The present invention provides an array substrate and repairing method thereof, and belongs to the technical field of the array substrate which can be repaired, at least in part, to solve the existing array substrate repair may be due to repair lines and the gate lines conduction caused by the problem of bad repair. The array substrate of the invention comprises a substrate, and are arranged in the direction away from the substrate and a plurality of first lead wire, a first insulating layer, a plurality of second leads, color film, the first lead and the second lead overlap and are separated by a first insulating layer; and the array substrate includes: on the first insulation shielding the structure layer and the color film, the shielding structure made of metal material, and is located above the first lead no second lead position in the width direction of the first lead shielding structure covering the first lead.
【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其修复方法
本专利技术属于阵列基板修复
,具体涉及一种阵列基板及其修复方法。
技术介绍
如图1、图2所示,显示装置的阵列基板包括多条交叠设置且通过栅绝缘层51相互隔开的栅线1和数据线2,数据线2比栅线1更远离基底9,且二者交叠处通过栅绝缘层51隔开。若某像素(图中未示出)的驱动电路(图中未示出)发生不良,可能导致栅线1与数据线2发生短路不良。如图3所示,为修复短路不良,现有方法是通过激光在短路点21两侧将数据线2切断,并在修复区中沉积钨粉形成修复线3,修复线3两端通过钝化层52中的过孔(通过激光形成)与数据线2的两个位于短路点21两侧的位置分别连接(如图12所示),从而数据线2信号可沿修复线3绕过短路点21传递,消除短路不良(当然此时短路像素会变成暗点)。可见,修复线3与栅线1有交叠,但因为二者间有栅绝缘层51、钝化层52等,故它们正常情况下不会导通。但是,在有机发光二极管(OLED)阵列基板中有彩膜层8(可包括彩色滤光膜和黑矩阵),彩膜层8厚度较大(一般厚数微米),若修复线3制备在彩膜层8上则其与数据线2连接处容易断线,为此,如图3、图12所示,需要先通过激光将修复区的彩膜层8剥离。但是,由于彩膜层8厚度大,将其剥离所需的激光能量也大,故很难保证既将彩膜层8完全剥离又不损伤其下方的绝缘层,因此如图4所示,在剥离彩膜层8时很容易将栅线1上方的栅绝缘层51和钝化层52也剥离掉,这样修复线3就会与栅线1接触并导通,导致数据线2与栅线1仍然通过修复线3短路,造成维修不良。
技术实现思路
本专利技术至少部分解决现有的阵列基板修复时可能因修复线与栅线导通 ...
【技术保护点】
一种阵列基板,包括基底,以及在远离基底的方向上依次设置的多条第一引线、第一绝缘层、多条第二引线、彩膜层,所述第一引线与第二引线相互交叠且被第一绝缘层隔开,其特征在于,所述阵列基板还包括:设于第一绝缘层与彩膜层间的遮蔽结构,所述遮蔽结构由金属材料构成,且位于第一引线上方无第二引线的位置,在第一引线宽度方向上遮蔽结构覆盖第一引线。
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,包括基底,以及在远离基底的方向上依次设置的多条第一引线、第一绝缘层、多条第二引线、彩膜层,所述第一引线与第二引线相互交叠且被第一绝缘层隔开,其特征在于,所述阵列基板还包括:设于第一绝缘层与彩膜层间的遮蔽结构,所述遮蔽结构由金属材料构成,且位于第一引线上方无第二引线的位置,在第一引线宽度方向上遮蔽结构覆盖第一引线。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮蔽结构在第一引线长度方向上的两端通过第一绝缘层中的过孔与第一引线连接。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮蔽结构与第二引线同层设置。4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,每条所述第一引线上方设有多个遮蔽结构。5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一引线为栅线,第一绝缘层为栅绝缘层,第二引线为数据线。6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二引线与彩膜层间还设有第二绝缘层。7.一种阵列基板修复方法,其特征在于,所述阵列基板为权利要求1至6中任意一项...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡振飞,李蒙,李荣,袁粲,袁志东,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。