光学膜用组合物、具有光学膜的基材、成形体及成形体的制造方法技术

光学膜用的组合物包含二氧化硅系中空微粒、基质前体、不挥发性液体和挥发性溶剂。不挥发性液体的25℃下的蒸气压为500Pa以下，不挥发性液体的沸点为250℃以上。挥发性溶剂具有比不挥发性液体高的挥发性。不挥发性液体的含量相对于二氧化硅系中空微粒及基质前体成分的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。

Composition for optical film, substrate with optical film, forming body and method for manufacturing molded body

Compositions for optical films include silica hollow particles, matrix precursors, non-volatile liquids, and volatile solvents. The vapor pressure of the non volatile liquid is below 500Pa at 25 DEG C, and the boiling point of the non-volatile liquid is above 250 DEG C. Volatile solvents have a higher volatility than non-volatile liquids. The total mass of the nonvolatile liquid relative to the silica hollow particles and the matrix precursor component 100, the mass fraction is 0.1, the mass fraction is more than 30, and the mass fraction is below.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜用组合物、具有光学膜的基材、成形体及成形体的制造方法
本公开涉及用于在显示装置等的表面形成防止外界光的反射的防反射膜等光学膜的组合物、在表面设置有光学膜的基材及成形体、及成形体的制造方法。
技术介绍
以往，提出了用于保护在手机、平板终端及汽车导航等中使用的显示装置的表面的膜等。例如，在专利文献1、2中提出了在树脂膜的一个面设置粘合剂层而贴附到显示器面板的表面的保护膜。此外，在显示装置中，为了防止外界光在显示画面中反射而使所显示的图像等变得看不清楚，有时以设置有防眩层或防反射膜的塑料膜等基材来构成显示画面的最表层。或者，有时在显示画面上贴附那样的基材。对于设置有防反射膜的基材，要求光线透射率高、或能够变形为各种显示装置的形状、或者这两者。具有防眩层的膜例如在专利文献3中被提出。在防眩层中，通常，平均粒径为数微米左右的微粒被分散在树脂中。并且，防眩层利用由微粒产生的光的散射，防止外界光的映入。在专利文献3中，作为微粒，使用在单孔结构的中空树脂微粒的空隙中内包有透明液体的粒子，该透明液体具有与该中空树脂微粒的壳不同的折射率。在防反射膜中，平均粒径为纳米级(例如为200nm以下)的中空微粒被分散在树脂中。防反射膜的厚度为100nm左右。防反射膜利用光的干涉效果，将入射光与反射光互相抵消而降低反射率。防反射膜可以如以下那样操作而形成。首先，将使中空微粒分散到紫外线固化型树脂或热固性树脂中而得到的混合物用异丙醇等挥发性溶剂稀释，准备组合物。接着，在基体的表面涂布该组合物后，通过紫外线照射或加热使树脂固化。这样操作，能够制作具有基体和设置于其表面的防反射膜的基材。构成防反射膜及基体的材料按照防反射膜的折射率(n1)、基体的折射率(n2)、防反射膜的厚度(d)满足以下的式1及式2的方式来选择。n1＝(n2)1/2(式1)n1×d＝λ/4(式2)式2中，λ为可见光的波长(约400nm到约1000nm左右)。通常，λ以相对于人类的眼睛的视见度最高的580nm作为基准，但根据显示装置的用途等有时也以其他的波长作为基准。若防反射膜和基体满足式1及式2、并且防反射膜及基体均为无色透明，则在防反射膜的表面能够使反射率为零。然而，由于难以准备满足式1的材料，所以流通的具有防反射膜的基材的可见光反射率为1％左右。关于防反射膜其自身、或构成防反射膜的要素、或形成防反射膜的基体，提出了各种方案。例如，专利文献4提出了适于构成防反射膜的中空微粒。特别是专利文献5、6公开了作为防反射膜用途使用的二氧化硅系中空微粒。专利文献7提出了适于构成防反射膜的介孔二氧化硅膜。专利文献8提出了对于形成防反射膜的基体而言适合的光学膜。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平4-030120号公报专利文献2：日本特开2000-56694号公报专利文献3：日本特开2009-229556号公报专利文献4：日本特开2008-110905号公报专利文献5：日本特开2001-233611号公报专利文献6：日本特开2004-203683号公报专利文献7：日本特开2012-25650号公报专利文献8：日本特开2008-208231号公报
技术实现思路
