基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种基板处理装置，处理对于被处理基板的药液涂敷工艺的基板处理装置包括：基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于基板的移送路径中间的贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于基板移送部的上部，并且将药液涂敷于基板的上面；清洗单元，其通过贯通区域对药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘(lip)进行清洗，据此，可得到的有利的效果在于，可使得药液涂敷喷嘴的清洗结构及工艺简化，并提高收率。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本技术涉及一种基板处理装置，更为具体地，涉及一种基板处理装置，所述基板处理装置可使得将药液涂敷于基板的药液涂敷喷嘴的清洗结构以及工艺简化，并且可使得收率提高。
技术介绍
在对LCD等平板显示器进行制造的工艺中伴随将抗蚀剂液体等的药液涂敷于由玻璃等制作的被处理基板的表面的涂层(coating)工艺。在LCD的尺寸较小的现有技术中使用了旋转(spin)涂层方法，所述旋转涂层方法在将药液涂敷于被处理基板的中央部的同时，使得被处理基板旋转，据此，将药液涂敷于被处理基板的表面。但是，随着LCD画面的尺寸大型化，旋转涂层方式几乎不被使用，并且正使用如下方式的涂层方法：使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝(slit)形态的狭缝喷嘴与被处理基板以相对的形式进行移动，同时从狭缝喷嘴将药液涂敷于被处理基板的表面。最近，作为一种在所规定的时间将药液涂层于更多数量的被处理基板的表面的方法的部分，在日本公开专利公报第2005-243670号公开一种如下形式的技术：设置有悬浮平台，所述悬浮平台通过沿着基板得到搬入并涂敷且搬出的方向喷出空气来使得基板悬浮，在其两侧设置有形成为吸附板等的基板排出装置，通过停止状态的狭缝喷嘴来将药液供给于连续被供给的被处理基板的表面并进行涂层。另外，在悬浮式基板涂层器(coater)装置中，若在狭缝喷嘴的出口残留或固着有药液，则具有的问题在于，在对接下来的基板进行药液涂敷工艺时，药液难以被涂敷为均匀的厚度，并且由于药液的不均匀的涂敷，而产生污点，由此，狭缝喷嘴的出口可需要得到周期性地清洗。但是，在现有的情况下，具有的问题在于，由于通过配置于悬浮平台的上部(狭缝喷嘴的侧部)的清洗模块来实现狭缝喷嘴的清洗，因此为了将清洗模块配置于悬浮平台与狭缝喷嘴之间，狭缝喷嘴与清洗模块必须经过复杂的移动过程，由此，工艺效率及收率低下，并且用于移动清洗模块的移动设备变复杂。换句话说，在现有的情况下，需要经过如下形式的复杂的移动过程：为了用清洗模块对狭缝喷嘴进行清洗，首先，使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动，以便狭缝喷嘴相对于悬浮平台的上面配置于一定高度(在狭缝喷嘴的下部可配置清洗模块的高度)，并且在使得配置于悬浮平台的上部的清洗模块进行水平移动，并配置于狭缝喷嘴的下部的状态下，再次使得狭缝喷嘴向下部进行向下移动，从而使得狭缝喷嘴与清洗模块进行接触。并且，需要经过如下繁琐的移动过程：即使在通过清洗模块的清洗工艺完成之后，首先，在使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动(解除对于清洗模块的接触)的状态下，需要使得清洗模块向狭缝喷嘴的侧部进行水平移动(躲避)，并且为了执行药液涂敷工艺，再次使得狭缝喷嘴向邻接于悬浮平台的上面的高度(实质上，药液得到涂敷的高度)进行向下移动，由此，具有的问题在于，不仅工艺效率低下，而且用于使得清洗模块移动的移动装置变复杂，并且狭缝喷嘴及清洗模块的移动控制较为繁琐与不便。不仅如此，在现有的情况下，具有的问题在于，由于在悬浮平台的上部实现狭缝喷嘴的清洗，因此在狭缝喷嘴得到去除的异物(例如，药液)掉落至悬浮平台的上面，由此，悬浮平台的上面被二次污染。由此，最近，虽然用于使得将药液进行涂敷的狭缝喷嘴的清洗工艺简化的多种研究正在进行，但是仍存在不足，因此需要对此的开发。
技术实现思路
本技术的目的在于，提供一种基板处理装置，所述基板处理装置可使得涂敷药液的药液涂敷喷嘴的清洗工艺简化。特别是，本技术的目的在于，可缩短在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径。此外，本技术的目的在于，可提高基板处理效率及工艺效率，并且可提高收率。此外，本技术的目的在于，将结构简化并且可容易地执行控制。此外，本技术的目的在于，可防止由于从药液涂敷喷嘴去除的异物而导致的二次污染。根据用于达成所述的本技术的目的的本技术的优选的实施例，处理对于被处理基板的药液涂敷工艺的基板处理装置包括：基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于基板的移送路径中间的贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于基板移送部的上部，并且将药液涂敷于基板的上面；清洗单元，其通过贯通区域对药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘(lip)进行清洗。其目的在于，使得将药液涂敷于基板的表面的药液涂敷喷嘴的清洗工艺简化，并且提高工艺效率。特别是，本技术可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，缩短在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径(即，移动距离)，并且可使得药液涂敷喷嘴的清洗结构及工艺简化，并提高收率。换句话说，具有需要经过如下复杂的移动过程的问题：用于清洗药液涂敷喷嘴的清洗模块配置于基板移送部的上部的结构中具有的问题在于，为了用清洗模块对狭缝喷嘴进行清洗，首先，使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动，以便狭缝喷嘴相对于悬浮平台的上面配置于一定高度(清洗模块可配置于狭缝喷嘴的下部的高度)，并且在使得配置于悬浮平台的上部的清洗模块进行水平移动并配置于狭缝喷嘴的下部的状态下，再次使得狭缝喷嘴向下部进行向下移动，从而使得狭缝喷嘴与清洗模块接触。并且，具有的问题在于，需要经过如下繁琐的移动过程：即使在完成通过清洗模块的清洗工艺之后，首先，在将狭缝喷嘴向上部进行向上移动从而解除对于清洗模块的接触的状态下，需要使得清洗模块向狭缝喷嘴的侧部进行水平移动从而躲避，并且为了执行药液涂敷工艺，再次需要使得狭缝喷嘴向邻接于悬浮平台的上面的高度(即，实质上药液得到涂敷的高度)进行向下移动，由此，不仅降低工艺效率，而且用于移动清洗模块的移动装置变复杂，并且狭缝喷嘴及清洗模块的移动控制较为繁琐与不便。