一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法技术

本发明专利技术实施例提供一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法，涉及显示面板制造技术领域，能够解决真空贴合设备中吸附杆无法调整自身长度的问题。包括电磁组件，电磁组件包括滑杆，以及设置在滑杆上的固定线圈和活动部，固定线圈缠绕在滑杆外周，活动部包括弹性元件和活动磁铁，弹性元件的固定端与滑杆固定连接、活动端连接活动磁铁。吸附件，固定连接活动磁铁，且露出于活动磁铁远离固定线圈的一端。其中，固定线圈通入电流产生磁场，以使得活动磁铁在与磁场的排斥力作用下在滑杆上滑动。

【技术实现步骤摘要】
一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法
本专利技术涉及显示面板制造
，尤其涉及一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法。
技术介绍
在TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜场效应晶体管液晶显示器)制造行业中的真空贴合工艺是指，在密闭的真空环境下，通过真空贴合设备(VacuumAlignerSystem，简称VAS)中的上基台和下基台分别吸附彩膜基板和阵列基板，通过上基台和下基台之间的相对移动，将彩膜基板和阵列基板对位贴合以形成液晶面板。如图1所示，现有的真空贴合设备通常包括相互对合设置的上腔室10和下腔室20，上腔室10和下腔室20的边缘能够相互对接压合以形成密闭空间，在上腔室10内设置有上基台11，上基台11上设置有吸附杆12，吸附杆12一端穿过上基台11向下伸出，用于吸附待压合彩膜基板13并将待压合彩膜基板13固定在上基台11的下表面，在下腔室20内设置有下基台21，下基台21上设置有支撑杆22，支撑杆22用于支撑待压合阵列基板23并将待压合阵列基板23固定在下基台21的上表面上。其中，如图2所示，现有的吸附杆12由驱动杆体121和通过螺丝122与驱动杆体121固定连接的吸附端123组成。吸附端123通常为喇叭口设计，在吸附固定待压合彩膜基板13时，通过排除喇叭口内的空气形成真空空腔对待压合彩膜基板13真空吸附。然后，在上腔室10与下腔室20之间对合形成真空密闭空间后，上基台11在驱动作用下向下基台21运动，带动待压合彩膜基板13靠近待压合阵列基板23直至与待压合阵列基板23压合成形。随着液晶面板对PPI(PixelsPerInch，像素密度)的要求越来越高，也就要求彩膜基板和阵列基板在真空贴合时的精度越高。而真空贴合设备中待压合彩膜基板13和待压合阵列基板23在贴合前的平坦度对真空贴合精度的影响极大，待压合彩膜基板13和待压合阵列基板23的平坦度越高，才能使得真空贴合精度越高。然而在真空贴合设备中，吸附固定于上基台11的待压合彩膜基板13始终存在一定的弯曲变形量，尤其是在真空贴合设备长时间使用后，吸附杆12由于长时间运动，多个吸附杆12之间难以保持一致性，从而就会导致每个吸附杆12与待压合彩膜基板13的接触磨损程度和吸附程度产生差异，进而导致待压合彩膜基板13的整体平坦度下降。这种差异难以通过肉眼观察而发现，通常只有在产生批量次品问题后才能确定，这就容易导致产品的次品率升高。在确定吸附杆12的长度差异影响待压合彩膜基板13的整体平坦度后，需要先使设备停机对所有吸附杆12进行检测和对比，然后对其中磨损严重、与其他吸附杆12的长度差异较大的吸附杆12进行维修或更换，再对所有吸附杆12进行整体的调整测试后重新开机使用，这样一来，一方面，设备停机会严重影响产线的产能效率，另一方面，对设备中所有吸附杆12的检测、对问题吸附杆12的维修或更换，以及对维修或更换后的所有吸附杆12的再次调试均需要耗费大量人力和工时。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法，能够解决真空贴合设备中吸附杆无法调整自身长度的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面，提供一种吸附杆，包括电磁组件，电磁组件包括滑杆，以及设置在滑杆上的固定线圈和活动部，固定线圈缠绕在滑杆外周，活动部包括弹性元件和活动磁铁，弹性元件的固定端与滑杆固定连接、活动端连接活动磁铁。吸附件，固定连接活动磁铁，且露出于活动磁铁远离固定线圈的一端。其中，固定线圈通入电流产生磁场，以使得活动磁铁在与磁场的排斥力作用下在滑杆上滑动。进一步的，在固定线圈内部还设置有固定导体，固定导体固定连接在滑杆上。进一步的，吸附杆还包括压力传感器，压力传感器设置在滑杆靠近固定线圈的一端。优选的，活动磁铁为包括至少一个开口端的圆柱型空腔，且圆柱型空腔通过开口端套设在滑杆外周。优选的，吸附件包括吸盘。进一步的，吸盘的内表面涂覆有粘贴胶层。本专利技术实施例的另一方面，提供一种真空贴合设备，包括相对设置的上基台和下基台，以及设置在上基台上的驱动部件，还包括如上述任一项的吸附杆，其中，吸附杆设置有压力传感器的一端通过压力传感器与驱动部件连接、另一端垂直穿透并伸出于上基台的下表面，多个吸附杆之间平行设置，且能够在驱动部件的驱动作用下相对于上基台上、下移动。进一步的，真空贴合设备还包括控制器，电磁组件中的固定线圈与控制器电连接，控制器用于向固定线圈输入电流。优选的，吸附杆还包括压力传感器时，控制器与每一个压力传感器电连接，用于接收压力传感器测得的拉力值，并根据拉力值控制向固定线圈输入的电流值。本专利技术实施例的再一方面，提供一种真空贴合设备的控制方法，包括：向吸附杆的固定线圈输入电流，以产生排斥活动磁铁的磁场，使得活动磁铁带动吸附件在滑杆上滑动。进一步的，吸附杆还包括压力传感器时，控制方法还包括：获取压力传感器测得的拉力值。求取拉力值与拉力标准值之差，得到拉力调整值；其中，拉力标准值为多个压力传感器的拉力平均值或预先设置的标准值。将拉力调整值转换成对应的电流值。向吸附杆的固定线圈输入电流具体为：根据电流值，向吸附杆的固定线圈输入电流。进一步的，在将拉力调整值转换成对应的电流值的步骤之前，控制方法还包括：确定拉力调整值是否在预设的误差阈值范围内。若拉力调整值在预设的误差阈值范围内，则保持输入的电流值大小不变；若拉力调整值不在预设的误差阈值范围内，则执行将拉力调整值转换成对应的电流值的步骤。本专利技术实施例提供一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法，包括相对设置的上基台和下基台，以及设置在上基台上的驱动部件，还包括如上述任一项的吸附杆，其中，吸附杆设置有压力传感器的一端通过压力传感器与驱动部件连接、另一端垂直穿透并伸出于上基台的下表面，多个吸附杆之间平行设置，且能够在驱动部件的驱动作用下相对于上基台上、下移动。通过向电磁组件中的固定线圈通入电流并调整电流值的大小，以产生并改变固定线圈上的磁场的磁场强度，进而根据同性磁极相斥的原理，以使得活动磁铁在排斥力作用下克服弹性元件的作用力以改变在滑杆上的位置，从而使得吸附杆的自身长度能够调整，以对吸附件所吸附的待压合彩膜基板的高度进行调节，进而提高待压合彩膜基板的整体平坦度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术的真空贴合装置的结构示意图；图2为现有技术的真空贴合装置中的吸附杆的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之一；图4为本专利技术实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之二；图5为本专利技术实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之三；图6为本专利技术实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之四；图7为本专利技术实施例提供的一种真空贴合装置的结构示意图之一；图8为本专利技术实施例提供的一种真空贴合装置的结构示意图之二；图9为本专利技术实施例提供的一种真空贴合装置的结构示意图之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸附杆，其特征在于，包括，电磁组件，所述电磁组件包括滑杆，以及设置在所述滑杆上的固定线圈和活动部，所述固定线圈缠绕在所述滑杆外周，所述活动部包括弹性元件和活动磁铁，所述弹性元件的固定端与所述滑杆固定连接、活动端连接所述活动磁铁；吸附件，固定连接所述活动磁铁，且露出于所述活动磁铁远离所述固定线圈的一端；其中，所述固定线圈通入电流产生磁场，以使得所述活动磁铁在与所述磁场的排斥力作用下在所述滑杆上滑动。

