OLED显示装置及其制作方法制造方法及图纸

技术编号:15510783 阅读:113 留言:0更新日期:2017-06-04 04:05
本发明专利技术提供一种OLED显示装置及其制作方法。本发明专利技术的OLED显示装置的制作方法,通过在OLED器件的薄膜封装结构中加入一层疏水薄膜,再将微透镜材料液滴打印到所述疏水薄膜上,固化之后形成一层由呈阵列排布的数个微透镜构成的微透镜阵列;该制作方法不仅工艺简单,而且可以利用现有的封装设备实现,制程经济性高,并且由于将微透镜材料液滴打印到疏水薄膜上,固化后形成的微透镜的接触角较大,有利于提高所述微透镜阵列的光耦合效率,进而提升OLED器件的出光效率。本发明专利技术的OLED显示装置,通过在OLED器件的薄膜封装结构中加入一层疏水薄膜,再于所述疏水薄膜上形成一层由呈阵列排布的数个微透镜构成的微透镜阵列,有利于提升OLED器件的出光效率。

OLED display device and manufacturing method thereof

The invention provides a OLED display device and a manufacturing method thereof. The invention of the OLED display device and method of manufacturing the same, adding a layer of hydrophobic films through the thin film encapsulation structure in the OLED device, then the micro lens material droplet printing to the hydrophobic film, after curing to form a microlens array layer is composed of a plurality of micro lens array; the making method is not only process is simple, and it can make use of existing packaging equipment, process the economy is high, and the micro lens material droplet printing to a hydrophobic film, micro lens curing after the formation of a larger contact angle, is conducive to improve the optical coupling efficiency of the micro lens array, and thus enhance the optical efficiency of OLED devices. The invention of the OLED display device, add a layer of hydrophobic films through the thin film encapsulation structure in the OLED device, and then a layer of micro lens array is composed of a plurality of micro lens arrays formed on the hydrophobic film, is conducive to the light efficiency of OLED devices.

【技术实现步骤摘要】
OLED显示装置及其制作方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种OLED显示装置及其制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示器,也称为有机电致发光显示器,是一种新兴的平板显示装置,由于其具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。OLED按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(PassiveMatrixOLED,PMOLED)和有源矩阵型OLED(ActiveMatrixOLED,AMOLED)两大类,即直接寻址和薄膜晶体管矩阵寻址两类。其中,AMOLED具有呈阵列式排布的像素,属于主动显示类型,发光效能高,通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。OLED器件通常包括:基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED显示器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下,通过载流子注入和复合导致发光。具体的,OLED显示器件通常采用ITO像素电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极,在一定电压驱动下,电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层,电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层,并在发光层中相遇,形成激子并使发光分子激发,后者经过辐射弛豫而发出可见光。OLED器件制备完成后,为防止外界环境中的水汽和氧气侵入器件内部,影响其使用寿命,通常还需要对OLED器件进行封装,薄膜封装技术(TFE)是目前常见的OLED封装技术之一,其主要采用无机/有机薄膜交替生长的方法来形成OLED器件的封装层,其中所述无机薄膜可以通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、原子层沉积(ALD)、溅射(Sputter)或脉冲激光沉积(PLD)等方法制备。随着新材料和新工艺的不断开发,有机发光二极管(OLED)的理论内量子效率已经接近100%,但其光耦合效率仍然很低。因为基板、有机层以及封装层等材料的折射率差异,OLED发出的光通量主要有以下三个去向:波导模式、基板模式、及空气模式,而通常只有20%左右的光能出射到器件外。为了提高OLED的光耦合效率,人们通常会在基板和空气界面加上一层微透镜阵列结构来减小因基板模式而损失的光通量,结果表明OLED的光耦合效率可以提高50%左右。而光学计算结果也表明当半球形的微棱镜材料和基板的折射率匹配时,光耦合效率可以提高45%。半球形微透镜阵列的制备通常采用光刻胶热熔法或刻蚀法,这些方法不仅工艺复杂,而且材料选择有限。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种OLED显示装置的制作方法,能够提高OLED器件的出光效率。本专利技术的目的还在于提供一种OLED显示装置,OLED器件的出光效率较高。为实现上述目的,本专利技术提供一种OLED显示装置的制作方法,包括如下步骤:步骤1、提供一OLED基板,所述OLED基板包括衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、及设于所述TFT层上的OLED器件;在所述OLED器件及TFT层上形成第一无机膜层,在所述第一无机膜层上形成第一有机膜层,在所述第一有机膜层上形成第二无机膜层;步骤2、在所述第二无机膜层上形成一疏水薄膜,在所述疏水薄膜上形成微透镜阵列。所述疏水薄膜的材料包括聚四氟乙烯;所述疏水薄膜的厚度为10nm-1000nm;所述步骤2中,采用脉冲激光沉积设备来制备所述疏水薄膜。所述微透镜阵列包括呈阵列排布的数个微透镜,所述微透镜的形状为球形或椭球形;所述微透镜的材料包括聚碳酸酯;所述步骤2中,采用喷墨打印设备在所述疏水薄膜上打印出呈阵列排布的数个微透镜材料液滴,固化后,形成数个微透镜,构成所述微透镜阵列。优选的,所述OLED显示装置的制作方法还包括:步骤3、在所述微透镜阵列及疏水薄膜上形成第三无机膜层。更优选的,所述OLED显示装置的制作方法还包括:步骤4、在所述第三无机膜层上形成数层第二有机膜层与数层第四无机膜层;所述数层第二有机膜层与数层第四无机膜层中,所述第二有机膜层与第四无机膜层交错设置,且与所述第三无机膜层邻接的膜层为第二有机膜层;所述第一无机膜层、第二无机膜层、第三无机膜层、及第四无机膜层的材料分别包括氮化硅、氧化硅、及氧化铝中的至少一种;所述第一无机膜层、第二无机膜层、第三无机膜层、及第四无机膜层的厚度分别为1μm-2μm;所述第一有机膜层与第二有机膜层的厚度分别为1μm-10μm。本专利技术还提供一种OLED显示装置,包括:衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、设于所述TFT层上的OLED器件、设于所述OLED器件及TFT层上的第一无机膜层、设于所述第一无机膜层上的第一有机膜层、设于所述第一有机膜层上的第二无机膜层、设于所述第二无机膜层上的疏水薄膜、及设于所述疏水薄膜上的微透镜阵列。所述疏水薄膜的材料包括聚四氟乙烯;所述疏水薄膜的厚度为10nm-1000nm。所述微透镜阵列包括呈阵列排布的数个微透镜,所述微透镜的形状为球形或椭球形;所述微透镜的材料包括聚碳酸酯。优选的,所述OLED显示装置还包括:设于所述微透镜阵列及疏水薄膜上的第三无机膜层。更优选的,所述OLED显示装置还包括:设于所述第三无机膜层上的数层第二有机膜层与数层第四无机膜层;所述数层第二有机膜层与数层第四无机膜层中,所述第二有机膜层与第四无机膜层交错设置,且与所述第三无机膜层邻接的膜层为第二有机膜层;所述第一无机膜层、第二无机膜层、第三无机膜层、及第四无机膜层的材料分别包括氮化硅、氧化硅、及氧化铝中的至少一种;所述第一无机膜层、第二无机膜层、第三无机膜层、及第四无机膜层的厚度分别为1μm-2μm;所述第一有机膜层与第二有机膜层的厚度分别为1μm-10μm。本专利技术的有益效果:本专利技术提供的一种OLED显示装置的制作方法,通过在OLED器件的薄膜封装结构中加入一层疏水薄膜,再将微透镜材料液滴打印到所述疏水薄膜上,固化之后形成一层由呈阵列排布的数个微透镜构成的微透镜阵列;该制作方法不仅工艺简单,而且可以利用现有的封装设备实现,制程经济性高,并且由于将微透镜材料液滴打印到疏水薄膜上,固化后形成的微透镜的接触角较大,有利于提高所述微透镜阵列的光耦合效率,进而提升OLED器件的出光效率。本专利技术提供的一种OLED显示装置,通过在OLED器件的薄膜封装结构中加入一层疏水薄膜,再于所述疏水薄膜上形成一层由呈阵列排布的数个微透镜构成的微透镜阵列,所述微透镜的接触角较大,有利于提高所述微透镜阵列的光耦合效率,进而提升OLED器件的出光效率。为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
,请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本专利技术加以限制。附图说明为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果,以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。附图中,图1为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的流程图;图2-3为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤1的示意图;图4为本专利技术的OLED显示装置的制作方法的步骤2的本文档来自技高网
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OLED显示装置及其制作方法

