蒸镀掩膜版及制作方法、OLED显示基板及蒸镀方法技术

本发明专利技术提供一种蒸镀掩膜版及制作方法、OLED显示基板及蒸镀方法，该蒸镀掩膜版包括本体以及开设于本体上的蒸镀开口区域，还包括：隔垫物，隔垫物设置于本体上，且至少设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。本发明专利技术中，在蒸镀OLED显示基板上的有机发光层时，蒸镀掩膜版上的隔垫物对相邻的不同颜色的有机发光层的蒸镀材料进行遮挡，避免有机发光层发生混色，从而可以不在OLED显示基板上设置隔垫物，减少了工艺流程，缩短了工艺时间，并且还可以降低OLED显示基板上的像素定义层的尺寸，降低了有机材料的使用量，同时，提高了OLED显示基板的分辨率和开口率。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩膜版及制作方法、OLED显示基板及蒸镀方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种蒸镀掩膜版及制作方法、OLED显示基板及蒸镀方法。
技术介绍
现有的有机发光二极管(OLED)显示基板的制作过程中，通常采用蒸镀(EV，Evaporate)工艺形成有机发光层。请参考图1，图1为现有技术中的有机发光二极管显示基板的有机发光层的蒸镀方法示意图，在蒸镀时，需要采用FMM掩膜版10作为掩膜，以在有机发光二极管显示基板20上形成不同颜色的有机发光层，FMM掩膜版10包括本体11以及开设于本体11上的间隔设置的蒸镀开口区域12，有机发光二极管显示基板20包括衬底基板21、阳极22和像素定义层23。为了避免在进行蒸镀工艺时，相邻的不同颜色的有机发光层发生混色风险，通常需要增大像素定义层(PDL)23的厚度和线宽尺寸(CD)，同时在像素定义层23上方增加隔垫物(PS)24，以进一步增加厚度，从而进行阳极22的隔离。但是，这必然在一定程度上会牺牲有机发光二极管产品的分辨率和开口率，很难对应高PPI(分辨率)的产品，同时增加了制作隔垫物的工艺流程，会浪费较为昂贵的有机材料使用量(PDL+PS)，导致成本增加。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种蒸镀掩膜版及制作方法、OLED显示基板及蒸镀方法，用于解决在蒸镀有机发光二极管显示基板的有机发光层时，需要设置厚度较大的像素定义层和隔垫物，以避免相邻的不同颜色的有机发光层发生混色风险，从而导致有机发光二极管显示基板分辨率和开口率低，成本高的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种蒸镀掩膜版，包括本体以及开设于所述本体上的蒸镀开口区域，还包括：隔垫物，所述隔垫物设置于所述本体上，且至少设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。优选地，所述隔垫物仅设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。优选地，所述隔垫物的厚度为2.5-3um，线宽尺寸为8-12um。优选地，所述隔垫物采用光刻胶形成。本专利技术还提供一种有机发光二极管显示基板的蒸镀方法，采用上述蒸镀掩膜版蒸镀形成所述有机发光二极管显示基板的有机发光层。优选地，在形成所述有机发光二极管显示基板的有机发光层的步骤之前还包括：形成所述有机发光二极管显示基板的像素定义层，所述像素定义层的厚度为0.75-1um，线宽尺寸为8-12um。本专利技术还提供一种有机发光二极管显示基板，包括采用上述蒸镀方法形成的有机发光层。优选地，所述有机发光二极管显示基板包括：像素定义层，所述像素定义层的厚度为0.75-1um，线宽尺寸为8-12um。本专利技术还提供一种有机发光二极管显示装置，包括上述有机发光二极管显示基板。本专利技术还提供一种蒸镀掩膜版的制作方法，用于形成上述蒸镀掩膜版，所述方法包括：提供一蒸镀掩膜版底版，所述蒸镀掩膜版底版包括本体和开设于所述本体上的蒸镀开口区域；在所述蒸镀掩膜版底版上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行光刻工艺，形成隔垫物的图形，所述隔垫物设置于所述本体上，且至少设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。本专利技术的上述技术方案的有益效果如下：在蒸镀掩膜版上设置隔垫物，在蒸镀有机发光层时，隔垫物对相邻的不同颜色的有机发光层的蒸镀材料进行遮挡，避免有机发光层发生混色，从而可以不在有机发光二极管显示基板上设置隔垫物，降低了有机材料的使用量，并减少了工艺流程，缩短了工艺时间，并且还可以降低有机发光二极管显示基板上的像素定义层的尺寸，进一步降低有机材料的使用量，降低了制作成本。