一种溢流砖清洗设备制造技术

本发明专利技术涉及溢流砖清洗技术领域，公开了一种溢流砖清洗设备，所述设备包括水箱、安在所述水箱底部的用于固定所述溢流砖的夹具、安装在所述水箱内部两侧的阵列式侧振板组件、以及安装在所述水箱顶部且高度可调的顶振板组件。本发明专利技术提供的溢流砖清洗设备可适用于不同代次和型号的溢流砖清洗，提高了溢流砖清洗设备的使用效率，极大节省了资源和成本。

Overflow brick cleaning equipment

The present invention relates to the technical field of cleaning an overflow overflow brick, brick cleaning device is disclosed, the apparatus comprises a water tank, the bottom of the water tank in the fixture for fixing the overflow brick, installed in the array side of the water tank on both sides of the vibration plate assembly and mounted on the top plate of the vibration component at the top of the tank with adjustable height. The overflow brick cleaning equipment provided by the invention can be applied to the cleaning of overflow bricks of different times and types, thereby improving the use efficiency of the overflow brick cleaning equipment, and greatly saving the resource and cost.

【技术实现步骤摘要】
一种溢流砖清洗设备
本专利技术涉及溢流砖清洗领域，具体地，涉及一种溢流砖清洗设备。
技术介绍
当下玻璃基板制造处于一个多代次多型号共同存在的状况，成型工艺用溢流砖在机械加工完成后，需要进行清洗，以保证熔融玻璃的成型品质。现有的溢流砖清洗设备主要由水箱、以及安装在水箱内的侧振板、顶振板和夹具等组成，其中，夹具用于将溢流砖固定在水箱内，侧振板和顶振板用于为溢流砖的侧壁和顶壁清洗提供振源，但现有的溢流砖清洗设备的结构固定，一套溢流砖清洗设备只能对单一型号的溢流砖进行清洗，无法应对溢流砖后续的设计优化。正常溢流砖的使用寿命普遍在一年以上，而溢流砖清洗设备对溢流砖的清洗只需要数小时甚至几分钟，即，每单一型号的溢流砖均需要设计一套清洗设备，而清洗设备的使用时间却很短，这样就会导致溢流砖清洗设备的使用效率低，造成溢流砖清洗设备的极大资源浪费。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种溢流砖清洗设备，该清洗设备可适用于不同代次不同型号的溢流砖清洗，以提高溢流砖清洗设备的使用效率，节省资源和成本。为了实现上述目的，本专利技术提供一种溢流砖清洗设备，所述设备包括水箱、安在所述水箱底部的用于固定所述溢流砖的夹具、安装在所述水箱内部两侧的阵列式侧振板组件、以及安装在所述水箱顶部且高度可调的顶振板组件。优选地，所述水箱为直角六面体，所述阵列式侧振板组件安装在所述水箱内部宽度方向的两侧且平行于所述水箱的长度方向的侧面。优选地，所述阵列式侧振板组件包括振板挂架和以阵列排布方式固定在所述振板挂架上的振板，所述振板挂架能够沿着所述水箱的宽度方向移动以使所述振板远离或接近所述溢流砖的长度方向的侧面。优选地，所述振板挂架包括平行于所述水箱长度方向的横梁、以及与所述横梁垂直连接的支撑架，所述振板固定在所述支撑架上，所述横梁的两端分别与所述水箱顶部宽度方向的两侧壁边缘连接，并能够沿着所述水箱顶部宽度方向的两侧壁边缘滑动。优选地，所述水箱顶部宽度方向的两侧壁边缘具有台阶，沿所述水箱的宽度方向的滑轨安装在台阶上，所述横梁的两端底部固定有能够在所述滑轨上滑动的滑块。优选地，所述横梁的两端侧部固定有定位块，所述定位块上设置有用于将所述横梁和所述水箱的侧壁锁定的紧固件。优选地，所述定位块上设有轴线平行于所述水箱的长度方向的螺孔，所述紧固件为螺栓，所述螺栓贯穿所述螺孔并能够相对所述螺孔旋转以远离或接近所述水箱的宽度方向的侧壁，所述螺栓上还安装有用于在所述螺栓顶住所述水箱的宽度方向的侧壁时阻止所述螺栓远离所述水箱的宽度方向的侧壁的螺母。优选地，所述水箱顶部安装有用于密封所述水箱的盖板，所述顶振板组件包括顶振板和用于调节所述顶振板的高度的调节部件，所述调节部件安装在所述水箱的盖板上，其底端与所述顶振板固定。优选地，所述调节部件为螺杆，所述水箱的盖板上开设有轴线平行于所述水箱的高度方向的螺孔，所述螺杆贯穿所述螺孔而与所述水箱内的所述顶振板中部固定；所述水箱外的螺杆部分安装有用于操作所述螺杆旋转以调节所述水箱内的所述顶振板的高度的调节机构。优选地，所述盖板上还开设有对称分布在所述螺孔两侧的通孔，所述顶振板组件还包括导向杆，所述导向杆贯穿所述通孔而与所述顶振板固定。本专利技术提供的技术方案具有如下有益效果：不同代次和型号的溢流砖的长度和顶面形状差异较大，本专利技术提供的溢流砖清洗设备中，水箱的内部两侧安装侧振板组件，用于为溢流砖长度方向的侧面清洗提供振源，由于侧振板组件采用阵列式侧振板组件，从而，可以根据不同代次的溢流砖长度和固定位置开启不同行列的振板；另外，安装在水箱顶部的顶振板组件由于高度可调，因此可根据不同代次的溢流砖顶面形状调节高度，以保证不同形状顶面的溢流砖的清洗距离最佳，由此本专利技术提供的溢流砖清洗设备可适用于不同代次不同型号的溢流砖清洗，提高了溢流砖清洗设备的使用效率，极大节省了资源和成本。另外，由于侧振板组件采用阵列式侧振板组件，根据不同代次的溢流砖长度和固定位置开启不同行列的振板，还可以避免其他不与溢流砖的侧面相对应的振板工作，从而最大程度地节约了能源，本专利技术的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的主视示意图；图2是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的侧视示意图；图3是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的水箱及间距可调的阵列式侧振板组件的主视示意图；图4是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的水箱及间距可调的阵列式侧振板组件的俯视示意图；图5是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的阵列式侧振板组件与水箱的连接部位的主视示意图；图6是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的盖板及顶振板组件的主视示意图；图7是本专利技术实施例提供的溢流砖清洗设备的盖板及顶振板组件的俯视示意图。附图标记说明1水箱2顶振板组件3阵列式侧振板组件4夹具1-1水箱的宽度方向的侧壁1-2调节组件1-3振板1-4振板挂架1-2-1滑轨1-2-2蝶形螺栓2-1盖板2-2顶振板2-3螺杆2-4导向杆2-5手轮具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。在本专利技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指参考附图所示的上、下、左、右。“内、外”是指相对于部件本身轮廓的内外。请参阅图1，本专利技术实施例提供一种溢流砖清洗设备，所述设备包括水箱1、夹具4、阵列式侧振板组件3和顶振板组件2，其中，夹具4安装在所述水箱1底部，用于将所述溢流砖夹持固定在水箱1内，以便于后续对溢流砖进行清洗；请参阅图4，阵列式侧振板组件3安装在所述水箱1的内部两侧，用于为所述溢流砖长度方向的两侧面清洗提供振源，请参阅图6，顶振板组件2安装在水箱1顶部且高度可调，用于为所述溢流砖的顶面清洗提供振源。需要说明的是，所述阵列式侧振板组件3指的是其中的振板1-3以阵列方式排布的侧振板组件，以图3和图4为例，结合图3和图4，示出了水箱1内部两侧中每侧的阵列式侧振板组件3均具有1行6列振板1-3的情形，即每侧的阵列式侧振板组件3具有1*6＝6块振板1-3的示例。下面以所述水箱1为直角六面体为例，对上述行和列的含义进行解释：其中，所述的行指的是沿水箱1的高度方向排布的振板1-3的行数，所述的列指的是沿水箱1的长度方向排布的振板1-3的列数。实际应用时，根据最大溢流砖的高度以及振板1-3的功率设计阵列式侧振板组件3的高度，振板1-3的功率决定了每块振板1-3的尺寸，在振板1-3尺寸一定的情况下，阵列式侧振板组件3的高度由振板1-3的行数决定，行数越多，高度越大，优选为1-3行，请参阅图3，图3示出了包括有1行振板1-3的阵列式侧振板组件3；根据最大溢流砖的长度以及振板1-3的功率设计阵列式侧振板组件3的长度，同样的，在振板1-3尺寸一定的情况下，阵列式侧振板组件3的长度由振板1-3的列数决定，列数越多，长度越长，优选为2-10列，请参阅图3和图4，图3和图4示出了包括有6列振板的阵列式侧振板组件3。由于用于为所述溢流砖的长度方向的侧面清洗提供振源的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溢流砖清洗设备，其特征在于，所述设备包括水箱、安在所述水箱底部的用于固定所述溢流砖的夹具、安装在所述水箱内部两侧的阵列式侧振板组件、以及安装在所述水箱顶部且高度可调的顶振板组件。