【技术保护点】
一种OLED显示装置的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一OLED基板(10),所述OLED基板(10)包括衬底基板(11)、设于所述衬底基板(11)上的TFT层(12)、及设于所述TFT层(12)上的OLED器件(13);在所述OLED器件(13)及TFT层(12)上形成第一无机膜层(20),在所述第一无机膜层(20)上形成第一有机膜层(30),在所述第一有机膜层(30)上形成第二无机膜层(40);步骤2、在所述第二无机膜层(40)上形成一疏水薄膜(50),在所述疏水薄膜(50)上形成微透镜阵列(60)。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示装置的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一OLED基板(10),所述OLED基板(10)包括衬底基板(11)、设于所述衬底基板(11)上的TFT层(12)、及设于所述TFT层(12)上的OLED器件(13);在所述OLED器件(13)及TFT层(12)上形成第一无机膜层(20),在所述第一无机膜层(20)上形成第一有机膜层(30),在所述第一有机膜层(30)上形成第二无机膜层(40);步骤2、在所述第二无机膜层(40)上形成一疏水薄膜(50),在所述疏水薄膜(50)上形成微透镜阵列(60)。2.如权利要求1所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,所述疏水薄膜(50)的材料包括聚四氟乙烯;所述疏水薄膜(50)的厚度为10nm-1000nm;所述步骤2中,采用脉冲激光沉积设备来制备所述疏水薄膜(50)。3.如权利要求1所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,所述微透镜阵列(60)包括呈阵列排布的数个微透镜(61),所述微透镜(61)的形状为球形或椭球形;所述微透镜(61)的材料包括聚碳酸酯;所述步骤2中,采用喷墨打印设备在所述疏水薄膜(50)上打印出呈阵列排布的数个微透镜材料液滴,固化后,形成数个微透镜(61),构成所述微透镜阵列(60)。4.如权利要求1所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,还包括:步骤3、在所述微透镜阵列(60)及疏水薄膜(50)上形成第三无机膜层(70)。5.如权利要求4所述的OLED显示装置的制作方法,其特征在于,还包括:步骤4、在所述第三无机膜层(70)上形成数层第二有机膜层(80)与数层第四无机膜层(90);所述数层第二有机膜层(80)与数层第四无机膜层(90)中,所述第二有机膜层(80)与第四无机膜层(90)交错设置,且与所述第三无机膜层(70)邻接的膜层为第二有机膜层(80);所述第一无机膜层(20)、第二无机膜层(40)、第三无机膜层(70)、及第四无机膜层(90)的材料分别包括氮化硅、氧化硅、及氧化铝中的至少一种;所述第一无机膜层...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄静
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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