本公开提供能够形成在指纹等污垢附着时该污垢不易显眼、或容易将该污垢擦去的光学膜的组合物。此外本公开提供在表面具有这样的光学膜的基材及在表面具有该基材的成形体。基于本公开的光学膜用的组合物包含二氧化硅系中空微粒、基质前体、不挥发性液体和挥发性溶剂。不挥发性液体的25℃下的蒸气压为500Pa以下，不挥发性液体的沸点为250℃以上。挥发性溶剂具有比不挥发性液体高的挥发性。不挥发性液体的含量相对于二氧化硅系中空微粒及基质前体成分的合计质量为0.1质量％以上且30质量％以下。基于本公开的基材具有基材层、和设置于该基材层的一个表面的光学膜。光学膜包含二氧化硅系中空微粒、基质、和25℃下的蒸气压为500Pa以下且沸点为250℃以上的不挥发性液体。该不挥发性液体的含量相对于二氧化硅系中空微粒及基质的合计质量为0.1质量％以上且30质量％以下。基于本公开的成形体具有成形本体部、和将该成形本体部的表面的至少一部分覆盖的上述的基材。成形本体部与基材一体地成形。在基于本公开的成形体的制造方法中，在基体的一个表面涂布上述的组合物。另外，基质前体为热固性树脂。然后，使挥发性溶剂干燥，在基体的表面形成干燥膜。将形成有该干燥膜的基体按照干燥膜与模相接的方式配置在树脂成形用的模中。然后，与基体中没有形成干燥膜的表面相接地将树脂成形而制作成形本体部。在干燥膜中基质前体没有完全固化，在将树脂成形时使基质前体完全固化，形成在成形本体部的表面具有光学膜的基材。在通过本公开的组合物而形成的光学膜中，即使是在指纹等污垢附着时，污垢也不易显眼，或者能够将该污垢容易地擦去。此外，在本公开的组合物中，若基质前体为热固性树脂，则在基体的表面涂布组合物后，能够形成热固性树脂没有完全固化的状态的干燥膜。这种情况下，光学膜通过由热固性树脂没有完全固化的状态进一步被加热并固化而完成。若在设置有热固性树脂没有完全固化的状态的干燥膜的基体的背面侧，例如通过嵌入成形而一体地形成成形本体部，则能够在光学膜中不产生裂纹等的情况下与嵌入成形同时使光学膜完成(完全固化)。附图说明图1是基于本公开的实施方式的成形体的表面附近的放大示意截面图。具体实施方式[以至得到实施方式的原委]在说明本公开的实施方式之前，对达到本公开的原委进行简单说明。在以往的防反射膜中，为了提高所附着的指纹等污垢的易擦去性，可列举出各种改良方法。例如考虑了提高作为基质的树脂的防水防油性。然而，通过该方法得不到充分的改善。因此，为了查明污垢难以擦去的原因，对防反射膜进行了详细观察，结果获知，在防反射膜的表面在二氧化硅系中空微粒间产生空隙，污垢进入该空隙中，变得难以擦去。认为该空隙是由于组合物中的基质前体的量少，在形成膜时基质没有充分地遍及二氧化硅系中空微粒间而产生的。或者，认为是由于在基质前体的固化时产生缩合反应等，生成不构成基质的化合物(例如水)，基质按所生成的化合物部分的量减少而产生的。基于该认识，认为若使用含有具有一定程度的流动性的成分的组合物来形成防反射膜，则即使在膜的形成时产生空隙，也由于该流动性成分将空隙填埋，所以污垢的擦去性提高。并且，作为流动性成分，若使用不会因在膜的形成时施加的热或紫外线的作用而挥发的不挥发性液体，则膜的擦去性提高。此外，污垢的擦去性的问题在使用热固性树脂作为基质前体时容易产生。认为这是由于，作为防反射膜的基质前体能够使用的热固性树脂在固化时通过缩合反应等而容易产生不构成作为基质的树脂的成分(例如水)。另一方面，在使用紫外线固化型树脂的情况下，污垢的擦去性比较良好。认为这是由于，在紫外线固化型树脂固化时产生加成反应，不构成基质的化合物不会生成。因此，若仅考虑污垢的擦去性，则只要使用加成反应型的紫外线固化型树脂作为基质前体即可。然而，由包含紫外线固化型树脂作为基质前体的组合物形成的防反射膜一般较硬。因此，若在使设置有防反射膜的基材根据显示装置的形状而屈曲或弯曲的状态下，在基材的与防反射膜相反的一侧通过注塑成形等而形成树脂层，则在防反射膜中变得容易产生裂纹。因此，具有以紫外线固化型树脂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学膜用的组合物，其包含：二氧化硅系中空微粒、基质前体、25℃下的蒸气压为500Pa以下、并且沸点为250℃以上的不挥发性液体、和具有比所述不挥发性液体高的挥发性的挥发性溶剂，所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质前体的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.05 JP 2015-1553591.一种光学膜用的组合物，其包含：二氧化硅系中空微粒、基质前体、25℃下的蒸气压为500Pa以下、并且沸点为250℃以上的不挥发性液体、和具有比所述不挥发性液体高的挥发性的挥发性溶剂，所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质前体的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。2.根据权利要求1所述的光学膜用的组合物，其中，所述不挥发性液体为液体石蜡、氟化合物、硅酮化合物及醚化合物中的至少1者。3.根据权利要求1、2中任一项所述的光学膜用的组合物，其中，23℃下的所述不挥发性液体的粘度为1Pa·s以下。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜用的组合物，其中，所述基质前体为热固性树脂。5.一种基材，其具备：基材层、和设置于所述基材层的一个表面上的光学膜，所述光学膜包含：二氧化硅系中空微粒、基质、和25℃下的蒸气压为500Pa以下、并且沸点为250℃以上的不挥发性液体，所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。6.根据权利要求5所述的基材，其中，所述不挥发性液体为液体石蜡、氟化合物、硅酮化合物及醚化合物中的至少1者。7.根据权利要求5、6中任一项所述的基材，其中，23℃下的所述不挥发性液体的粘度为1Pa·s以下。8.根据权利要求5～7中任一项所述的基材，其中，所述基质为热固性树脂的固化物。9.根据权利要求5～8中任一项所述的基材，其中，所述二氧化硅系中空微粒与所述基质的合计折射率为1.3以上且1.49以下，所述不挥发性液体的折射率与所述二氧化硅系中空微粒和所述基质的合...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀贤哉，井上博文，柴田信彦，竹内秀树，杉本诚志，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP