光罩清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光罩清洗装置，尤指一种供清洗护膜两侧下表面的光罩清洗装置，其由一湿式清洁模块及一干式清洁模块所组成，该湿、干式清洁模块具有可卷动的无尘布条，供利用无尘布条可直接擦拭光罩表面的方式，以能迅速、且有效的去除表面附着的微尘或雾化，能提高后续制程的效率与合格率，再者本发明专利技术可进行两阶段清洁，其能在清洁后擦干水分，而不致残留清洁水痕或污渍，有助于提升清洁品质。

【技术实现步骤摘要】
光罩清洗装置
本专利技术涉及一种光罩的清洗技术，具体而言涉及一种可以擦拭方式清洗光罩表面的光罩清洗装置，以能快速、且有效的清理光罩表面，供提升半导体制程的合格率。
技术介绍
按，在半导体的制程中，微影(Photolithography)与蚀刻制程(EtchingProcess)是用来完成晶圆表面的图案制作，其中用以供微影制程使用的光罩(Mask)具有不可或缺的关键地位。光罩系一绘有特定图案的透光玻璃片，其中包含一具图形(Pattern)的图案区，供利用一光源，将图案区上的图形转移至晶圆上的光阻，再经过蚀刻制程于晶圆表面完成图案。因此影响晶圆合格率中最重要的因素其中一项即为光罩是否有遭受到污染，若光罩上出现微尘粒子，会使得受污染的光罩用于半导体微影制程时，会于晶圆上产生相对应的缺陷(Defect)，是以，为了保持光罩的清洁，一般会于光罩上设置有护膜(Pellicle)，以防止微尘粒子沾附在光罩上，而护膜为通过框架支撑而与光罩保持一距离，使落在光罩上的微尘粒子收集在护膜上，微影制程因护膜产生相当程度成像失真，使得该微尘粒子不至影响原本微影制程。传统光罩清洗方法，凭借人工方式针对光罩的表面作一洁净处理。清洁人员将该光罩稳固的放置于一架体上，并凭借一清洗液(例如：丙酮、乙醇及去离子水等)冲洗该光罩表面，同时以一刷具刷除该光罩表面的颗粒物质；接着，再次以该清洗液冲洗该光罩的表面，如此重复数次上述清洁步骤后再对该光罩进行干燥，如此，可去除光罩表面的杂质或残余物，进而确保光罩表面的洁净度。但上述现有光罩的清洗方法具有如清洁人员于清洗该光罩时需长时间暴露于该清洗液的工作环境下，极易因吸入或直接接触该化学物质，而影响该清洁人员的身体健康的缺点。为了解决前述的问题，近年来业界开发有多种自动化的光罩清洗设备，但其仍需使用大量有机溶剂制成的清洗液，虽然减少人员的接触量，但其一样存在清洗液管理与污染的问题，且其清洗时因系冲洗为主，一样不易有效清洁光罩表面；再者，由于护膜所使用的粘胶为酯类结构(RCOOR)x，如聚丙烯酸酯的高分子结构，故当光罩接触硫酸与过氧化氢溶液的清洗液时，(RCOOR)x会水解成可流动但不溶于水的胶态物质(RCOOH)x，且(RCOOH)x可能造成光罩图案上的缺陷与光罩的报废，是以现有光罩清洗装置无法进行护膜两侧表面的清洁，然而光罩于护膜两侧的表面形成有多样的识别及校准图形，当其受到污染时仍会造成缺陷(Defect)的问题，故一样有进行清理的需求，现有者仅能以人工方式进行，造成光罩清洁上极大的困扰与不便，如何解决前述问题，系业界的重要课题。缘是，本专利技术即基于上述目前常见缺失予以总体考量后，希冀以本专利技术所提供的光罩清洁结构可有效的进行光罩的护膜两侧表面的清洁，同时达到保护清洁人员人身安全、且能维持光罩清洁程度，并可迅速且有效的缩短清洁时间，以利半导体工厂使用且进一步可达提升半导体制程合格率的功效。
技术实现思路