但是，本技术可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，由于在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，不需要另外调节药液涂敷喷嘴的高度，仅使得清洗单元单纯地进行上下移动就可以，因此可缩短药液涂敷喷嘴的清洗工艺所需要的药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径，并且提高基板处理效率及工艺效率。并且，在本技术中可得到的有利的效果在于，由于在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，不使得药液涂敷喷嘴移动，仅使得清洗单元进行上下移动就可以，因此可使得用于移动清洗模块的移动装置进一步简化，并且可容易地执行药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动控制。此外，在本技术中可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部的贯通区域上实现药液涂敷喷嘴的清洗，因此在清洗工艺时，从药液涂敷喷嘴清除的异物(例如，药液)不掉落至基板移送部的上面，而是可穿过贯通区域而被收集至基板移送部的下部。由此，预先防止由于从药液涂敷喷嘴清除的异物(例如，药液)掉落至基板移送部的上面而导致的基板移送部的二次污染。基板移送部可形成为沿着预先设定的移送路径可移送基板的多种结构。例如，基板移送部构成为，将基板以悬浮于空中的状态进行移送。优选地，基板移送部利用通过超声波而产生的振动能量来将所述基板以悬浮的状态进行移送。如上所述，可得到的有利的效果在于，通过由超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮，据此，可对基板的悬浮力进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，所述基板处理装置处理对于被处理基板的药液涂敷工艺，其特征在于，包括：基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于所述基板的移送路径中间的贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于所述基板移送部的上部，并且将药液涂敷于所述基板的上面；清洗单元，其通过所述贯通区域对所述药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘进行清洗。

【技术特征摘要】
2016.09.09 KR 10-2016-01161491.一种基板处理装置，所述基板处理装置处理对于被处理基板的药液涂敷工艺，其特征在于，包括：基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于所述基板的移送路径中间的贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于所述基板移送部的上部，并且将药液涂敷于所述基板的上面；清洗单元，其通过所述贯通区域对所述药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘进行清洗。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元以接触的形式对所述喷嘴边缘进行清洗。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元包括：移送导向部，其沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件，其形成为接触于所述喷嘴边缘，并且随着所述移送导向部进行直线移动，并清除残留于所述喷嘴边缘的所述药液。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗部件是弹性体。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：移动部，所述移动部使得所述清洗单元沿着向上方向移动，以便所述清洗单元移动至清洗所述喷嘴边缘的清洗位置以及从所述喷嘴边缘隔开的等待位置。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，在所述药液被涂敷于所述基板的上面期间，所述清洗单元配置于所述等待位置，若完成所述药液的涂敷，则所述清洗单元移动至所述清洗位置。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元在所述等待位置以与所述基板移送部的下部隔开的形式配置，配置于所述等待位置的所述清洗单元从下部向上部穿过所述贯通区域，并移动至所述清洗位置。8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元从所述等待位置向所述清洗位置移动期间，保持所述药液涂敷喷嘴的高度一定。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述贯通区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板移送部将所述基板以悬浮于空中的状态进行移送。11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板移送部利用通过超声波而产生的振动能量来将所述基板以悬浮的状态进行移送。12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板移送部包括：第一振动板，其配置于所述基板的移送路径，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；第二振动板，其配置为沿着所述基板被移送的方向从所述第一振动板隔开，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮，所述贯通区域形成于所述第一振动板与所述第二振动板之间。13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一振动板与所述第二振动板形成为沿着所述基板被移送的方向进行相对移动，所述贯通区域若所述第一振动板与所述第二振动板相互隔开，则形成于所述第一振动板与所述第二振动板之间。14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第二振动板接近以及隔开。15.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二振动板...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴炯信，李气雨，金美池，
申请(专利权)人：KC科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR