激光直写双面曝光装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
激光直写双面曝光装置
本技术涉及一种曝光装置，具体涉及一种激光直写双面曝光装置。
技术介绍
直写式曝光技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式曝光技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式曝光机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式曝光机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题，本技术提供一种激光直写双面曝光装置，曝光简便、高效，大大降低成本，提高曝光质量。为了实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种激光直写双面曝光装置，包括曝光平台、激光器、光转折器件和二次曲面反射镜，激光器、光转折器件和二次曲面反射镜设置在曝光平台的两个侧面，光转折器件位于激光器和二次曲面反射镜的中间位置。所述曝光平台两侧设置的激光器、光转折器件和二次曲面反射镜位置对称。所述激光器的中线与光转折器件的中线重合，激光器的中线与曝光平台中线重合。所述的二次曲面反射镜高度不小于曝光平台的高度。本技术的有益效果为：激光器发出的光束通过光转折器件打在二次曲面反射镜聚焦最终打在曝光平台的PCB板表面上，光转折器件可以使激光光斑在曝光平台上上下移动，由于曝光平台的前后移动和光斑的上下移动，激光光束完成二维平面的扫描，曝光简便、高效...
【技术保护点】
一种激光直写双面曝光装置，其特征在于，包括曝光平台（1）、激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4），激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4）设置在曝光平台（1）的两个侧面，光转折器件（3）位于激光器（2）和二次曲面反射镜（4）的中间位置。
【技术特征摘要】
1.一种激光直写双面曝光装置，其特征在于，包括曝光平台（1）、激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4），激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4）设置在曝光平台（1）的两个侧面，光转折器件（3）位于激光器（2）和二次曲面反射镜（4）的中间位置。2.根据权利要求1所述的一种激光直写双面曝光装置，其特征在于，所述曝光平台（1）两...
【专利技术属性】
技术研发人员：茆晓华，
申请(专利权)人：江苏影速光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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