本发明专利技术提供了一种QLED器件,包括第一电极、用于定义像素区域的隔离bank,设置在所述像素区域的光学层、以及覆盖所述隔离bank和所述光学层的第二电极,其中,所述隔离bank中含有高热导材料,所述高热导材料的热导率≥10WK
QLED device and method for making same
The invention provides a QLED device that includes a first electrode, a pixel area defined for the isolation of bank, which provided in the optical layer, the pixel region and a second electrode, covering the isolation of bank and the optical layer, the isolated bank contains a high thermal conductivity, high thermal conductivity and the thermal conductivity the rate of more than 10WK
【技术实现步骤摘要】
QLED器件及其制备方法
本专利技术属于显示
,尤其涉及一种QLED器件及其制备方法。
技术介绍
无机纳米晶的量子点发光材料不仅具有出射光颜色饱和、波长可调的优点,而且光致、电致发光量子产率高,适合制备高性能显示器件。此外,从制备工艺角度看,量子点发光材料可以在非真空条件下采用旋涂、印刷、打印设备等溶液加工方式制备成膜。所以,以量子点薄膜制备的量子点发光二极管(QLED)成为下一代显示技术的有力竞争者。通常的,QLED器件包括第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、电子注入层和第二电极。根据第一电极和第二电极的相对位置,即背电极和顶电极,QLED的结构可以分为传统和反型器件两周。其中,空穴注入层、空穴传输层用于从外电路向发光层提供可迁移空穴,电子传输层用于提供可迁移电子。电子-空穴在量子点中形成激子,激子通过辐射复合输出光子,进而发光。随着QLED器件运行中产生的光效率衰减,一个外量子效率大于10%的蓝光器件,在1000cdm-2输出亮度下随着电流效率的衰减以及驱动电压的升高,其发光区域的发热功率可超过200mWcm-2。热源主要可以来自非辐射复合、薄膜和界面电阻效应、未出射光再吸收等。喷墨打印是大规模制备QLED矩阵的有效方法之一。每一个喷出的墨滴须要被隔离装置(bank)限定在预设的区域内用以定义像素。隔离材料至少满足:可见波段内吸收系数低、电绝缘、适应光刻图案化处理、能通过表面处理调节表面能和对溶剂的浸润性等。通常使用的bank材料为聚酰亚胺(polyimide),其在室温下的热导率通常为0.1WK-1m-1。由于隔离材料在面板平面内占据不可忽略的面积,且在垂直面板方向贯穿整个厚度并直接接触两个电极,所以隔离材料在像素器件的散热过程中有很重要作用,使用热导率很低的材料不利于像素散热。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种QLED器件及其制备方法,旨在解决现有QLED器件,由于隔离bank材料散热效果不佳,影响QLED器件散热效率和工作寿命的问题。本专利技术是这样实现的,一种QLED器件,包括第一电极、用于定义像素区域的隔离bank,设置在所述像素区域的光学层、以及覆盖所述隔离bank和所述光学层的第二电极,其中,所述隔离bank中含有高热导材料,所述高热导材料的热导率≥10WK-1m-1。以及,一种QLED器件的制备方法,包括以下步骤:提供第一电极,在所述第一电极表面沉积bank材料层,其中,所述bank材料层含有高导热材料,所述高热导材料的热导率≥10WK-1m-1;将所述bank材料层依次进行光刻、抛光、表面处理,得到用于定义像素区域的隔离bank;在所述像素区域内沉积光学层,在所述隔离bank和所述光学层表面覆盖第二电极。本专利技术提供的QLED器件,采用热导率≥10WK-1m-1的高热导材料作为定义像素区域的隔离bank,提高了QLED像素区域的散热效率,降低了像素区域的工作温度,减缓发光器件发光效率的衰减,进而有利于提高QLED器件的寿命,特别是发光像素区域的寿命。本专利技术提供的QLED器件的制备方法,只需在现有的工艺基础上,在所述第一电极上沉积含有高导热材料的bank材料层,进一步依次进行光刻、抛光、表面处理,即可得到散热效率高、工作寿命长的QLED器件。本专利技术提供的QLED的制备方法,方法简单,可控性强。附图说明图1是本专利技术实施例提供的QLED器件的纵向剖面示意图;图2是本专利技术实施例提供的QLED器件的俯视图;图3是本专利技术实施例提供的QLED器件局部的像素矩阵图。具体实施方式为了使本专利技术要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。