【技术特征摘要】
1.一种吸附杆，其特征在于，包括，电磁组件，所述电磁组件包括滑杆，以及设置在所述滑杆上的固定线圈和活动部，所述固定线圈缠绕在所述滑杆外周，所述活动部包括弹性元件和活动磁铁，所述弹性元件的固定端与所述滑杆固定连接、活动端连接所述活动磁铁；吸附件，固定连接所述活动磁铁，且露出于所述活动磁铁远离所述固定线圈的一端；其中，所述固定线圈通入电流产生磁场，以使得所述活动磁铁在与所述磁场的排斥力作用下在所述滑杆上滑动。2.根据权利要求1所述的吸附杆，其特征在于，在所述固定线圈内部还设置有固定导体，所述固定导体固定连接在所述滑杆上。3.根据权利要求1所述的吸附杆，其特征在于，所述吸附杆还包括压力传感器，所述压力传感器设置在所述滑杆靠近所述固定线圈的一端。4.根据权利要求1所述的吸附杆，其特征在于，所述活动磁铁为包括至少一个开口端的圆柱型空腔，且所述圆柱型空腔通过开口端套设在所述滑杆外周。5.根据权利要求1所述的吸附杆，其特征在于，所述吸附件包括吸盘。6.根据权利要求5所述的吸附杆，其特征在于，所述吸盘的内表面涂覆有粘贴胶层。7.一种真空贴合设备，包括相对设置的上基台和下基台，以及设置在上基台上的驱动部件，其特征在于，还包括如上述权利要求1-6任一项所述的吸附杆，其中，所述吸附杆设置有压力传感器的一端通过所述压力传感器与所述驱动部件连接、另一端垂直穿透并伸出于所述上基台的下表面，多个所述吸附杆之间平行设置，且能够在所述驱动部件的驱动作用下相对于所述上基台上、下...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯本象，唐大虎，谢军，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34