探测方法与装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种探测方法与装置。该探测方法，包括：调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，所述待检测对象包括至少一个检测范围；根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。本发明专利技术的技术方案，通过对待检测对象的间歇照射，防止持续对待检测对象进行照射造成的辐射量大的问题。

【技术实现步骤摘要】
探测方法与装置
本专利技术涉及安全检测技术，尤其涉及一种探测方法与装置。
技术介绍
目前，很多场所使用射线对货物进行安全检查或者对物质进行内部探伤。这主要是利用了加速器和X安检仪在不同物质上的穿透率不同，而衰减率不同来实现的。目前X射线透射成像技术，测量的是穿过被检测对象的X光子数目，X光被吸收的几率反映了被检测物质的密度信息。透射成像技术的检测方法是通过工作人员对被检测物质形状和密度信息的解释来进行的。即现有技术是使用固定能量的X射线持续照射待检测对象体，获得待检测对象体的照射图像，由于不同的待检测对象体的X射线的穿透率不相同，根据待检测对象体的照射图像即可获得待检测对象体的材质等信息。但是，现有技术在检测过程中使用的射线装置在最大能量下持续曝光，其对周围环境的辐射比较严重，有可能造成安全事故。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种探测方法与装置，用于解决现有的探测装置在辐射检测过程中射线对周围环境的辐射量大的问题。第一方面，本专利技术实施例提供一种探测方法，包括：调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，所述待检测对象包括至少一个检测范围；根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。在第一方面的一种可能的实现方式中，所述调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，具体包括：根据所述待检测对象的体积，确定所述射线的单次照射范围；根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度，确定所述射线的照射频率。在第一方面的另一种可能的实现方式中，所述方法还包括：判断所述第一图像是否满足预设条件；若否，将所述第一图像中不符合所述预设条件的部分作为新的照射范围；根据所述预设条件调整所述射线的照射能量，获得新的照射能量；采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围，获得新的第一图像。在第一方面的另一种可能的实现方式中，所述预设条件包括目标阴影面积，判断所述第一图像是否满足预设条件，具体包括：解析所述第一图像，获取所述第一图像的阴影面积；判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。在第一方面的另一种可能的实现方式中，探测装置为安检仪，所述调整射线的单次照射范围，具体可以包括：调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式，确定所述射线的单次照射范围。第二方面，本专利技术提供一种探测装置，包括：调整模块，用于调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；检测获取模块，用于根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像；获取模块，用于根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。在第二方面的一种可能的实现方式中，所述调整模块，具体用于根据所述待检测对象的体积，确定所述射线的单次照射范围，并根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度，确定所述射线的照射频率。在第二方面的另一种可能的实现方式中，所述装置还包括：判断模块，所述判断模块，用于判断所述第一图像是否满足预设条件；所述检测获取模块，还用于在所述判断模块判断所述第一图像不满足预设条件时，将所述第一图像中不符合预设条件的部分作为新的照射范围，并根据所述预设条件调整所述射线的照射能量，获取新的照射能量，采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围，获得新的第一图像。在第二方面的另一种可能的实现方式中，所述判断模块包括解析单元和判断单元：所述解析单元，用于解析所述第一图像，获取所述第一图像的阴影面积；所述判断单元，用于判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。在第二方面的另一种可能的实现方式中，所述探测装置为安检仪，所述调整模块，还用于调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式，确定所述射线的单次照射范围。本专利技术提供的探测方法与装置，探测装置调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。即本实施例的方法实现对待检测对象的间歇照射，防止持续对待检测对象进行照射造成的辐射量大的问题。在辐射检查时，首先使用较低能量的射线或中子来进行曝光和成像；如果在成像结果中，发现存在低能量的射线或中子未能穿透被测物体而产生的阴影，再使用更高能量的射线或中子进行曝光。附图说明为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的探测方法实施例一的流程示意图；图2为本专利技术提供的探测方法实施例二的流程示意图；图3为本专利技术提供的探测方法实施例三的流程示意图；图4为本专利技术提供的探测装置实施例一的结构示意图；图5为本专利技术提供的探测装置实施例二的结构示意图；图6为本专利技术提供的探测装置实施例三的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供的探测方法与装置，用于解决现有的探测装置在辐射检测过程中射线对周围环境的辐射量大的问题。本专利技术的技术方案，通过调整射线的单次照射范围和射线的照射频率，并根据射线的单次照射范围和射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得待检测对象的每个检测范围对应的第一图像，再根据第一图像，获得待检测对象的目标照射图像，进而实现了对待检测对象的间歇性照射，降低了辐射检测的辐射量，从而提高了辐射检测的安全性。需要说明的是，本文中的术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。下面以具体地实施例对本专利技术的技术方案进行详细说明。下面这几个具体的实施例可以相互结合，对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。图1为本专利技术提供的探测方法实施例一的流程示意图。本实施例的执行主体是具有辐射检测功能的探测装置，例如安检仪。本实施例涉及的是探测装置调整射线的单次照射范围和射线的照射频率，并使用该射线的照射范围和照射频率对待检测对象进行间歇照射获得目标照射图像的具体过程。如图1所示，本实施例的方法可以包括：S101、调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率。具体的，探测装置调整射线的照射范围具体可以是增大射线的一次照射范围。可选的，探测装置根据待检测对象的体积和待检测对象的运行速度，调整射线的一次照射范围和射线的照射频率。可选的，还可以期望检测时间和待检测对象的运行速度，调整射线的一次照射范围和照射频率。可选的，还可以根据待检测对象预设的检测范围确定射线的照射范围，例如射线的单次照射范围等于检测范围。探测装置可以通过调节准直器的射线出口大小，进而实现对射线的照射范围的调节。在本实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种探测方法，其特征在于，包括：调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，所述待检测对象包括至少一个检测范围；根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。

【技术特征摘要】
1.一种探测方法，其特征在于，包括：调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，所述待检测对象包括至少一个检测范围；根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，具体包括：根据所述待检测对象的体积，确定所述射线的单次照射范围；根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度，确定所述射线的照射频率。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：判断所述第一图像是否满足预设条件；若否，将所述第一图像中不符合所述预设条件的部分作为新的照射范围；根据所述预设条件调整所述射线的照射能量，获得新的照射能量；采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围，获得新的第一图像。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述预设条件包括目标阴影面积，判断所述第一图像是否满足预设条件，具体包括：解析所述第一图像，获取所述第一图像的阴影面积；判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，探测装置为安检仪，所述调整射线的单次照射范围，具体可以包括：调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式，确定所述射线的单次照射范围。6.一种探测装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘智慧，张政阳，
申请(专利权)人：刘智慧，张政阳，
类型：发明
国别省市：北京,11