清洗装置以及清洗方法制造方法及图纸

在桥式吊车和容器交接目的地之间，利用清洗气体对容器进行清洗。在桥式吊车的行走轨道的下方且为容器交接目的地的上方设置本地台车的行走轨道，以便供具备使容器升降的升降机的本地台车行走。在本地台车的行走轨道的下方、且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置能够自由地载置容器的清洗台，利用清洗气体供给装置朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。

Cleaning device and cleaning method

The container is cleaned by means of cleaning gas between the bridge crane and the container transfer destination. Under the rail bridge crane and rail set the local trolley container above the handover destination, so having lifts the container lifting the local trolley running. In the local trolley walking tracks below, and no blockage is the upper container delivery destination way to set free to load a container cleaning station, using the container supply of cleaning gas cleaning gas supply device is mounted on the cleaning table at.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洗装置以及清洗方法
本专利技术涉及收纳半导体晶片等的容器的清洗。
技术介绍
在半导体工厂中，将收纳半导体晶片的盒利用桥式吊车系统在处理装置的装载口间搬送。作为桥式吊车系统和装载口之间的暂时保管装置，申请人提出过在装载口与桥式吊车的行走轨道之间设置本地台车及其行走轨道以及暂存区的方案(专利文献1：JP5229363B)。在该装置中，盒在本地台车的行走轨道之间能够沿上下方向自由通过，在本地台车的行走轨道的下方设置暂存区，并使得桥式吊车和本地台车均能够访问该暂存区。因此，桥式吊车和本地台车均能够访问装载口和暂存区。与此不同，公知有在对盒进行保管的储料器中设置清洗装置、利用N2气体等对盒进行清洗的技术。然而，在储料器以外的场所无法进行清洗。现有技术文献专利文献专利文献1:JP5229363B
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在从处理装置朝下一处理装置搬送的过程中，若利用N2气体等对容器进行清洗，则能够抑制晶片表面的氧化等。由此，针对朝下一处理装置的搬送时间的容许宽度增加。然而，若在处理装置内设置清洗装置，则将导致处理装置的较大程度的改造，因此这是不现实的。因此，在处理装置的附近需要盒的清洗装置。本专利技术的课题在于提供一种能够在装载口等交接场所的附近对容器进行清洗的装置。用于解决课题的手段本专利技术的清洗装置在桥式吊车与容器交接目的地之间利用清洗气体对容器进行清洗，具备：本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。在本专利技术的清洗方法中，利用清洗装置，在桥式吊车和容器交接目的地之间，将容器暂时载置于清洗台，借助清洗气体供给装置而利用清洗气体对容器进行清洗，上述清洗装置具备：本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。在本专利技术中，能够在容器的交接目的地附近，在等待由桥式吊车进行的搬送的期间，对容器进行清洗。收纳在容器内的物品为半导体的晶片、食品、医药品等，若在物品的处理后对容器进行清洗，则能够减少在等待下一处理等的期间的物品的污染、氧化等。并且，若在物品的处理前对容器进行清洗，则能够预先对物品的表面进行清洁。另外，升降机在实施例中相当于升降装置和升降台，交接目的地在实施例中相当于处理装置的装载口。清洗台在实施例中相当于滑动架和固定架，清洗气体供给装置在实施例中相当于供气嘴及其配管。在本说明书中，与清洗装置相关的记载也能够直接适用于清洗方法。优选形成为：作为清洗台设置有滑动架，该滑动架在与容器交接位置的正上部不同的位置和正上部之间滑动自如。若使用滑动架，则无需使本地台车行走就能够朝容器的交接目的地交付容器，滑动方向是与本地台车的行走方向在水平面内例如成直角的方向。优选形成为：作为清洗台，除了滑动架以外还设置有固定的架，而且，清洗装置的控制部以在滑动架优先对要朝交接目的地交付的容器进行清洗的方式选择载置容器的清洗台，并控制本地台车。通过设置固定的架能够增加清洗台的数目，能够更迅速地交付要朝交接目的地交付的容器。优选形成为：清洗装置设置在洁净室的顶棚部，且从顶棚部接受清洗气体的供给。