感光性聚硅氧烷组合物及其应用制造技术

本发明专利技术有关一种感光性聚硅氧烷组合物。该感光性聚硅氧烷组合物包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分；以及溶剂(E)。该感光性聚硅氧烷组合物具有感光度佳及折射率佳的优点。本发明专利技术还提供一种于一基板上形成薄膜的方法、一种基板上的薄膜及一种装置。

Photosensitive polysiloxane composition and uses thereof

The present invention relates to a photosensitive polysiloxane composition. The photosensitive polysiloxane composition comprises: polysiloxane polymer (A); ortho naphthoquinone two azido sulfonate (B); urethane (methyl) acrylate compound (C), wherein, the urethane (methyl) acrylate compound (C) per molecule contains at least six (methyl acryloyl); inorganic particles (D), wherein the inorganic particles (D) in group fourth element oxide as main component; and a solvent (E). The photosensitive polysiloxane composition has the advantages of good sensitivity and good refractive index. The invention also provides a method for forming a film on a base plate, a film on a base plate and a device.

【技术实现步骤摘要】
感光性聚硅氧烷组合物及其应用
本专利技术有关一种感光性聚硅氧烷组合物及使用该组合物所形成的薄膜及装置，特别提供一种感光度佳及折射率佳的感光性聚硅氧烷组合物。
技术介绍
近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等各领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于微影工艺中图案所需的微细化要求日益增高。业界为了达到微细化的图案，一般是透过具有高解析及高感光度的正型感光度材料经曝光及显影后而形成，其中，包含聚硅氧烷聚合物成分的正型感光度材料渐成为业界使用的主流。日本公开特许第2008-107529号揭示了一种可形成高透明度硬化膜的感光性聚硅氧烷组合物。该组合物包含聚硅氧烷聚合物、醌二叠氮磺酸酯及溶剂。其中，该聚硅氧烷聚合物具有环氧丙烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基，是由一含环氧丙烷基或丁二酸酐基的硅氧烷单体经加水分解且部分缩合所获得。该聚硅氧烷于共聚合时会经开环反应形成亲水性的结构，并在稀薄碱性显影液中具有高溶解性，然而，该感光性聚硅氧烷组合物无法满足现今业界对其感光度与折射率日益升高的需求。因此，如何同时克服感光度与折射率不佳的问题以达到目前业界的要求，为本
中亟待解决的问题。
技术实现思路
首先要说明的是，在本文中，所述(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及/或甲基丙烯酸；(甲基)丙烯酰（(meth)acryloyl）表示丙烯酰(acryloyl)及/或甲基丙烯酰(methacryloyl)；(甲基)丙烯酸酯（(meth)acrylate）表示丙烯酸酯(acrylate)及/或甲基丙烯酸酯(methacrylate）。为解决上述技术问题，本专利技术利用氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(urethane(metha)acrylatecompound)及无机粒子，而得到感光度与折射率佳的感光性聚硅氧烷组合物。因此，本专利技术有关一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分；以及溶剂(E)。本专利技术还提供一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用上述的感光性聚硅氧烷组合物施予所述基板上的步骤。本专利技术又提供一种基板上的薄膜，其是由上述的方法所制得。本专利技术再提供一种装置，其包含上述的薄膜。为达上述目的，本专利技术提供一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四副族元素的氧化物为主要成分；以及溶剂(E)。本专利技术的所述聚硅氧烷聚合物的构造并无特别限制。根据本专利技术的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述聚硅氧烷聚合物(A)可以是使用硅烷单体及/或聚硅氧烷加水分解及缩合而制得，优选地，所述缩合为部分缩合。于本专利技术的一优选实施例中，所述硅烷单体包含但不限于下列结构式(1)所示的结构：Si(Ra)t(ORb)4-t结构式(1)其中：t为0至3的整数，且当t表示2或3时，几个Ra各自为相同或不同；Ra选自由氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至10的烯基、碳数6至15的芳基、经酸酐基取代的碳数1至10的烷基、经环氧基取代的的碳数1至10的烷基及经环氧基取代的烷氧基所组成的群；Rb选自由氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基及碳数6至15的芳基所组成的群，且当4-t表示2或3时，几个Rb各自为相同或不同。