承载装置和曝光设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。相应地，本发明专利技术还提供一种曝光设备。本发明专利技术能够使得基板上不同位置的光刻胶曝光程度更加均匀。

Carrier device and exposure apparatus

The present invention provides a bearing device comprises a bearing, the bearing platform is arranged on the bearing platform through a lifting channel, the lifting channel is arranged in the lifting structure, there is a gap between the inner wall of the lifting structure and the lifting channel, between the inner wall of the lifting structure and the lifting channel it is provided with a light reflecting compensation block, a top surface of the light reflection compensation block and the bearing platform bearing surface reflectivity difference, the light reflection compensation block and the top face of the lifting structure of the top surface of the light reflectivity difference is not greater than a predetermined threshold value. Accordingly, the invention also provides an exposure device. The invention enables the exposure of photoresist at different positions on the substrate to be more uniform.

【技术实现步骤摘要】
承载装置和曝光设备
本专利技术涉及显示装置的生产领域，具体涉及一种承载装置和曝光设备。
技术介绍
图1是现有曝光设备中的承载装置的结构示意图，其包括承载台10和升降结构20(例如升降杆或升降针)。曝光过程中，升降结构20下降，基板放置在承载台10上；曝光结束后，升降结构20上升以将基板顶起，从而便于将基板取走。目前的承载装置中，升降结构20与承载台10之间有一定的缝隙，导致缝隙区域与承载台10表面的反射率不一致，因此，在曝光工艺中，基板不同位置的光刻胶曝光率不均一，从而容易导致产品不良。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种承载装置和曝光设备，以改善基板上不同位置的光刻胶曝光程度不一致的问题。为了实现上述目的，本专利技术提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。优选地，所述光反射补偿块在水平面上的正投影与所述升降结构在水平面上的正投影的总投影完全覆盖所述升降通道在所述水平面上的正投影。优选地，所述升降结构顶面的光反射率与所述承载台的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。优选地，所述光反射补偿块包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面。优选地，所述升降结构包括升降部和设置在该升降部顶端的支撑部，所述支撑部为板状结构。优选地，所述光反射补偿块设置在所述升降通道内壁的顶端处；或者，所述光反射补偿块设置在所述支撑部的侧面；或者，所述光反射补偿块的一部分设置在所述升降通道内壁的顶端、另一部分设置在所述支撑部的侧面；当所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述支撑部的顶面、所述光反射补偿块的顶面和所述承载台的承载面形成连续的平面。优选地，所述安装本体包括设置在所述升降通道内壁上的外环体和设置在所述支撑部上、并环绕该支撑部的内环体。优选地，所述外环体包括与升降通道内壁接触的外表面和背离所述升降通道内壁的内表面，所述内环体包括朝向所述支撑部的内表面和背离所述支撑部的外表面；沿从所述升降结构的顶端至底端方向，所述内环体的外表面逐渐靠近或阶段式靠近所述支撑部，所述外环体的内表面与所述内环体的外表面相匹配，以使得所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述内环体的外表面与所述外环体的内表面贴合。优选地，所述光反射补偿块设置在所述升降通道的内壁上，且所述光反射补偿块的位置满足：当所述升降结构的顶部与所述承载台的承载面平齐时，所述光反射补偿块的顶面低于所述支撑部的底面。优选地，所述安装本体采用柔性材料制成。相应地，本专利技术还提供一种曝光设备，包括本专利技术提供的上述承载装置。在本专利技术中，由于升降结构与升降通道的内壁之间的间隔内设置有光反射补偿块，光反射补偿块的顶面与承载台的承载面的光反射率之差、光反射补偿块的顶面与升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值，因此，当基板放置在承载台上、入射光从上方照射基板以对基板上的光刻胶进行曝光时，基板下方的承载台、光反射补偿块和升降结构向基板反射的反射光量基本相同，从而使得基板上的光刻胶不同位置的曝光程度比现有技术更加均匀，进而改善基板上形成的器件质量，提高产品良率。