若设置于顶棚部，则清洗装置不占据地面，并且，在洁净室的顶棚多设置有N2气体、干燥洁净空气等清洗气体的配管，因此能够容易地接受清洗气体的供给。优选形成为：容器是收纳半导体晶片的盒，并且，容器的交接目的地是半导体的处理装置的装载口。这样，能够在将容器朝装载口交接而利用处理装置对半导体晶片进行处理之前或者之后对容器进行清洗。优选形成为：清洗台还在与容器交接目的地的正上部不同的位置具备固定部，滑动架在固定部上方的位置和容器交接目的地的正上部之间滑动自如，清洗气体供给装置具备：供气嘴，设置于滑动架且朝容器内供给清洗气体；以及配管，从固定部朝供气嘴供给清洗气体，配管具备弯曲自如的弯曲部，在滑动架和固定部之间设置有将弯曲部支承为弯曲自如的导缆器。若利用导缆器支承配管的弯曲部，则能够容易朝滑动架的供气嘴供给清洗气体。尤其优选形成为：在滑动架上设置有检测来自容器的载荷的载荷传感器，清洗气体供给装置构成为：当利用载荷传感器检测到来自容器的载荷时，从供气嘴供给清洗气体，载荷传感器的电源线和信号线与配管一起被支承于导缆器。当利用载荷传感器检测到来自容器的载荷时则供给清洗气体，因此能够有效地使用清洗气体。并且，能够利用导缆器不仅支承配管，还支承电源线和信号线。附图说明图1是实施例的清洗装置和周围的桥式吊车系统以及处理装置的带局部剖切部的主视图。图2是实施例的清洗装置和处理装置的带局部剖切部的俯视图。图3是实施例的滑动架的俯视图。图4是实施例的本地台车的俯视图。图5是示出实施例的控制系统的框图。图6是第2实施例的清洗装置的俯视图。具体实施方式以下，示出用于实施本专利技术的最佳实施例。本专利技术的范围应当基于权利要求书中的记载，并一并参照说明书的记载和本领域中的公知技术而根据本领域技术人员的理解来确定。实施例图1～图6示出实施例及其变形例。图1、图2示出实施例的清洗装置20、周围的处理装置2以及桥式吊车系统8。处理装置2具备装载口4，装载口4是盒6的交接目的地的一例。处理装置2可以是如文字记载的处理装置，也可以是检查装置等，或者代替处理装置2也可以是空盒的放置场所等。对于盒6，除了收纳作为产品的半导体晶片的盒之外，也可以是收纳工序管理用、检查用等的晶片的盒或者空盒等，也可以并不收纳半导体晶片而收纳中间掩模等。在实施例中，作为盒6，假想是FOUP。桥式吊车系统8具备行走轨道10和桥式吊车12，行走轨道10在装载口4的正上方通过，且从洁净室的顶棚等被支承。在桥式吊车12中，例如利用横移装置13和转动装置14而使升降装置15横向移动并且转动，利用升降装置15使能够自由地装夹盒6的升降台16升降。清洗装置20具备本地台车22及其行走轨道24，盒6能够沿上下方向自由地通过行走轨道24的一对轨道之间的开口26。在行走轨道24的下部设置有带清洗装置的暂存区。在暂存区中，在装载口4的正上部设置有在图1的左右方向(与行走轨道24的长边方向在水平面内成直角的方向)滑动自如的滑动架28，在从装载口4的正上部离开的位置例如设置有2个固定架30。在滑动架28的下部设置有固定部29，收容有滑动机构和清洗用的部件，在固定架30的下部也安装有未图示的清洗用的部件。并且，清洗装置20借助支柱31而被安装于桥式吊车12的行走轨道10，但也可以从地面侧进行支承。另外，清洗装置20的清洗用的气体、电力等经由支柱31等而从洁净室的顶棚侧接受供给，但也可以从地面侧接受供给。图3示出滑动架28，滑动架28沿着引导件32而相对于固定部29进退。滑动机构的构造是任意的，例如利用借助N2气体等动作的缸34而使固定于活塞36的中间部38进退。进而，利用未图示的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗装置，在桥式吊车与容器交接目的地之间利用清洗气体对容器进行清洗，具备：本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.25 JP 2014-1951521.一种清洗装置，在桥式吊车与容器交接目的地之间利用清洗气体对容器进行清洗，具备：本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，上述清洗台具备滑动架，该滑动架在与容器交接位置的正上部不同的位置和上述正上部之间滑动自如。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，作为上述清洗台，除了上述滑动架以外还设置有固定的架，上述清洗装置还具备控制部，该控制部以在上述滑动架优先对要朝上述交接目的地交付的容器进行清洗的方式选择载置容器的清洗台，并控制本地台车。4.根据权利要求1～3中任一项所述的清洗装置，其特征在于，构成为：设置在洁净室的顶棚部，且从上述顶棚部接受清洗气体的供给。5.根据权利要求1～4中任一项所述的清洗装置，其特征在于，上述容器是收纳半导体晶片的盒，并且，上述交接目的地是半导体的处理装置的装载口...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩崎顺次，
申请(专利权)人：村田机械株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP