彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。本发明专利技术通过正性光刻胶来形成子彩色层，使得子彩色层的形状为倒梯形，与负性光刻胶形成的黑矩阵图形互补，减少了黑矩阵图形和子彩色层之间形成的角段差。解决了相关技术中为了消除角段差的影响所设置的平坦层以及取向层会耗费较多的材料的问题。达到了能够减少平坦层以及取向层的耗费的材料，降低制造成本的效果。

Method for manufacturing color film substrate, color film substrate and display panel

The invention discloses a method for manufacturing a color film substrate, a color film substrate and a display panel, which belong to the display technology field. The method includes: forming a black matrix pattern made of negative photoresist on a substrate; forming a color layer substrate of the black matrix pattern in the form, the color layer including a positive photoresist layer made of sub color. The invention to form sub color layer through positive photoresist, the sub color layer is in the shape of obtrapezoid, formed with a negative photoresist black matrix pattern complementary, reduces the angle formed between the black matrix pattern and color difference sub layer. In order to eliminate the influence of the corner difference, the flat layer and the orientation layer are more expensive. A material that reduces the cost of the flat layer and the alignment layer is achieved, and the effect of manufacturing cost is reduced.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板。
技术介绍
显示面板通常包括彩膜基板、阵列基板和形成于这两个基板之间的液晶层。其中，彩膜基板通常包括彩色层和黑矩阵(英文：BlackMatrix；简称：BM)图形，其中彩色层可以包括多个子彩色层，每个子彩色层的颜色可以不同，黑矩阵图形用于将不同的子彩色层隔开。相关技术中有一种彩膜基板的制造方法，在该方法中，首先在衬底基板上形成由负性光刻胶(负性光刻胶经曝光后会固化，固化的负性光刻胶在显影阶段不会被溶解，正性光刻胶相反)形成的遮光层，然后通过掩模版对负性光刻胶进行显影得到黑矩阵图形，如图1-1所示，由于光的衍射现象，从掩模版01的缝隙(通常宽度为10微米)射出的光线会发生扩散，这使得显影之后形成的黑矩阵图形02的形状为如图1-2所示的梯形，之后可以在形成有黑矩阵图形的衬底基板上由负性光刻胶形成用于制造子彩色层的膜层，之后再对该膜层进行曝光和显影以形成子彩色层，如图1-3所示，子彩色层03和黑矩阵图形02的交叠处会产生叠加，该叠加所造成的高度差可以称为角段差。为了消除角段差的影响，通常需要在形成有彩色层的衬底基板上形成平坦层(英文：OverCover；简称：OC)，同时增加形成于平坦层上的取向层的厚度。在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术至少存在以下问题：为了消除角段差的影响所设置的平坦层以及取向层会耗费较多的材料。
技术实现思路
为了解决相关技术中为了消除角段差的影响所设置的平坦层以及取向层会耗费较多的材料的问题，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板。所述技术方案如下：根据本专利技术的第一方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。可选的，所述黑矩阵图形中任一侧面与所述衬底基板的夹角为预设角度，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，包括：在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成由正性光刻胶制成的第一膜层；通过第一掩模版对所述第一膜层进行曝光，在进行所述曝光时控制所述第一掩模版与所述第一膜层的距离使所述第一掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度；对所述第一膜层进行显影以形成所述彩色层中的第一子彩色层。可选的，所述预设角度满足α＝D/L，所述α为所述预设角度，所述D为所述第一掩模版与所述第一膜层的距离，所述L＝2毫米。可选的，所述在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形，包括：在所述衬底基板上形成由负性光刻胶制成的遮光层；通过第二掩模版对所述遮光层进行曝光，在进行所述曝光时控制所述第二掩模版与所述遮光层的距离使所述第二掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度；对所述遮光层进行显影以形成所述黑矩阵图形。可选的，所述在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层之后，所述方法还包括：在形成有所述彩色层的衬底基板上依次形成公共电极层和取向层。可选的，所述在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层之后，所述方法还包括：在形成有所述彩色层的衬底基板上依次形成平坦层、公共电极层和取向层，所述平坦层的厚度小于1.5微米。可选的，所述取向层由聚酰亚胺制成。根据本专利技术的第二方面，提供一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：衬底基板；所述衬底基板上设置有由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；在设置有所述黑矩阵图形的衬底基板上设置有彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。