结合图1-图3,本专利技术实施例提供了一种QLED器件,包括第一电极1、用于定义像素区域3’的隔离bank2,设置在所述像素区域3’的光学层3、以及覆盖所述隔离bank2和所述光学层3的第二电极4,其中,所述隔离bank2中含有高热导材料,所述高热导材料的热导率≥10WK-1m-1。如图1所示,提供了本专利技术实施例所述QLED器件的纵向剖面示意图;如图2所示,提供了本专利技术实施例所述QLED器件的纵向剖面示意图,由如可见,所述隔离bank2形成在QLED区域的外围,用于界定QLED器件的像素区域3’;如图3所示,提供了本专利技术实施例所述QLED器件局部的纵向剖面示意图。本专利技术实施例提供的QLED器件,采用热导率≥10WK-1m-1的高热导材料作为定义像素区域3’的隔离bank2,提高了QLED像素区域3’的散热效率,降低了像素区域3’的工作温度。由于QLED器件发光效率的衰减随温度成指数变化,降低像素的工作温度可以提高显示器件的工作寿命。因此,采用热导率≥10WK-1m-1的高热导材料作为定义像素区域3’的隔离bank2,有利于提高QLED器件的寿命。本专利技术实施例中,所述隔离bank2定义出来的像素区域3’,优选为倒梯形,从而有利于所述光学层在喷墨打印过程中形成厚度均匀、且与相邻的像素区域不会产生颜色干扰的的功能层,更优选为等边的倒梯形。当然,应当理解,所述像素区域3’不限于倒梯形结构。本专利技术实施例中,所述隔离bank2中可以含有一种高热导材料,也可以含有两种或两种以上的高热导材料。优选的,所述高热导材料包括氮化物、氧化物、钙钛矿结构铁电材料、碳单质中的至少一种。优选的所述高热导材料,不仅具有优异的导热效果,而且能够保证其可见波段内具有低吸收系数和电绝缘性。此外,所述隔离材料用于喷墨打印时,需要能够有效阻隔墨水扩散,定义溶液挥发后形成像素的形状,即像素区域3’。此外,本专利技术实施例优选的所述高热导材料,还能通过表面处理调节表面能和对溶剂的浸润性,从而适于喷墨打印制备膜层均匀、且与相邻的像素区域不会产生颜色干扰的所述光学层3。具体优选的,所述氮化物包括但不限于氮化铝、氮化硅。具体优选的,所述氧化物包括但不限于氧化镁、氧化铝、氧化铍。具体优选的,所述碳单质包括但不限于金刚石、石墨烯、碳纳米管。作为一种具体优选情形,所述隔离bank2由两层或两层以上bank薄膜叠加形成,其中,所述bank薄膜中含有一种或一种以上的所述高热导材料,且不同的所述bank薄膜中的高热导材料相同或不同。具体的,所述隔离bank2可以由多层组成材料相同的bank薄膜构成,也可以由组成材料各不相同的bank薄膜构成。当然,可以理解,当所述bank薄膜的层数>3层时,可以允许部分所述bank薄膜的组成材料相同,部分所述bank薄膜的组成材料不同。作为另一种具体优选情形,所述隔离bank2由高热导材料和低热导材料制成,所述低热导材料的热导率≤1WK-1m-1。所述隔离bank2中,通过掺杂所述低热导材料,可以提高bank材料光刻性能,从而克服单独使用所述高热导材料制备隔离bank2时存在的光刻加工性能不佳的问题。进一步优选的,以所述隔离bank2的总重量为100%计,所述高热导材料的重量百分含量≤20%。该优选的所述高热导材料的重量百分含量,可以赋予混合材料良好的光刻加工性能。若所述高热导材料的重量百分含量>20%,则仍然难以有效改善混合材料的光刻加工性能。作为本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种QLED器件,其特征在于,包括第一电极、用于定义像素区域的隔离bank,设置在所述像素区域的光学层、以及覆盖所述隔离bank和所述光学层的第二电极,其中,所述隔离bank中含有高热导材料,所述高热导材料的热导率≥10WK
【技术特征摘要】
1.一种QLED器件,其特征在于,包括第一电极、用于定义像素区域的隔离bank,设置在所述像素区域的光学层、以及覆盖所述隔离bank和所述光学层的第二电极,其中,所述隔离bank中含有高热导材料,所述高热导材料的热导率≥10WK-1m-1。2.如权利要求1所述的QLED器件,其特征在于,所述高热导材料包括氮化物、氧化物、钙钛矿结构铁电材料、碳单质中的至少一种。3.如权利要求2所述的QLED器件,其特征在于,所述氮化物包括氮化铝、氮化硅;和/或所述氧化物包括氧化镁、氧化铝、氧化铍;和/或所述碳单质包括金刚石、石墨烯、碳纳米管。4.如权利要求1-3任一所述的QLED器件,其特征在于,所述隔离bank由两层或两层以上bank薄膜叠加形成,其中,所述bank薄膜中含有一种或一种以上的所述高热导材料,且不同的所述bank薄膜中的高热导材料相同或不同。5.如权利要求1-3任一所述的QLED器件,其特征在于,所述隔离bank由高热导材料和低热导材料制成,所述低热导...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈崧,钱磊,杨一行,曹蔚然,向超宇,
申请(专利权)人:TCL集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。