An apparatus and method for continuously applying nano laminated materials by electrodeposition are described herein.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于连续施加纳米层压金属涂层的方法和装置相关申请的交叉引用本申请要求2014年9月18日提交的美国临时专利申请号62/052,345的权益,所述申请以引用的方式整体并入本文。此外,2013年3月15日提交的美国临时申请号61/802,102和2014年3月18日提交的国际专利申请号PCT/US2014/31101的公开内容以引用的方式整体并入本文。背景在过去的几十年已经广泛地研究了纳米层压材料。结果是,那些材料的一些期望的先进性能特征已被发现并且它们在众多领域中的潜在应用已得到承认。尽管纳米层压材料在众多领域(包括民用基础设施、汽车、航天航空、电子和其它领域)中的潜在应用已得到承认,但是总体来说,所述材料由于缺少其生产的连续工艺而不可大量使用。概述本文描述用于通过电沉积连续施加纳米层压材料的装置和方法。在一些实施方案中,所述方法对耐腐蚀或可接受耐用涂饰剂(例如,涂料粉末涂层等)的材料(例如钢)赋予稳定的机械和化学涂饰剂。附图简述图1A和1B分别示出根据本文公开的各种实施方案的电镀槽的顶视图和侧视图;图2A和2B分别示出根据本文公开的各种实施方案的三重冲洗单元的顶视图和侧视图;图3A和3B分别示出根据本文描述的各种实施方案的组合电镀槽和三重冲洗单元的顶视图和侧视图;图4A和4B分别示出根据本文公开的各种实施方案的五重冲洗单元的顶视图和侧视图;图5A和5B分别示出根据本文公开的各种实施方案的组合电镀槽和双重冲洗单元的顶视图和侧视图;图6A和6B分别示出根据本文公开的各种实施方案的组合浸没槽和五重冲洗单元的顶视图和侧视图;图7A和7B分别示出根据本文公开的各种实施 ...
【技术保护点】
一种用于电沉积纳米层压涂层的装置,其包括:至少第一电沉积槽和第二电沉积槽,所述电沉积槽中的每个包括电极,导电性工件以一定速率移动通过所述电沉积槽,以及速率控制机构,其控制所述工件移动通过所述电沉积槽的所述速率;其中每个电沉积槽任选地包括混合器,所述混合器用于在电沉积工艺期间在其各自电沉积槽中搅拌电解质;其中每个电沉积槽任选地包括流动控制单元,所述流动控制单元用于将电解质施加至所述工件;以及其中每个电沉积槽具有电源,所述电源当所述工件移动通过每个电沉积槽时以随时间变化的方式控制施加于所述工件的电流密度。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.18 US 62/052,3451.一种用于电沉积纳米层压涂层的装置,其包括:至少第一电沉积槽和第二电沉积槽,所述电沉积槽中的每个包括电极,导电性工件以一定速率移动通过所述电沉积槽,以及速率控制机构,其控制所述工件移动通过所述电沉积槽的所述速率;其中每个电沉积槽任选地包括混合器,所述混合器用于在电沉积工艺期间在其各自电沉积槽中搅拌电解质;其中每个电沉积槽任选地包括流动控制单元,所述流动控制单元用于将电解质施加至所述工件;以及其中每个电沉积槽具有电源,所述电源当所述工件移动通过每个电沉积槽时以随时间变化的方式控制施加于所述工件的电流密度。2.如权利要求1所述的装置,其中以随时间变化的方式控制所述电流密度包括在所述工件移动通过至少一个电沉积槽时将两种或更多种、三种或更多种或四种或更多种不同的电流密度施加于所述工件。3.如权利要求2所述的装置,其中以随时间变化的方式控制所述电流密度包括施加偏移电流,以使得当所述工件移动通过至少一个电沉积槽时所述工件保持为阴极而所述电极保持为阳极。4.如权利要求1或2所述的装置,其中所述随时间变化的方式包括以下中的一种或多种:改变基线电流、脉冲电流调制和反向脉冲电流调制。5.如前述权利要求中任一项所述的装置,其中一个或多个所述电沉积槽还包括超声搅拌器。6.如权利要求5所述的装置,其中每个超声搅拌器连续地或以脉冲方式独立地操作。7.如前述权利要求中任一项所述的装置,其中至少一个电沉积槽包括混合器,所述混合器独立地操作以可变地混合在其各自电沉积槽中放置的电解质。8.如前述权利要求中任一项所述的装置,其还包括所述工件从其移动至所述电沉积槽的第一位置,和/或用于在所述工件已移动通过一个或多个所述电沉积槽后接收所述工件的第二位置。9.如权利要求8所述的装置,其中所述第一和/或第二位置包括线轴或心轴。10.如权利要求9所述的装置,其中所述工件是可缠绕在所述线轴上或在所述心轴周围的电线、杆、片状物、链、线或管。