【技术特征摘要】
1.一种溢流砖清洗设备，其特征在于，所述设备包括水箱、安在所述水箱底部的用于固定所述溢流砖的夹具、安装在所述水箱内部两侧的阵列式侧振板组件、以及安装在所述水箱顶部且高度可调的顶振板组件。2.根据权利要求1所述的溢流砖清洗设备，其特征在于，所述水箱为直角六面体，所述阵列式侧振板组件安装在所述水箱内部宽度方向的两侧且平行于所述水箱的长度方向的侧面。3.根据权利要求2所述的溢流砖清洗设备，其特征在于，所述阵列式侧振板组件包括振板挂架和以阵列排布方式固定在所述振板挂架上的振板，所述振板挂架能够沿着所述水箱的宽度方向移动以使所述振板远离或接近所述溢流砖的长度方向的侧面。4.根据权利要求3所述的溢流砖清洗设备，其特征在于，所述振板挂架包括平行于所述水箱长度方向的横梁、以及与所述横梁垂直连接的支撑架，所述振板固定在所述支撑架上，所述横梁的两端分别与所述水箱顶部宽度方向的两侧壁边缘连接，并能够沿着所述水箱顶部宽度方向的两侧壁边缘滑动。5.根据权利要求4所述的溢流砖清洗设备，其特征在于，所述水箱顶部宽度方向的两侧壁边缘具有台阶，沿所述水箱的宽度方向的滑轨安装在台阶上，所述横梁的两端底部固定有能够在所述滑轨上滑动的滑块。6.根据权利要求5所述的溢流砖清洗设备，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁月稳，姜文成，王丽红，郑权，
申请(专利权)人：东旭科技集团有限公司，东旭集团有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11