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是现有曝光设备中的承载装置的结构示意图；图2是本专利技术实施例中提供的承载装置的第一种结构示意图；图3是第一种结构的承载装置的升降结构升高时的示意图；图4为升降通道横截面为圆形时承载装置的俯视图；图5是图4中的I区放大示意图；图6为升降通道横截面为条形时承载装置的俯视图；图7是图6中的M区放大示意图；图8是本专利技术实施例中提供的承载装置的第二种结构示意图；图9是本专利技术实施例中升降结构的其中一种升降方式示意图。其中，附图标记为：10、承载台；11、升降通道；20、升降结构；21、升降部；22、支撑部；30、光反射补偿块；31、外环体；32、内环体。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。作为本专利技术的一方面，提供一种承载装置，图2和图8分别为所述承载装置的两种结构示意图。如图2和图8所示，所述承载装置包括承载台10，承载台10上设置有贯穿该承载台10的升降通道11，升降通道11内设置有升降结构20，升降结构20与升降通道11的内壁之间存在间隔。升降结构20和升降通道11的内壁之间还设置有光反射补偿块30，光反射补偿块30的顶面与承载台10的承载面的光反射率之差、光反射补偿块30的顶面与升降结构20的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。其中，所述预定阈值可以设置为较小的值，以使得光反射补偿块30的顶面与承载台10的承载面的光反射率基本相同，所述光反射补偿块30的顶面与升降结构20的顶面的光反射率基本相同。例如，当承载台10的承载面的光反射率为7％，升降结构20顶面的反射率为5％时，可以将预定阈值设置为2％，即，反射率补偿块30的顶面的光发射率在5％～7％之间。在本专利技术中，由于升降结构20与升降通道11的内壁之间的间隔内设置有光反射补偿块30，光反射补偿块30的顶面与承载台10的承载面的光反射率之差、光反射补偿块30的顶面与升降结构20的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值，因此，当基板放置在承载台10上、入射光从上方照射基板以对基板上的光刻胶进行曝光时，基板下方的承载台10、光反射补偿块30和升降结构20向基板反射的反射光量基本相同，从而使得基板上的光刻胶不同位置的曝光程度比现有技术更加均匀，进而改善基板上形成的器件质量，提高产品良率。需要说明的是，升降结构20的顶面为：当入射光自上方垂直于基板照射升降结构20时，升降结构20能够接收到入射光的面，该面可以为平行于承载台10承载面的水平面，也可以为斜面、弧面等非水平面。优选地，光反射补偿块30在水平面上的正投影与和升降结构20在水平面上的正投影的总投影完全覆盖升降通道11在所述水平面上的正投影，从而基板下方的任意位置均可以对光线进行反射，即，基板的任意位置均可以接收到反射光。进一步优选地，升降结构20顶面的光反射率与承载台10的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。即，升降结构20的顶面、承载台30的承载面和光反射补偿块30的顶面的光反射率相等，从而使得基板上接收到反射光量处处相等，不同位置光刻胶的曝光程度更加均匀。下面结合图2至图8对光反射补偿块和升降结构进行具体介绍。结合图2、图3和图8所示，升降结构20包括升降部21和设置在该升降部21顶端的支撑部22，支撑部22为板状结构，以增大与基板接触面积，从而在升高时能够对基板进行稳定的支撑。本专利技术中的升降通道11的横截面可以为圆形，相应地，支撑部22为圆形的板状结构，如图4和图5中所示；升降通道11的横截面也可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，其特征在于，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。

【技术特征摘要】
1.一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，其特征在于，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。2.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块在水平面上的正投影与所述升降结构在水平面上的正投影的总投影完全覆盖所述升降通道在所述水平面上的正投影。3.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述升降结构顶面的光反射率与所述承载台的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面。5.根据权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述升降结构包括升降部和设置在该升降部顶端的支撑部，所述支撑部为板状结构。6.根据权利要求5所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块设置在所述升降通道内壁的顶端处；或者，所述光反射补偿块设置在所述支撑部的侧面；或者，所述光反射补偿块的一部...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈启超，周子卿，韩乾浩，
申请(专利权)人：重庆京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆,50