可选的，所述黑矩阵图形中任一侧面与所述衬底基板的夹角为预设角度，所述彩色层中的第一子彩色层是在设置有所述黑矩阵图形的衬底基板上设置由正性光刻胶制成的第一膜层，再通过第一掩模版对所述第一膜层进行曝光，之后对所述第一膜层进行显影以形成的，在进行所述曝光时控制所述第一掩模版与所述第一膜层的距离使所述第一掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度。可选的，所述预设角度满足α＝D/L，所述α为所述预设角度，所述D为所述第一掩模版与所述第一膜层的距离，所述L＝2毫米。可选的，所述黑矩阵图形是在所述衬底基板上设置由负性光刻胶制成的遮光层后，通过第二掩模版对所述遮光层进行曝光，之后对所述遮光层进行显影以形成的，在进行所述曝光时控制所述第二掩模版与所述遮光层的距离使所述第二掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度。可选的，所述彩膜基板还包括：依次设置在设置有所述彩膜层的衬底基板上的公共电极层和取向层。可选的，所述彩膜基板还包括：依次设置在设置有所述彩膜层的衬底基板上的平坦层、公共电极层和取向层，所述平坦层的厚度小于1.5微米。可选的，所述取向层由聚酰亚胺制成。根据本专利技术的第三方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括第二方面所述的彩膜基板。本专利技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是：通过正性光刻胶来形成子彩色层，使得子彩色层的形状为倒梯形，与负性光刻胶形成的黑矩阵图形互补，减少了黑矩阵图形和子彩色层之间形成的角段差。解决了相关技术中为了消除角段差的影响所设置的平坦层以及取向层会耗费较多的材料的问题。达到了能够减少平坦层以及取向层的耗费的材料，降低制造成本的效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1-1是相关技术中一种衬底基板的结构示意图；图1-2是相关技术中另一种衬底基板的结构示意图；图1-3是相关技术中另一种衬底基板的结构示意图；图2是本专利技术实施例示出的一种彩膜基板的制造方法的流程图；图3-1是本专利技术实施例示出的另一种彩膜基板的制造方法的流程图；图3-2是图3-1所示实施例中一种衬底基板的结构示意图；图3-3是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-4是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-5是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-6是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-7是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-8是图3-1所示实施例中一种膜层的形成流程图；图3-9是图3-1所示实施例中另一种膜层的形成流程图；图3-10是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图。通过上述附图，已示出本专利技术明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本专利技术构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本专利技术的概念。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。图2是本专利技术实施例示出的一种彩膜基板的制造方法的流程图，本实施例以该彩膜基板的制造方法应用于制造彩膜基板来举例说明。该彩膜基板的制造方法可以包括如下几个步骤：步骤201、在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形。步骤202、在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形；在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，所述彩色层中包括由正性光刻胶制成的子彩色层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述黑矩阵图形中任一侧面与所述衬底基板的夹角为预设角度，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层，包括：在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成由正性光刻胶制成的第一膜层；通过第一掩模版对所述第一膜层进行曝光，在进行所述曝光时控制所述第一掩模版与所述第一膜层的距离使所述第一掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度；对所述第一膜层进行显影以形成所述彩色层中的第一子彩色层。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设角度满足α＝D/L，所述α为所述预设角度，所述D为所述第一掩模版与所述第一膜层的距离，所述L＝2毫米。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成由负性光刻胶制成的黑矩阵图形，包括：在所述衬底基板上形成由负性光刻胶制成的遮光层；通过第二掩模版对所述遮光层进行曝光，在进行所述曝光时控制所述第二掩模版与所述遮光层的距离使所述第二掩模版上任一透光区域边缘透过的光线与所述衬底基板之间的夹角为所述预设角度；对所述遮光层进行显影以形成所述黑矩阵图形。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层之后，所述方法还包括：在形成有所述彩色层的衬底基板上依次形成公共电极层和取向层。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩色层之后，所述方法还包括：在形成有所述彩色层的衬底基板上依次形成平坦层、公共电极层和取向层，所述平坦层的厚度小于1.5微米。7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓光，汪栋，肖宇，陈南，张慧，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11