高色域阵列基板及液晶显示面板制造技术

本发明专利技术提供了一种高色域阵列基板，包括玻璃基板，在玻璃基板上依次设有栅极、栅极绝缘层、有源层、钝化层、源极、漏极、像素电极，所述像素电极与源极连接，源极以及漏极设于有源层上，所述像素电极设于钝化层上，位于阵列基板显示区中的栅极绝缘层和/或钝化层为多层光学膜结构。本发明专利技术还提供了一种液晶显示面板，包括所述的高色域阵列基板。与现有技术相比，通过将阵列基板中显示区中的栅极绝缘层和或钝化层为多层光学膜结构，可以实现对特定波段(570～615nm)的光进行过滤，实现对背光红色和绿色光半波峰宽的收窄，从而提升LCD显示面板的显示色域。

High color gamut array substrate and liquid crystal display panel

The invention provides a high color gamut array substrate comprises a glass substrate, a gate electrode, a gate layer, an active layer, a passivation layer, a source electrode and the drain electrode insulation, the pixel electrodes are arranged on the glass substrate, the pixel electrode and the source electrode is connected, a source electrode and a drain electrode is arranged on the active layer and the pixel electrode is arranged on the passivation layer, on the array substrate display gate area of the insulating layer and / or passivation layer for multilayer optical film structure. The invention also provides a liquid crystal display panel, comprising the high color gamut array substrate. Compared with the prior art, the array substrate is shown in the gate area of the insulating layer and a passivation layer or for multilayer optical film structure, can be achieved on a specific band (570 ~ 615nm) filtered light, wide narrow backlight of red and green light half peak, so as to enhance the LCD display color gamut panel.

