【技术实现步骤摘要】
一种消除子光栅密度差的调整方法及调整装置
本专利技术涉及拼接光栅压缩器的调试方法,具体涉及一种基于子口径光束空-谱干涉、引入光栅平移量消除拼接光栅压缩器中子光栅间线密度差调整方法。
技术介绍
在超强激光啁啾脉冲放大系统中,压缩器是非常关键的部分。目前使用最广泛的压缩器是平行光栅对压缩器,光栅的口径和损伤阈值是限制装置输出能力的主要因素,光栅拼接技术是扩大光栅口径、提高系统输出能力的重要措施。光栅拼接技术的核心是高精度地控制各种拼接误差,除了光栅角度、位置等的安装误差外,子光栅之间的线密度差也会严重影响输出激光脉冲的时空特性,子光栅之间的线密度不一致会导致子口径光束发生角度偏移,使远场光斑变大,还会引入色散变化,使输出脉冲脉宽展宽,降低脉冲峰值功率密度。因此有效地消除拼接光栅压缩器中子光栅间线密度差的影响有利于提高装置输出激光脉冲的性能。目前补偿拼接光栅压缩器线密度差影响的通用方法是配对误差补偿法,即引入绕母线旋转的角度误差,使子口径光束的远场重合,该方法只能校正由线密度差引起的出射光角度偏移,并不能补偿线密度差导致的色散变化,并且只适用于线密度差较小的情况,当子光栅之间有较大的线密度差时,该方法不能消除脉宽展宽效应。事实上,对于光栅线密度标称值一致的不同批次光栅之间往往会有较大的线密度差,此时利用普通的拼接误差监控与调试方法难以得到变换极限的脉宽。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的问题,本专利技术提供一种消除子光栅密度差的调整方法,有效消除或降低拼接光栅线密度差对压缩器输出脉冲的影响,有助于获得变换极限的脉宽,并且能够直观、简便地对拼接型光栅压缩器进行调 ...
【技术保护点】
一种消除子光栅密度差的调整方法,其特征在于包括如下步骤:步骤一、拼接光栅压缩器中设置有双程折返镜和子光栅对,所述子光栅对之间存在线密度差,所述双程折返镜固定在光栅架上,所述子光栅对安装在光栅架上并可旋转和移动,激光源的输出光经第一半透半反镜跨拼缝注入有线密度差的拼接光栅压缩器,其出射光经第二半透半反镜后分为两部分,一部分光通过科学面级CCD来监测远场光斑形态,用于校正出射光角度偏移,另一部分光通过光栅光谱仪进行空‑谱干涉实验,用于补偿光栅线密度差的色散变化;步骤二、如果压缩器的子光栅间存在较大的线密度差,在子光栅共面的情况下其远场焦斑形态表现为分离的光斑,通过引入绕母线旋转的角度误差校正出射光偏移,在科学面级CCD上观察压缩器输出光的远场光斑是否重合;步骤三、引入光栅平移量补偿由光栅线密度差引起的色散变化,即将有刻线密度差的光栅沿子光栅对中心连线的方向平移,将基准光与待校正光导入同一个光栅光谱仪产生空‑谱干涉条纹,在平移光栅的过程中观察干涉条纹的变化,当条纹变得水平时就确认由光栅线密度差引起的色散变化得到了较好的补偿。
【技术特征摘要】
2016.10.25 CN 20161093851401.一种消除子光栅密度差的调整方法,其特征在于包括如下步骤:步骤一、拼接光栅压缩器中设置有双程折返镜和子光栅对,所述子光栅对之间存在线密度差,所述双程折返镜固定在光栅架上,所述子光栅对安装在光栅架上并可旋转和移动,激光源的输出光经第一半透半反镜跨拼缝注入有线密度差的拼接光栅压缩器,其出射光经第二半透半反镜后分为两部分,一部分光通过科学面级CCD来监测远场光斑形态,用于校正出射光角度偏移,另一部分光通过光栅光谱仪进行空-谱干涉实验,用于补偿光栅线密度差的色散变化;步骤二、如果压缩器的子光栅间存在较大的线密度差,在子光栅共面的情况下其远场焦斑形态表现为分离的光斑,通过引入绕母线旋转的角度误差校正出射光偏移,在科学面级CCD上观察压缩器输出光的远场光斑是否重合;步骤三、引入光栅平移量补偿由光栅线密度差引起的色散变化,即将有刻线密度差的光栅沿子光栅对中心连线的方向平移,将基准光与待校正光导入同一个光栅光谱仪产生空-谱干涉条纹,在平移光栅的过程中观察干涉条纹的变化,当条纹变得水平时就确认由光栅线密度差引起的色散变化得到了较好的补偿。2.如权利要求1所述的一种消除子光栅密度差的调整方法,其特征在于:所述步骤三中,所述的引入光栅平移量补偿由光栅线密度差引起的色散变化的过程为:将有刻线密度差的光栅沿光栅法线方向平移,根据空-谱干涉条纹的变化情况判断光栅平移方向是否正确,如果在平移过程中条纹的弯曲程度变大,说明光栅的平移方向错误,应向相反的方向平移;如果条纹的弯曲程度变小,说明光栅的平移方向正确,继续平移直到条纹变得水平时即确认由光栅线密度差引起的色散变化得到了较好的补偿。3.如权利要求1所述的一种消除子光栅密度差的调整方法,其特征在于:所述步骤三中,所述基准光与待校正光是同一压缩器输出光的不同子口径光束,其中基准光是拼接光栅压缩器中无线密度差的子光栅对的出射光,或者是通过常规调试方法已经调试好的一组子光栅对的出射光,待校正光为拼接光栅压缩器中存在线密度差的子光栅对的出射光。4.如权利要求1所述的一种消除子光栅密度差的调整方法,其特征在于:在进行拼接光栅压缩器子口径光束空-谱干涉之前要消除测量...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵丹,王逍,朱启华,粟敬钦,母杰,左言磊,周松,周凯南,曾小明,谢娜,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心,
类型:发明
国别省市:四川,51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。