The invention relates to the processing field of display, in particular to a color film substrate and a preparation method thereof as well as a display panel and a display. The color film substrate comprises a substrate, a black matrix, a pixel unit and a conductive layer; wherein the black matrix cover forming a black matrix pattern on the substrate, and the opening of the substrate on the substrate corresponding to the black matrix pattern formed with pixel grooves; the pixel and the pixel unit the groove corresponding to the corresponding pixel filled in the opening groove and the black matrix pattern, and the pixel unit and the top surface of the black matrix on the surface; the conductive layer covered on the surface of the black matrix and the pixel unit. The color film substrate can avoid light leakage caused by the height difference between the black matrix and the pixel unit, and can avoid the angle difference of overlap area is formed, and thus help to optimize the display includes a color film substrate display panel.
【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器
本专利技术涉及显示器的加工领域,具体地,涉及一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器。
技术介绍
许多电子产品例如电视、行动电话、冰箱都可见与平板显示器的搭配应用,甚至在现有的汽车行业也不乏有将平板显示器作为车载内饰的应用。液晶显示面板由于具有良好的显示质量以及相对较低的成本,已成为平板显示器的主流产品。一般来说,液晶显示面板可由阵列基板、彩膜基板以及设置在两者之间的液晶层组合而成。阵列基板具有多个阵列像素单元,用以驱动液晶层中的液晶分子。彩膜基板则具有多个像素单元,用以显示不同的颜色。目前的彩膜基板一般包括衬底基板、导电层、黑矩阵和呈矩阵分布的像素单元,像素单元一般包括红绿蓝三种颜色的像素单元,相邻像素单元之间设置黑矩阵。由于彩膜基板对于像素单元(在一定范围之内)和黑矩阵(越薄越好)的厚度要求不同,这就使得在彩膜基板制备过程中,位于衬底基板上的像素单元和黑矩阵的高度不同,而这一高度差的存在可能会造成漏光的问题,进而影响显示效果。为了避免因漏光问题造成的显示效果不佳,现有技术在制备像素单元时,往往使得像素单元的边缘覆盖在黑矩阵的边缘形成重叠区域。然而,这种设置重叠区域的方式虽然能够避免漏光现象的发生,但是,由于重叠区域的下层包括黑矩阵的关系,使其高度比必不可免的要高于像素单元自身的高度,进而产生角段差(即重叠区域的高度与像素单元自身的高度的差值)。而角段差的存在容易导致所制备的显示面板的液晶盒厚度不均,进而影响显示效果。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器,以避免彩 ...
【技术保护点】
一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板(1)、黑矩阵(2)、像素单元(3)和导电层(4);其中所述黑矩阵(2)覆盖在所述衬底基板(1)上形成黑矩阵图案,且所述衬底基板(1)上对应于所述黑矩阵图案的开口处形成有像素凹槽;所述像素单元(3)与所述像素凹槽一一对应的填充在相应的像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口中,且所述像素单元(3)的上表面与所述黑矩阵(2)的上表面平齐;所述导电层(4)覆盖在所述黑矩阵(2)和所述像素单元(3)的表面上。
【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板(1)、黑矩阵(2)、像素单元(3)和导电层(4);其中所述黑矩阵(2)覆盖在所述衬底基板(1)上形成黑矩阵图案,且所述衬底基板(1)上对应于所述黑矩阵图案的开口处形成有像素凹槽;所述像素单元(3)与所述像素凹槽一一对应的填充在相应的像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口中,且所述像素单元(3)的上表面与所述黑矩阵(2)的上表面平齐;所述导电层(4)覆盖在所述黑矩阵(2)和所述像素单元(3)的表面上。2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵(2)的厚度为1.2-1.5μm,所述像素单元(3)的厚度为1.5-2.0μm。3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板,其特征在于,所述像素单元包括两两相邻的红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)和蓝色像素单元(33)。4.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:S1、在衬底基板上形成所需图案的黑矩阵;S2、以所述黑矩阵为掩膜刻蚀所述衬底基板,在所述衬底基板对应于黑矩阵图案的开口处形成相应的像素凹槽;S3、填充所述像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口,形成上表面与所述黑矩阵的上表面平齐的像素单元;以及S4、在所述黑矩阵和所述像素单元表面上形成导电层。5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述S1包括:S11、在所述衬底基板...
【专利技术属性】
技术研发人员:向长江,
申请(专利权)人:东旭昆山显示材料有限公司,东旭集团有限公司,东旭科技集团有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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