【技术实现步骤摘要】
高色域阵列基板及液晶显示面板
本专利技术涉及一种显示
，特别是一种高色域阵列基板及液晶显示面板。
技术介绍
目前高色域显示已经成为液晶电视的发展趋势，近年来，由于有机电致发光显示(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)技术的快速发展，LCD(LiquidCrystalDisplay)显示面板面临众多的挑战。比起OLED，LCD显示面板在薄型化、可曲面化、色彩饱和度等方面存在一定的弱势。由于高色域(NTSC>80％)显示相比一般色域(72％)显示器，可改善液晶显示器大视角画面色彩暗淡(colorwashout)以及灰阶画面的色彩鲜艳度；为实现LCD的高色彩饱和度，使液晶显示模组具有高色域，现有技术通过调整CF或采用高色饱LED背光源(如含有红色和绿色荧光粉的LED、或含多色晶片的LED)等形式来实现，除了上述方式外，是否还存在其它方式能够提高LCD显示面板的显示色域是一个值得研究的课题。
技术实现思路
为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种高色域阵列基板及液晶显示面板，从而提高LCD显示面板的显示色域。本专利技术提供了一种高色域阵列基板，包括玻璃基板，在玻璃基板上依次设有栅极、栅极绝缘层、有源层、钝化层、源极、漏极、像素电极，所述像素电极与源极连接，源极以及漏极设于有源层上，所述像素电极设于钝化层上，位于阵列基板显示区中的栅极绝缘层和/或钝化层为多层光学膜结构。进一步地，所述栅极绝缘层由第一折射层以及第二折射层自下而上相互交替叠合而成，所述第二折射层的折射率小于第一折射层的折射率。进一步地，所述栅极绝缘层由至少两层第一折射层以及至少两层第二折射层以一层第一折射层、一层第二折射层的方式自下而上相互交替叠合而成。进一步地，所述钝化层由第三折射层以及第四折射层自下而上相互交替叠合而成，所述第三折射层的折射率小于第四折射层的折射率。进一步地，所述钝化层由至少两层第三折射层以及至少两层第四折射层以一层第三折射层、一层第四折射层的方式自下而上相互交替叠合而成。进一步地，所述第一折射层的折射率大于第二折射层的折射率。进一步地，所述第三折射层的折射率大于第四折射层的折射率。进一步地，所述第一折射层以及第三折射层的折射率为1.7～2.3；第二折射层以及第四折射层的折射率为1.3～1.7。进一步地，所述第一折射层以及第三折射层由SiNx材料制备得到；第二折射层以及第四折射层由SiNx或SiOx材料制备得到。本专利技术还提供了一种液晶显示面板，包括所述的高色域阵列基板。本专利技术与现有技术相比，通过将阵列基板中显示区中的栅极绝缘层和或钝化层为多层光学膜结构，可以实现对特定波段(570～615nm)的光进行过滤，实现对背光红色和绿色光半波峰宽(FWHM)的收窄，从而提升LCD显示面板的显示色域。附图说明图1是现有技术中显示去的穿透率频谱图；图2是本专利技术的阵列基板显示区的结构示意图；图3是本专利技术栅极绝缘层的结构示意图；图4是本专利技术钝化层的结构示意图；图5是本专利技术光学仿真图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明。如图2所示，本专利技术的高色域阵列基板，本专利技术中阵列基板为TFT-LCD阵列基板，其结构与现有技术中的TFT-LCD阵列基板结构相同，主要包括玻璃基板1，在玻璃基板1上依次设有栅极2、栅极绝缘层3、有源层4、钝化层5、源极6、漏极7、像素电极8，所述像素电极8与源极6连接，源极6以及漏极7设于有源层4上，所述像素电极8设于钝化层5上，有源层4于钝化层设置在同一层上，均位于栅极绝缘层3上，本专利技术中图2所示部分为阵列基板的显示区结构示意图；其与现有技术的主要区别在于，位于阵列基板显示区中的栅极绝缘层3和/或钝化层5为多层光学膜结构。通过设置多层光学膜结构，能够实现对特定波段(570～615nm)的光源进行过滤，使得对背光红色光和绿色光FWHM的收窄，提升LCD的显示色域。如图3所示，本专利技术中，栅极绝缘层3为多层光学膜结构时，栅极绝缘层3由第一折射层31以及第二折射层32自下而上相互交替叠合而成，所述第二折射层32的折射率小于第一折射层31的折射率；作为一种优选方案，栅极绝缘层3由至少两层第一折射层31以及至少两层第二折射层32以一层第一折射层31、一层第二折射层32的方式相互交替叠合而成，具体为，第一折射层31、第二折射层32、第一折射层31、第二折射层32的形式叠合。如图4所示，钝化层5为多层光学膜结构时，钝化层5由第三折射层51以及第四折射层52自下而上相互交替叠合而成，所述第三折射层51的折射率小于第四折射层52的折射率；作为一种优选方案，所述钝化层5由至少两层第三折射层51以及至少两层第四折射层52以一层第三折射层51、一层第四折射层52的方式自下而上相互交替叠合而成，具体为，第三折射层51、第四折射层52、第三折射层51、第四折射层52的形式叠合。在具体设置时，第一折射层31的折射率大于第二折射层32的折射率；所述第三折射层51的折射率大于第四折射层52的折射率；作为一种优选，所述第一折射层31以及第三折射层51的折射率为1.7～2.3；第二折射层32以及第四折射层52的折射率为1.3～1.7；这样能够使波长在425～560nm的蓝光以及波长在610～730nm的红光的通过率为70～90％之间，而将波长为570～615nm的光源截止，其通过率保证在20～50％之间，这样能够实现对该波段的光源过滤掉。本专利技术中第一折射层31以及第三折射层51由SiNx材料制备得到；第二折射层32以及第四折射层52由SiNx或SiOx材料制备得到，均可采用现有技术的化学气相沉积制程制备。如图1所示，为现有技术中TFT-LCD液晶显示面板显示区，其栅极绝缘层(GI)和/或钝化层(PV)均为单一的膜层结构，在该结构下，从图中可以看出显示区的穿透率频谱在波长在570～615nm的波段时，其穿透率达到95％以上，此波段穿透率高表明对色域提升没有帮助，而且还会影响显示色域。如图5所示，为本专利技术的光学仿真图，通过光学仿真，栅极绝缘层和/或钝化层为多层光学膜结构并且为高低折射率相互搭配，使波长在570～615nm之间的波段的穿透率为10％以下，从而将其过滤，使得显示色域能够提高。本专利技术还公开了一种液晶显示面板，包括上述的高色域阵列基板，在此不在赘述。虽然已经参照特定实施例示出并描述了本专利技术，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本专利技术的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高色域阵列基板，包括玻璃基板(1)，其特征在于：在玻璃基板(1)上依次设有栅极(2)、栅极绝缘层(3)、有源层(4)、钝化层(5)、源极(6)、漏极(7)、像素电极(8)，所述像素电极(8)与源极(6)连接，源极(6)以及漏极(7)设于有源层(4)上，所述像素电极(8)设于钝化层(5)上，位于阵列基板显示区中的栅极绝缘层(3)和/或钝化层(5)为多层光学膜结构。

【技术特征摘要】
1.一种高色域阵列基板，包括玻璃基板(1)，其特征在于：在玻璃基板(1)上依次设有栅极(2)、栅极绝缘层(3)、有源层(4)、钝化层(5)、源极(6)、漏极(7)、像素电极(8)，所述像素电极(8)与源极(6)连接，源极(6)以及漏极(7)设于有源层(4)上，所述像素电极(8)设于钝化层(5)上，位于阵列基板显示区中的栅极绝缘层(3)和/或钝化层(5)为多层光学膜结构。2.根据权利要求1所述的高色域阵列基板，其特征在于：所述栅极绝缘层(3)由第一折射层(31)以及第二折射层(32)自下而上相互交替叠合而成，所述第二折射层(32)的折射率小于第一折射层(31)的折射率。3.根据权利要求2所述的高色域阵列基板，其特征在于：所述栅极绝缘层(3)由至少两层第一折射层(31)以及至少两层第二折射层(32)以一层第一折射层(31)、一层第二折射层(32)的方式自下而上相互交替叠合而成。4.根据权利要求1所述的高色域阵列基板，其特征在于：所述钝化层(5)由第三折射层(51)以及第四折射层(52)自下而上相互交替叠合而成，所述第三折射层(51)的折射...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊勇，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44