因此，本专利技术的主要目的是在提供一种以擦拭方式清洁光罩的护膜两侧表面的光罩清洗装置，以能迅速、且有效的进行表面清洁，从而提高后续制程的效率与合格率。又，本专利技术的次一主要目的在于提供一具湿式清洁与干式清洁的光罩清洗装置，供进行两阶段清洁，可有效清洁光罩表面上所附着微粒或雾化污渍，且清洁后不会残留清洗水痕或污渍，有助于提升清洁效率。再者，本专利技术的另一主要目的在于提供一种可将光罩表面微粒与污渍直接擦拭干净的光罩清洗装置，其无需使用到大量有机清洁液，不会产生大量待处理废液，可达维持环境安全性，且降低处理成本的功效。为此，本专利技术主要系通过下列的技术手段，来具体实现上述的各项目的与效能：一种光罩清洗装置，其特征在于，其至少包含有：一机体；一设于机体的湿式清洁模块及一设于机体中湿式清洁模块后方的干式清洁模块；所述的湿、干式清洁模块分别具有至少一擦拭机构，该至少一擦拭机构具有一立设于机体的立板，且该立板上分别设有一置料卷轮及一收料卷轮，供同步自动收、放一无尘布条的两端卷收，又该立板在置料卷轮与收料卷轮之间设有复数转折轮，供无尘布条在移动过程中能够经过擦拭机构上缘处，立板在上方两转折轮之间设有一顶缘高于两侧的贴抵轮，供无尘布条形成较高的擦拭部分；其中湿式清洁模块的擦拭机构在无尘布条相对贴抵轮的进料端设有一供喷洒清洁液体的喷液机构，供选择性对经过的无尘布条进行清洁液喷洒；如此，供光罩能够依序相对湿式清洁模块及干式清洁模块进行直接擦拭，而构成一能迅速、且有效清洁的光罩清洗装置。所述的光罩清洗装置，其中：该湿、干式清洁模块分别具有两相对的擦拭机构，供分别清洁光罩护膜的两侧下方的相对表面。所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构的置料卷轮与收料卷轮于立板上分设有一第一驱动件与一第二驱动件，以作为置料卷轮与收料卷轮同步正逆转的放料及收料之用。所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构的立板在置料卷轮的出料端设有一第一张撑轮组，且该收料卷轮的入料端设有一第二张撑轮组，使无尘布条于放料及收料时可保持平整、顺畅。所述的光罩清洗装置，其中：该立板邻近上缘的相对滚揉轮组的移动后方设有一滚揉轮组，该滚揉轮组具有一具有第三驱动件的滚轮，供带动无尘布条，且滚轮一侧设有一可选择性改变压力的挤压轮，供整平经过的无尘布条，且湿式清洁模块的滚揉轮组能够进一步挤压含有水分的无尘布条，使无尘布条上的水分能分散均匀、且挤出多余水分。所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构的贴抵轮设于一顶升组上，该顶升组是在立板上设有一第一伸缩缸组，且该第一伸缩缸组能够驱动一供设置贴抵轮的轮座升降。所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构在立板对应贴抵轮的两侧分设有一夹压定位组，该夹压定位组在对应无尘布条下方设有一定位板，该定位板上形成有一对应无尘布条宽度、且深度小于无尘布条厚度的定位槽，夹压定位组在对应无尘布条上方设有一由一第二伸缩缸组驱动的压板，使无尘布条在擦拭时能被有效固定位置，且当无尘布条被拉动时能沿着固定路径位移，避免因晃动而位移。所述的光罩清洗装置，其中：该湿式清洁模块的擦拭机构的喷液机构具有一可选择性对经过无尘布条进行清洁液喷洒的喷水管，喷液机构在无尘布条下方设有一回收组，供回收经滚揉轮组挤压的多余清洁液。如此，通过前述技术手段的具体实现，使本专利技术的光罩清洗装置系利用湿、干式清洁模块的无尘布条可直接擦拭光罩表面的作法，而能迅速、且有效的去除表面附着的微尘或雾化，能提高后续制程的效率与合格率，再者本专利技术可进行两阶段清洁，其能在清洁后擦干水分，而不致残留清洁水痕或污渍，有助于提升清洁品质；且由于其系以含浸清洁液的湿式清洁模块采直接擦拭方式去除微尘与污渍，不需使用到大量的有机清洁液，因此不会产生大量待处理废液，可达维持环境安全性，且降低处理成本的功效，故可大幅增进其实用性，而能增加其附加价值，并能提高其经济效益。为使贵审查委员能进一步了解本专利技术的构成、特征及其他目的，以下乃举本专利技术的若干较佳实施例，并配合图式详细说明如后，供让熟悉该项