11.如前述权利要求中任一项所述的装置,其中任何一个或多个所述电沉积槽包括水性电解质。12.如权利要求1-10中任一项所述的装置,其中任何一个或多个所述电沉积槽包括非水性电解质。13.如前述权利要求中任一项所述的装置,其中每种电解质包含对于每种电解质独立地选择的两种或更多种、三种或更多种或四种或更多种可电沉积的金属的盐。14.如前述权利要求中任一项所述的装置,其还包括在所述第一位置与所述电沉积槽之间的一个或多个位置,在所述位置中使所述工件与溶剂、酸、碱、蚀刻剂和冲洗剂中的一种或多种接触以除去所述溶剂、酸、碱或蚀刻剂。15.如前述权利要求中任一项所述的装置,其还包括在所述电沉积槽与所述第二位置之间的一个或多个位置,在所述位置中使所述涂覆工件经受以下中的一项或多项:用溶剂清洗、用酸清洗、用碱清洗、钝化处理或冲洗。16.一种电沉积纳米层压涂层的方法,其包括:提供装置,所述装置包括至少第一电沉积槽和第二电沉积槽;以及使工件以一定速率移动通过所述装置的至少所述第一电沉积槽和所述第二电沉积槽且当所述工件移动通过每个电沉积槽时以随时间变化的方式独立地控制混合速率和/或施加于所述工件的电流密度,从而电沉积包含纳米层压涂层和/或一个或多个细粒金属层的涂层;其中每个电沉积槽具有电源,所述电源当所述工件移动通过每个电沉积槽时以随时间变化的方式控制施加于所述工件的所述电流密度;以及其中每个电沉积槽包括电极和电解质,所述电解质包含对于每种电解质独立地选择的两种或更多种、三种或更多种或四种或更多种不同的可电沉积的金属的盐。17.如权利要求16所述的方法,其中以随时间变化的方式控制所述电流密度包括在所述工件移动通过至少一个电沉积槽时将两种或更多种、三种或更多种或四种或更多种不同的电流密度施加于所述工件。18.如权利要求16或17所述的方法,其中以随时间变化的方式控制所述电流密度包括施加偏移电流,以使得当所述工件移动通过至少一个电沉积槽时所述工件保持为阴极而所述电极保持为阳极。19.如权利要求16或17所述的方法,其中所述随时间变化的方式包括以下中的一种或多种:改变所述基线电流、脉冲电流调制和反向脉冲电流调制。20.如权利要求16-19中任一项所述的方法,其中一个或多个电沉积槽包括混合器,其中每个混合器独立地以单一速率或以不同速率操作以搅拌在其各自电沉积槽内的所述电解质。21.如权利要求16-20中任一项所述的方法,其中一个或多个电沉积槽包括超声搅拌器,其中每个搅拌器独立地连续或以非连续方式操作以控制所述混合速率。22.如权利要求16-21中任一项所述的方法,其还包括控制所述工件移动通过所述电沉积槽的所述速率。23.如权利要求16-22中任一项所述的方法,其中所述装置还包括所述工件从其移动至所述第一电沉积槽和所述第二电沉积槽的第一位置,和/或用于在所述工件已移动通过所述第一电沉积槽和所述第二电沉积槽后接收所述工件的第二位置,所述方法还包括使所述工件从所述第一位置移动至所述第一电沉积槽和所述第二电沉积槽和/或使所述工件从所述第一电沉积槽和所述第二电沉积槽移动至所述第二位置。24.如权利要求23所述的方法,其中所述装置还包括在所述第一位置与所述电沉积槽之间的一个或多个位置,并且所述方法还包括使所述工件与溶剂、酸、碱和蚀刻剂以及冲洗剂中的一种或多种接触以在所述第一位置与所述电沉积槽之间的一个或多个所述位置处除去所述溶剂、酸、碱或蚀刻剂。25.如权利要求23或24所述的方法,其中所述装置还包括在所述电沉积槽与所述第二位置之间的一个或多个位置,并且所述方法还包括使所述工件与溶剂、酸、碱、钝化剂和冲洗剂中的一种或多种接触以在所述电沉积槽与所述第二位置之间的一个或多个位置处除去所述溶剂、酸碱和/或钝化剂。26.如权利要求16-25中任一项所述的方法,其中所述工件由金属、导电性聚合物或通过包藏导电性材料或无电施加金属被赋予导电性的非导电性聚合物组成。27.如权利要求16-26中任一项所述的方法,其中所述工件是电线、杆、片状物、链、线或管。28.如权利要求16-27中任一项所述的方法,其中所述电解质是水性电解质。29.如权利要求16-27中任一项所述的方法,其中所述电解质是非水性电解质。30.如权利要求16-29中任一项所述的方法,其中电沉积纳米层压涂层或细粒金属包括所述电沉积包含一种或多种、两种或更多种、三种或更多种或四种或更多种不同元素的组合物,所述元素独立地选自Ag、Al...
【专利技术属性】
技术研发人员:克里斯蒂娜·A·罗玛瑟尼,
申请(专利权)人:莫杜美拓有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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