for driving a hollow rotating shaft. The invention is mainly used for 0.1 5000 micron powder, electroplating ultra small capacitors, resistors, diodes, switches, connectors, spring nails, screws, nuts and washers and other small parts, which can improve the small parts of the electroplating quality, improve the service life of the container, reduce the damage rate and small parts. To improve the safety performance of the invention.

【技术实现步骤摘要】
一种电镀装置
本专利技术涉及电镀设备领域，具体的说是一种电镀装置。
技术介绍
公开号为101139732的一项中国专利，公开了一种小零件的电镀处理装置，该电镀装置利用垂直旋转轴使收容有小零件的处理容器旋转而使小零件接触电极环，并一边使电镀液从处理容器的内部向外部流通，一边从电极向处理容器内的电镀药水通电，从而对小零件进行电镀。处理容器具有使电镀液从处理容器的内部向外部流通的流出机构。在该装置中，作为流出机构利用的是均匀分布在绝缘底板上的厚度小于小零件的垫片。垫片垫在绝缘滤网和电极环之间，使电极环与绝缘底板之间形成缝隙，电镀液从缝隙中流出，而小零件仍然留在处理容器内。电镀工作结束后，通过提高垂直旋转轴的转速，将处理容器中的电镀液全部排出。在由垫片形成的流出机构中，存在以下问题：1.小零件的破损。一道电镀工序结束后，为了将处理容器中的电镀液全部排出，需要增加垂直转轴的转速来提高处理容器内电镀液的离心力，小零件与电极环之间的线速度增大。当电镀液将要排净时，小零件与电极环之间缺少了电镀液的润滑，小零件与电极环之间形成干摩擦，再加上线速度的增大，很容易引起小零件的破损。2.电镀不良品增多。垫片通过螺钉与绝缘底板还有电极环相连，螺钉拧紧扭力的不同，使得电极环与绝缘底板之间的间隙不一样，在旋转的过程中，易引起处理容器受力不均，从而导致绝缘底板的变形，进而造成绝缘底板与电极环之间的缝隙大小难以控制的情况；一些小零件易卡在缝隙中，无法完全电镀，或者电镀层不均匀，这样使得电镀的合格率下降。鉴于此，本专利技术提出了一种电镀装置，能够克服上述现有技术中的部分技术缺陷，具有较好的电镀效果，其具体有益效果如下：1.本专利技术所述的一种电镀装置，所述的上盖、底座与电极环之间绝缘设置，相对于现有技术，可提高本专利技术的安全性。2.本专利技术所述的一种电镀装置，所述的电极环上设置的挡板能够对电镀液和带镀件进行搅拌，使带镀件均匀受镀，电镀效果好；并且在排出电镀液时，挡板能够解决镀件与电极环之间摩擦的问题；所述的挡板为奇数个，在电镀的过程中使处理容器受力不平衡而产生振动，以实现待镀件的间断式电镀，镀件的镀层均匀，镀层效果好。3.本专利技术所述的一种电镀装置，在取出镀件时，无需将处理容器拆解，避免了反复拆解处理容器造成连接不紧密以及各零件之间受力不均的情况。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：本专利技术提供的一种电镀装置，主要用于0.1-5000微米的粉末体、超小型电容器、电阻器、二极管、连接器、弹簧开关、钉子、螺钉、螺母和垫圈等小型零件的电镀，其能够提高小零件的电镀质量、提高处理容器的使用寿命、降低小零件的损坏率，以及提高本专利技术的安全使用性能。