同时，还可以提高有机发光二极管显示基板的分辨率和开口率。附图说明图1为现有技术中的有机发光二极管显示基板的有机发光层的蒸镀方法示意图；图2为本专利技术一实施例的蒸镀掩膜版的剖面示意图；图3是采用图2中的蒸镀掩膜版形成有机发光二极管显示基板的有机发光层的方法示意图；图4为本专利技术一实施例的蒸镀掩膜版的仰视图；图5为本专利技术另一实施例的蒸镀掩膜版的仰视图；图6为本专利技术又一实施例的蒸镀掩膜版的仰视图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。下面将结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。请参考图2，图2为本专利技术一实施例的蒸镀掩膜版的剖面示意图，该包括蒸镀掩膜版100包括：本体101以及开设于所述本体101上的蒸镀开口区域102，为解决在蒸镀有机发光二极管显示基板的有机发光层时，相邻的不同颜色的有机发光层发生混色风险，本专利技术实施例的蒸镀掩膜版100还包括：隔垫物103，所述隔垫物103设置于所述本体102上，且至少设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域102之间。请参考图3，图3是采用图2中的蒸镀掩膜版形成有机发光二极管显示基板的有机发光层的方法示意图，图3中，有机发光二极管显示基板200包括：衬底基板201，阳极202和像素电极层203，当然，本专利技术实施例的有机发光二极管显示基板200还可以包括其他膜层(例如薄膜晶体管功能层等)，由于与本专利技术实施例中的方案的关系不大，在此不进行描述。从图3中可以看出，在蒸镀掩膜版100上设置了隔垫物103，在蒸镀有机发光层时，隔垫物103对相邻的不同颜色的有机发光层的蒸镀材料进行遮挡，避免有机发光层发生混色，从而可以不在有机发光二极管显示基板200上设置隔垫物，降低了有机材料的使用量，减少了工艺流程，缩短了工艺时间，并且还可以降低有机发光二极管显示基板200上的像素定义层203的厚度和线宽尺寸，进一步降低有机材料的使用量，降低了制作成本。同时，还可以提高有机发光二极管显示基板的分辨率和开口率。优选地，请参考图2，所述隔垫物103的厚度为2.5-3um，线宽尺寸(CD)为8-12um。图2和图3所示的实施例中，隔垫物103的形状为半球状，或类半球状，当然，在本专利技术的其他一些实施例中，隔垫物的形状也不限于此，例如还可以为圆柱体或长方体等。请参考图4，图4为本专利技术一实施例的蒸镀掩膜版的仰视图，图4所示的实施例中，蒸镀掩膜版包括多个隔垫物103，多个隔垫物103呈矩阵方式均匀排列，在行方向上，隔垫物103与蒸镀开口区域102交错设置。本专利技术实施例中，隔垫物103的形状和尺寸与蒸镀开口区域102的形状和尺寸一致，当然，在本专利技术的其他一些实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀掩膜版，包括本体以及开设于所述本体上的蒸镀开口区域，其特征在于，还包括：隔垫物，所述隔垫物设置于所述本体上，且至少设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩膜版，包括本体以及开设于所述本体上的蒸镀开口区域，其特征在于，还包括：隔垫物，所述隔垫物设置于所述本体上，且至少设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述隔垫物仅设置于相邻的用于蒸镀不同颜色的有机发光层的蒸镀开口区域之间。3.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述隔垫物的厚度为2.5-3um，线宽尺寸为8-12um。4.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述隔垫物采用光刻胶形成。5.一种有机发光二极管显示基板的蒸镀方法，其特征在于，采用如权利要求1-4任一项所述的蒸镀掩膜版蒸镀形成所述有机发光二极管显示基板的有机发光层。6.根据权利要求5所述的有机发光二极管显示基板的蒸镀方法，其特征在于，在形成所述有机发光二极管显示基板的有机发光层的步骤之前还包括：形成所述有机发光二极管显...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁洪光，千必根，胡岩，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11