一种显示基板的制作方法及显示基板技术

本发明专利技术涉及一种显示基板的制作方法及显示基板，用以解决现有的OLED基板的制作工艺流程中，在制作时有机发光功能层会因为浸润的作用而使其形状发生弯曲，进而导致像素内部边缘区域的发光不均匀，影响整个器件的发光性能的问题。该方法包括：在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；在衬底基板的显示区域形成有机发光功能层；在像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。在制作显示基板时，可以通过增加的遮挡膜层，遮住非显示区域中造成发光不均匀的有机发光功能层的边缘区域，进而改善像素内部发光不均匀的现象，提高了整个显示基板的发光性能。

Method for producing display substrate and display substrate

The invention relates to a manufacturing method of a display substrate and a display substrate, with the production process in order to solve the existing OLED substrate, in the production of organic light emitting layer because of the infiltration of the shape of bending, resulting in internal pixel edge region light is not uniform, the luminescence effect of the whole device the problem. The method includes: a substrate in a non display area forming a pixel defining layer, pixel definition layer includes a hydrophobic layer on the upper layer and the lower layer is located in the hydrophilic region is formed; organic light emitting display function layer substrate; covering only the non display area of the block is formed in the pixel definition layer on layer. In the production of a display substrate, can be increased through the shielding layer, covering the non edge area that caused the light emitting organic light emitting layer uneven areas, thereby improving the pixel internal light uneven across the display substrate to improve the luminescent properties.