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：本专利技术所述的一种电镀装置，包括支座、处理容器、空心转轴、回收容器、电刷单元、阳极棒、储存箱、循环泵、电机和控制器，所述的处理容器位于支座上方并通过空心转轴与支座相连接；所述的空心转轴通过推力轴承和深沟球轴承安装支座上，处理容器的电镀室与空心转轴相连通，电镀室内的镀件可通过空心转轴排出；所述的回收容器用于回收处理容器排出的电镀液；所述的电刷单元使处理容器与电源的负极相连；所述的阳极棒与电镀液相接触，阳极棒作为电镀的阳极；所述的储存箱用于存放从空心转轴排出的电镀完成的镀件；所述的循环泵用于循环利用电镀液，循环泵的进水口与回收容器相连，出水口与喷头相连，喷头位于处理容器上方并向处理容器内输入电镀液；所述的电机安装在支座上，电机通过带传动驱动空心转轴转动。所述的处理容器包括上盖、绝缘垫圈、电极环、绝缘底板、底座、连接螺栓和锥形塞，所述的上盖、绝缘垫圈、电极环、绝缘底板和锥形塞围成的一个开放式腔室为电镀室；所述的上盖、绝缘垫圈、电极环、绝缘底板和底座由上向下依次布置并通过连接螺栓连接；电极环沿圆周设置有漏斗状的排水孔，漏斗状的排水孔有利于电镀液的排出，排水孔内设有绝缘过滤网，绝缘过滤网用于过滤掉镀件，只让电镀液从排水孔排出；排水孔上安装有阀体，阀体用于控制电镀室中电镀液的排出，电镀室内的电镀液经阀体排出并流入到回收容器中；所述的绝缘底板的中部设置有排料孔，绝缘底板的底部呈漏斗状结构，这样有利于镀件的收集，排料孔与空心转轴相连通；所述的锥形塞塞在排料孔上，锥形塞可防止电镀液从排水孔漏出；所述的空心转轴垂直焊接在底座上。相对于现有技术，本专利技术的处理容器易于取出镀件。优选的，所述的电极环内侧设置有环形槽，环形槽的截面形状为圆弧形，环形槽可增大电极环接触镀件的数量，从而提高电镀效率，并且相对于现有技术中直壁式的电极环可防止镀件堆积在电极环的根部，从而造成大量不良品的产生；环形槽内设置有多个倾斜的圆弧形挡板，多个挡板向逆时针方向倾斜，电极环电镀时顺时针转动，挡板对电镀液和镀件具有一定的搅拌作用，使电镀液和镀件有一个起伏变化的过程，可防止单个镀件长时间与电极环接触而造成镀层不均匀的情况，以及避免出现电镀液分布不均匀的情况，电镀完成后排出电镀室内的电镀液时，电源断开，电极环逆时针转动，挡板对镀件有一个支撑作用，挡板抵住镀件，防止镀件与电极环之间形成干摩擦，电镀液从排水孔排出；多个挡板沿着电极环的圆周均匀布置，挡板的数量为奇数个，奇数个挡板可使处理容器在转动时受力不平衡，从而使处理容器在转动时产生轻微振动，进而使电极环与镀件之间形成间断式电镀，由于电镀液具有缓冲作用，电镀液可避免电极环碰坏镀件，所述的排水孔位于挡板的内侧根部，在电镀完成后排出电镀室内的电镀液时，电源断开，电极环逆时针转动，挡板对电镀液同样具有阻挡的作用，将排水孔设置在挡板的内侧根部，有利于电解液的排出。优选的，所述的阀体包括变量电磁阀、无线收发模块、控制芯片和锂电池；所述的变量电磁阀安装在排水孔上；所述的无线收发模块用于接收信号；所述的控制芯片用于对无线收发模块接收到的信号进行处理并控制变量电磁阀的开启与关闭；锂电池用于为变量电磁阀、无线收发模块和控制芯片供电。在进行电镀时，变量电磁阀小流量的将电镀液排出，可避免因大流量排出电镀液而造成镀件大量聚集在排水孔的情况，在电镀完成后，变量电磁阀大流量的将电镀液排出，可使电镀液快速排出。优选的，所述的上盖、电极环、绝缘底板和底座上均设置有铰制的光孔，光孔的直径等于连接螺栓的直径，可防止在转动情况下上盖、电极环、绝缘底板和底座产生错位，而造成镀件夹在连接的细缝处的情况，所述的连接螺栓为绝缘螺栓，连接螺栓与上盖和底座的连接处设有绝缘垫片，绝缘的连接螺栓可防止上盖和底座带电，相对于现有技术，提高了本专利技术的安全性。