在该Ra的定义中，碳数1至10的烷基例如但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第三丁基、正己基、正癸基、三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-氨丙基、3-巯丙基、3-异氰酸丙基。碳数2至10的烯基例如但不限于乙烯基、3-丙烯酰氧基丙基、3-甲基丙烯酰氧基丙基等。C6至C15的芳香基例如但不限于苯基、甲苯基(tolyl)、对-羟基苯基、1-(对-羟基苯基)乙基、2-(对-羟基苯基)乙基、4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基、（4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl）、萘基(naphthyl)等。在该Ra的定义中，所述经酸酐基取代的碳数1至10的烷基例如但不限于乙基丁二酸酐、丙基丁二酸酐、丙基戊二酸酐等。在该Ra的定义中，所述经环氧基取代的碳数1至10的烷基例如但不限于环氧丙烷基戊基(oxetanylpentyl)、2-(3,4-环氧环己基)乙基(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl)等。在该Ra的定义中，所述经环氧基取代的烷氧基例如但不限于环氧丙氧基丙基(glycidyloxypropyl)、2-环氧丙烷基丁氧基(2-oxetanylbutoxy)等。在该Rb的定义中，碳数1至6的烷基包含但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等。碳数1至6的酰基包含但不限于乙酰基等。碳数6至15的芳香基包含但不限于苯基等。于结构式(1)中，当t表示0至3的整数时，t=0时表示硅烷单体为四官能性硅烷，t=1时表示硅烷单体为三官能性硅烷，t=2时表示硅烷单体为二官能性硅烷，t=3时则表示硅烷单体为单官能性硅烷。根据本专利技术的具体实施方式，优选地，所述硅烷单体包含但不限于(1)四官能性硅烷：四甲氧基硅烷(tetramethoxysilane)、四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane)、四乙酰氧基硅烷(tetraacetoxysilane)、四苯氧基硅烷等(tetraphenoxysilane)；(2)三官能性硅烷：甲基三甲氧基硅烷(methyltrimethoxysilane简称MTMS)、甲基三乙氧基硅烷(methyltriethoxysilane)、甲基三异丙氧基硅烷(methyltriisopropoxysilane)、甲基三正丁氧基硅烷(methyltri-n-butoxysilane)、乙基三甲氧基硅烷(ethyltrimethoxysilane)、乙基三乙氧基硅烷(ethyltriethoxysilane)、乙基三异丙氧基硅烷(ethyltriisopropoxysilane)、乙基三正丁氧基硅烷(ethyltri-n-butoxysilane)、正丙基三甲氧基硅烷(n-propyltrimethoxysilane)、正丙基三乙氧基硅烷(n-propyltriethoxysilane)、正丁基三甲氧基硅烷(n-butyltrimethoxysilane)、正丁基三乙氧基硅烷(n-butyltriethoxysilane)、正己基三甲氧基硅烷(n-hexyltrimethoxysilane)、正己基三乙氧基硅烷(n-hexyltriethoxysilane)、癸基三甲氧基硅烷(decyltrimethoxysilane)、乙烯基三甲氧基硅烷(vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基硅烷(vinyltriethoxysilane)、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(3-acryoylox本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子含有六至十五个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分，并且所述无机粒子(D)中第四族元素为钛或锆；以及溶剂(E)；其中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为1至50重量份；所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为0.1至35重量份；所述无机粒子(D)的使用量为5至120重量份；及所述溶剂(E)的使用量为50至2000重量份。

【技术特征摘要】
2012.12.25 TW 1011496661.一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子含有六至十五个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分，并且所述无机粒子(D)中第四族元素为钛或锆；以及溶剂(E)；其中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为1至50重量份；所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为0.1至35重量份；所述无机粒子(D)的使用量为5至120重量份；及所述溶剂(E)的使用量为50至2000重量份。2.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述聚硅氧烷聚合物(A)是由下列结构式1所表示的硅烷单体经加水分解及缩合反应而得；Si(Ra)t(ORb)4-t结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴明儒，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71