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制作方法及显示基板
本专利技术涉及显示基板
，尤其涉及一种显示基板的制作方法及显示基板。
技术介绍
目前，在制作OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)基板的工艺流程中，制作完像素定义层之后，像素定义层材料中的亚克力或聚酰亚胺材料沉积在下面，形成了像素定义层的下层；而像素定义层材料中的含氟树脂材料则上浮至表面，形成了像素定义层的上层。由于像素定义层的下层材料是亲水性材料，而像素定义层的上层材料是疏水性材料，在制作完像素定义层之后，进行有机发光功能层的沉积工艺过程中，有机发光功能层的材料会因为浸润的作用，而沿着下层的侧面攀爬而上，直到遇到下层和上层之间的界面才会停止，这就使得有机发光功能层的形状发生了弯曲，不再是均匀而平整的。同时，OLED基板中的各个有机发光功能层的制作都会有相同的问题，而这种厚薄的不均会导致像素内部发光的不均匀(主要是像素边缘区域的发光不均匀)，进而影响整个器件的发光性能。综上所述，现有的OLED基板的制作工艺流程中，在制作时有机发光功能层时会因为浸润的作用而使其形状发生弯曲，进而导致像素内部边缘区域的发光不均匀，影响整个器件的发光性能。
技术实现思路
本专利技术实施例提供的一种显示基板的制作方法及显示基板，用以解决现有的OLED基板的制作工艺流程中，在制作时有机发光功能层会因为浸润的作用而使其形状发生弯曲，进而导致像素内部边缘区域的发光不均匀，影响整个器件的发光性能的问题。本专利技术实施例提供的一种显示基板的制作方法，包括：在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，所述像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；在所述衬底基板的显示区域形成有机发光功能层；在所述像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。本专利技术实施例提供的显示基板的制作方法，在制作显示基板时，可以通过增加的遮挡膜层，遮住非显示区域中造成发光不均匀的有机发光功能层的边缘区域，进而改善像素内部发光不均匀的现象，提高了整个显示基板的发光性能。较佳的，在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，包括：采用旋涂的方式，将预设比例的疏水性材料和亲水性材料的混合材料涂到衬底基板上，形成混合材料的薄膜；对所述混合材料的薄膜进行前烘、曝光和显影处理，形成位于非显示区域的薄膜；对所述非显示区域的薄膜进行后烘处理，形成像素定义层，所述像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；其中，所述预设比例为疏水性材料和亲水性材料的比例不大于1：1。较佳的，对所述非显示区域的薄膜进行后烘处理，包括：对所述非显示区域的薄膜进行预设时长的热处理，以使形成的像素定义层中疏水层的边缘覆盖预设范围的亲水层的边缘；其中，所述预设时长为使所述疏水层的材料往所述亲水层的边缘流动的最短时长；所述预设范围为使所述显示基板中像素内部发光均匀的最小范围。较佳的，所述预设时长为30min-120min。较佳的，在所述衬底基板的显示区域形成有机发光功能层，包括：采用喷墨打印的方式，在所述衬底基板的显示区域形成有机发光功能层。较佳的，所述有机发光功能层包括：空穴注入层，空穴传输层，电致发光层，电子传输层，以及有机电子注入层。较佳的，在所述所述像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层，包括：在所述像素定义层上形成覆盖范围大于所述非显示区域范围的遮挡膜层，并在退火工艺后，使最后形成的遮挡膜层仅覆盖非显示区域。较佳的，所述遮挡膜层的材料与所述像素定义层的材料相同；或所述遮挡膜层的材料为疏水性材料。较佳的，所述遮挡膜层的厚度为1微米-2微米。本专利技术实施例提供的一种显示基板，包括：依次设置在衬底基板上的像素定义层、有机发光功能层和遮挡膜层；其中，所述像素定义层设置在非显示区域；所述有机发光功能层设置在显示区域，且有部分有机发光功能层的材料攀爬到所述像素定义层上；所述遮挡膜层仅设置在非显示区域，且完全覆盖所述部分有机发光功能层的材料。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制作方法的步骤流程图；图2为本专利技术实施例提供的一种设置有遮挡膜层的显示基板的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种形成像素定义层的方法步骤流程图；图4为本专利技术实施例提供的采用预设比例的混合材料制作的像素定义层的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，并不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。其中，附图中薄膜厚度和区域形状不反映其真实比例，目的只是示意说明本专利技术的内容。本专利技术实施例提供的显示基板，主要是针对OLED基板，是在现有的显示基板的基础上，对位于非显示区域的像素定义层进行改进，在像素定义层上增加了遮挡膜层，可以遮住非显示区域中造成发光不均匀的有机发光功能层的边缘区域，进而改善像素内部发光不均匀的现象，提高了整个显示基板的发光性能，在增加遮挡膜层的基础上，还可以通过调节制作材料的组分和优化退火工艺，进一步改善发光不均匀的现象。下面对其具体制作方法进行详细的说明。如图1所示，为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制作方法的步骤流程图，具体可以采用如下步骤实现：步骤101，在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；步骤102，在衬底基板的显示区域形成有机发光功能层；步骤103，在像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。本专利技术实施例提供的显示基板的制作方法，先制作像素定义层和有机发光功能层，之后再制作仅覆盖非显示区域的遮挡膜层，进而可以通过制作的遮挡膜层，遮住非显示区域中造成发光不均匀的有机发光功能层的边缘区域，改善像素内部发光不均匀的现象。在具体实施时，可以不限定制作像素定义层和有机发光功能层的具体方式，只要是在制作完有机发光功能层之后，再在非显示区域制作遮挡膜层即可。由于本专利技术实施例提供的显示基板的制作方法，主要是针对在制作时有机发光功能层会因为浸润的作用而使其形状发生弯曲，进而导致像素内部边缘区域的发光不均匀现象，而一般是在采用喷墨打印的方式制作有机发光功能层时，容易出现有机发光功能材料因为浸润的作用，攀爬到非显示区域的像素定义层上的现象。较佳的，步骤102包括：采用喷墨打印的方式，在衬底基板的显示区域形成有机发光功能层。具体的，上述有机发光功能层可以为任意的组成发光层的膜层，较佳的，有机发光功能层包括：空穴注入层，空穴传输层，电致发光层，电子传输层，以及有机电子注入层。由于在制作有机发光功能层时，每一个膜层都有可能因为浸润的作用攀爬到非显示区域的像素定义层上，为了使遮挡膜层更好的遮住发光不均匀的部分，因而需要制作完有机发光功能层之后，再制作遮挡膜层。步骤103中，在像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层，可以对像素边缘发光不均匀的区域进行遮挡，以解决像素边缘区域发光不均匀的问题。如图2所示，为本专利技术实施例提供的一种设置有遮挡膜层的显示基板的结构示意图；其中，201为衬底基板，202为像素定义层，2021为疏水层，2022为亲水层，203为有机发光功能层，204为遮挡膜层。具体的，在制作有机发光功能层时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，所述像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；在所述衬底基板的显示区域形成有机发光功能层；在所述像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，所述像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；在所述衬底基板的显示区域形成有机发光功能层；在所述像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在衬底基板的非显示区域形成像素定义层，包括：采用旋涂的方式，将预设比例的疏水性材料和亲水性材料的混合材料涂到衬底基板上，形成混合材料的薄膜；对所述混合材料的薄膜进行前烘、曝光和显影处理，形成位于非显示区域的薄膜；对所述非显示区域的薄膜进行后烘处理，形成像素定义层，所述像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层；其中，所述预设比例为疏水性材料和亲水性材料的比例不大于1：1。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述非显示区域的薄膜进行后烘处理，包括：对所述非显示区域的薄膜进行预设时长的热处理，以使形成的像素定义层中疏水层的边缘覆盖预设范围的亲水层的边缘；其中，所述预设时长为使所述疏水层的材料往所述亲水层的边缘流动的最短时长；所述预设范围为使所述显示基板中像素内部发光均匀的最小范围。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述预设时长...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢蒂旎，张晓晋，李伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11