优选的，所述的电刷单元设置有多个，多个电刷单元沿处理容器外侧均匀布置；电刷单元包括推杆、电刷和绝缘层，所述的推杆固定在回收容器内壁，所述的电刷安装在推杆的顶部，电刷与推杆之间设有绝缘层，电刷与电极环相接触。多个电刷单元还可对旋转的处理容器进行支撑，以防止处理容器的振动过大而造成设备的损坏。优选的，所述的推杆为气动推杆，气动推杆能够根据处理容器的振动进行自适应调节，以适应处理容器的正常振动，保证电刷与电极环的良好接触，同时气动推杆能够对处理容器进行支撑，防止处理容器振动程度过大而造成损害；在电极环反向转动时，电源断开，气动推杆缩回，使电刷离开电极环，避免电刷与电极环之间的磨损。优选的，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电镀装置，包括支座(1)、处理容器(2)、空心转轴(3)、回收容器(4)、电刷单元(5)、阳极棒(6)、储存箱(7)、循环泵(8)、电机(9)和控制器，其特征在于：所述的处理容器(2)位于支座(1)上方并通过空心转轴(3)与支座(1)相连接，处理容器(2)的电镀室与空心转轴(3)相连通；所述的回收容器(4)用于回收处理容器(2)排出的电镀液；所述的电刷单元(5)用于使处理容器(2)与电源的负极相连；所述的阳极棒(6)与电镀液相接触；所述的储存箱(7)用于存放电镀完成的镀件；所述的循环泵(8)用于循环利用电镀液；所述的电机(9)安装在支座(1)上，电机(9)用于驱动空心转轴(3)转动；其中：所述的处理容器(2)包括上盖(21)、绝缘垫圈(22)、电极环(23)、绝缘底板(24)、底座(25)、连接螺栓(26)和锥形塞(28)，所述的上盖(21)、绝缘垫圈(22)、电极环(23)、绝缘底板(24)和底座(25)由上向下依次布置并通过连接螺栓(26)连接；电极环(23)沿圆周设置有漏斗状的排水孔，排水孔内设有绝缘过滤网(233)，排水孔上安装有阀体(234)，阀体(234)用于控制电镀室中电镀液的排出；所述的绝缘底板(24)的底部呈漏斗状结构，绝缘底板(24)的中部设置有排料孔，排料孔与空心转轴(3)相连通；所述的锥形塞(28)塞在排料孔上。...

【技术特征摘要】
1.一种电镀装置，包括支座(1)、处理容器(2)、空心转轴(3)、回收容器(4)、电刷单元(5)、阳极棒(6)、储存箱(7)、循环泵(8)、电机(9)和控制器，其特征在于：所述的处理容器(2)位于支座(1)上方并通过空心转轴(3)与支座(1)相连接，处理容器(2)的电镀室与空心转轴(3)相连通；所述的回收容器(4)用于回收处理容器(2)排出的电镀液；所述的电刷单元(5)用于使处理容器(2)与电源的负极相连；所述的阳极棒(6)与电镀液相接触；所述的储存箱(7)用于存放电镀完成的镀件；所述的循环泵(8)用于循环利用电镀液；所述的电机(9)安装在支座(1)上，电机(9)用于驱动空心转轴(3)转动；其中：所述的处理容器(2)包括上盖(21)、绝缘垫圈(22)、电极环(23)、绝缘底板(24)、底座(25)、连接螺栓(26)和锥形塞(28)，所述的上盖(21)、绝缘垫圈(22)、电极环(23)、绝缘底板(24)和底座(25)由上向下依次布置并通过连接螺栓(26)连接；电极环(23)沿圆周设置有漏斗状的排水孔，排水孔内设有绝缘过滤网(233)，排水孔上安装有阀体(234)，阀体(234)用于控制电镀室中电镀液的排出；所述的绝缘底板(24)的底部呈漏斗状结构，绝缘底板(24)的中部设置有排料孔，排料孔与空心转轴(3)相连通；所述的锥形塞(28)塞在排料孔上。2.根据权利要求1所述的一种电镀装置，其特征在于：所述的电极环(23)内侧设置有环形槽(231)，环形槽(231)的截面形状为圆弧形，环形槽(231)内设置有多个倾斜的圆弧形挡板(...

【专利技术属性】
技术研发人员：林春芳，葛晶云，陈青青，夏巧巧，
申请(专利权)人：林春芳，
类型：发明
国别省市：广东,44