The invention provides a OLED display device and a manufacturing method thereof. The invention of the OLED display device and method of manufacturing the same, adding a layer of hydrophobic films through the thin film encapsulation structure in the OLED device, then the micro lens material droplet printing to the hydrophobic film, after curing to form a microlens array layer is composed of a plurality of micro lens array; the making method is not only process is simple, and it can make use of existing packaging equipment, process the economy is high, and the micro lens material droplet printing to a hydrophobic film, micro lens curing after the formation of a larger contact angle, is conducive to improve the optical coupling efficiency of the micro lens array, and thus enhance the optical efficiency of OLED devices. The invention of the OLED display device, add a layer of hydrophobic films through the thin film encapsulation structure in the OLED device, and then a layer of micro lens array is composed of a plurality of micro lens arrays formed on the hydrophobic film, is conducive to the light efficiency of OLED devices.
【技术实现步骤摘要】
OLED显示装置及其制作方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种OLED显示装置及其制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示器,也称为有机电致发光显示器,是一种新兴的平板显示装置,由于其具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。OLED按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(PassiveMatrixOLED,PMOLED)和有源矩阵型OLED(ActiveMatrixOLED,AMOLED)两大类,即直接寻址和薄膜晶体管矩阵寻址两类。其中,AMOLED具有呈阵列式排布的像素,属于主动显示类型,发光效能高,通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。OLED器件通常包括:基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED显示器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下,通过载流子注入和复合导致发光。具体的,OLED显示器件通常采用ITO像素电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极,在一定电压驱动下,电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层,电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层,并在发光层中相遇,形成激子并使发光分子激发,后者经过辐射弛豫而发出可见光。OLED器件制备完成后,为防止外界环 ...
【技术保护点】
一种OLED显示装置的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一OLED基板(10),所述OLED基板(10)包括衬底基板(11)、设于所述衬底基板(11)上的TFT层(12)、及设于所述TFT层(12)上的OLED器件(13);在所述OLED器件(13)及TFT层(12)上形成第一无机膜层(20),在所述第一无机膜层(20)上形成第一有机膜层(30),在所述第一有机膜层(30)上形成第二无机膜层(40);步骤2、在所述第二无机膜层(40)上形成一疏水薄膜(50),在所述疏水薄膜(50)上形成微透镜阵列(60)。
【技术特征摘要】
1.一种OLED显示装置的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一OLED基板(10),所述OLED基板(10)包括衬底基板(11)、设于所述衬底基板(11)上的TFT层(12)、及设于所述TFT层(12)上的OLED器件(13);在所述OLED器件(13)及TFT层(12)上形成第一无机膜层(20),在所述第一无机膜层(20)上形成第一有机膜层(30),在所述第一有机膜层(30)上形成第二无机膜层(40);步骤2、在所述第二无机膜层(40)上形成一疏水薄膜(50),在所述疏水薄膜(50)上形成微透镜阵列(60)。2.如权利要求1所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,所述疏水薄膜(50)的材料包括聚四氟乙烯;所述疏水薄膜(50)的厚度为10nm-1000nm;所述步骤2中,采用脉冲激光沉积设备来制备所述疏水薄膜(50)。3.如权利要求1所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,所述微透镜阵列(60)包括呈阵列排布的数个微透镜(61),所述微透镜(61)的形状为球形或椭球形;所述微透镜(61)的材料包括聚碳酸酯;所述步骤2中,采用喷墨打印设备在所述疏水薄膜(50)上打印出呈阵列排布的数个微透镜材料液滴,固化后,形成数个微透镜(61),构成所述微透镜阵列(60)。4.如权利要求1所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,还包括:步骤3、在所述微透镜阵列(60)及疏水薄膜(50)上形成第三无机膜层(70)。5.如权利要求4所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,还包括:步骤4、在所述第三无机膜层(70)上形成数层第二有机膜层(80)与数层第四无机膜层(90);所述数层第二有机膜层(80)与数层第四无机膜层(90)中,所述第二有机膜层(80)与第四无机膜层(90)交错设置,且与所述第三无机膜层(70)邻接的膜层为第二有机膜层(80);所述第一无机膜层(20)、第二无机膜层(40)、第三无机膜层(70)、及第四无机膜层(90)的材料分别包括氮化硅、氧化硅、及氧化铝中的至少一种;所述第一无机膜层...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄静,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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