The invention provides a single LED chip micro color light processing method, which is characterized in that the method comprises the following steps: S1 the blue chip surface is divided into A area, B area and the C area in three areas, first in the blue chip coated with fluorescent glue A and photoresist on B region C, regional exposure, developing area of A, A developing part of the photoresist removal, removal of exposure fluorescent glue A region; S2: in the blue chip coated with fluorescent glue B and photoresist, development of B exposure, and then to glue; S3: apply fluorescent glue and photoresist in C the blue chip surface, the A area, B area exposure, developing area of C, to glue. This can achieve miniaturization, and the same chip has been um unit RGB light emitting area of monochromatic area, has now met the increasingly high definition of the requirements of the LCD panel.
【技术实现步骤摘要】
一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法
本专利技术涉及到LED
,特别是一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法。
技术介绍
专利技术原因,多色小尺寸芯片的需求很高。在大功率照明领域,采用多个小芯片串并联的技术已经使用的很成熟也很广泛。和单一大功率芯片比起来,此工艺的芯片成本较低,整体的散热性也更好、光效更高、光衰更慢,可同时达到高效率及高功率的目标,虽然有工序较复杂、信赖性较低等隐忧,但也难以动摇它的地位。其次,在显示屏应用的领域,RGB多芯片封装是一个主流的工艺,随着象素的密度越高(即分辨率越高),单位面积下单个象素点的尺寸就必须越来越小,在逐渐朝着”小间距化”方向发展的同时,所能使用的R、G、B三色芯片的尺寸也必须越来越小,藉此满足市场上高分辨率的要求。光刻的步骤主要有:前处理、旋涂光刻胶、前烘、曝光、显影、坚膜、检查图形几个步骤。光刻通常分为以光子为光源的光刻技术、以粒子为光源的光刻技术以及物理接触式光刻技术。在上述光刻技术中,以光子为基础的光刻技术种类很多,其原理是当光照射到光刻胶上时,受到光照的部分发生降解反应而能被显影液溶解(正胶),或发生交链反应而成为不溶物(负胶),正胶显影后的图形与掩膜板上图形一致,负胶显影后的图形与掩膜板上互补。传统方法是利用小的R、G、B芯片封装,但该方法存在缺陷很明显。详细如下:小芯片无法做到微小化,常规小芯片规格也在6-8mil左右;每颗芯片采用打线或倒装方式封装,异常概率比较高,如何将小芯片完成合适的固晶,较难;如何在小芯片小pad上打好金线,也是个难题。容易出现打线异常;小芯片串并联封装,增加了整体出 ...
【技术保护点】
一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:将蓝光芯片上表面分为A区域、B区域、C区域三个区域,先在蓝光芯片表面涂上荧光胶A和光刻胶,对B区域、C区域进行曝光,对A区域进行显影,去除显影部分的光刻胶A,去除曝光区域的荧光胶A;S2:在蓝光芯片表面涂上荧光胶B与光刻胶,对B曝光进行显影,对A区域、C区域进行曝光,去显影区域的光刻胶和曝光区域荧光胶B;S3:在蓝光芯片表面涂抹荧光胶C和光刻胶,对A区域、B区域进行曝光,对C区域进行显影,去显影区域的光刻胶和曝光区域荧光胶C;最后得到得到蓝光芯片搭配荧光胶A、荧光胶B、荧光胶C,所述A区域、B区域、C区域表面分别附有荧光胶A、荧光胶B、荧光胶C。
【技术特征摘要】
1.一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:将蓝光芯片上表面分为A区域、B区域、C区域三个区域,先在蓝光芯片表面涂上荧光胶A和光刻胶,对B区域、C区域进行曝光,对A区域进行显影,去除显影部分的光刻胶A,去除曝光区域的荧光胶A;S2:在蓝光芯片表面涂上荧光胶B与光刻胶,对B曝光进行显影,对A区域、C区域进行曝光,去显影区域的光刻胶和曝光区域荧光胶B;S3:在蓝光芯片表面...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔杰,彭友,陈龙,丁磊,
申请(专利权)人:安徽芯瑞达科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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