者能够具体实施。附图说明图1是应用本专利技术光罩清洗装置的设备的俯视平面示意图。图2是本专利技术光罩清洗装置的立体外观示意图，供说明各组件于俯视的相对关系。图3是本专利技术光罩清洗装置中擦拭机构的立体外观示意图，供说明各组件的态样及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩清洗装置，其特征在于，其至少包含有：一机体；一设于机体的湿式清洁模块及一设于机体中湿式清洁模块后方的干式清洁模块；所述的湿、干式清洁模块分别具有至少一擦拭机构，该至少一擦拭机构具有一立设于机体的立板，且该立板上分别设有一置料卷轮及一收料卷轮，供同步自动收、放一无尘布条的两端卷收，又该立板在置料卷轮与收料卷轮之间设有复数转折轮，供无尘布条在移动过程中能够经过擦拭机构上缘处，立板在上方两转折轮之间设有一顶缘高于两侧的贴抵轮，供无尘布条形成较高的擦拭部分；其中湿式清洁模块的擦拭机构在无尘布条相对贴抵轮的进料端设有一供喷洒清洁液体的喷液机构，供选择性对经过的无尘布条进行清洁液喷洒；如此，供光罩能够依序相对湿式清洁模块及干式清洁模块进行直接擦拭，而构成一能迅速、且有效清洁的光罩清洗装置。

【技术特征摘要】
1.一种光罩清洗装置，其特征在于，其至少包含有：一机体；一设于机体的湿式清洁模块及一设于机体中湿式清洁模块后方的干式清洁模块；所述的湿、干式清洁模块分别具有至少一擦拭机构，该至少一擦拭机构具有一立设于机体的立板，且该立板上分别设有一置料卷轮及一收料卷轮，供同步自动收、放一无尘布条的两端卷收，又该立板在置料卷轮与收料卷轮之间设有复数转折轮，供无尘布条在移动过程中能够经过擦拭机构上缘处，立板在上方两转折轮之间设有一顶缘高于两侧的贴抵轮，供无尘布条形成较高的擦拭部分；其中湿式清洁模块的擦拭机构在无尘布条相对贴抵轮的进料端设有一供喷洒清洁液体的喷液机构，供选择性对经过的无尘布条进行清洁液喷洒；如此，供光罩能够依序相对湿式清洁模块及干式清洁模块进行直接擦拭，而构成一能迅速、且有效清洁的光罩清洗装置。2.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该湿、干式清洁模块分别具有两相对的擦拭机构，供分别清洁光罩护膜的两侧下方的相对表面。3.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该擦拭机构的置料卷轮与收料卷轮于立板上分设有一第一驱动件与一第二驱动件，以作为置料卷轮与收料卷轮同步正逆转的放料及收料之用。4.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该擦拭机构的立板在置料卷轮的出料端设有一第一张撑轮组，且该收料卷轮的入料端设有一第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，
申请(专利权)人：特铨股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71