The invention discloses a method for controlling the ultrathin wafer warpage, in layout design, layout design based on single chip geometry to determine the surface tension of the direction, and then arranged in a single chip, the surface tension of any adjacent chip set in the opposite direction. In the initial design phase of the ultra-thin wafer layout, the invention achieves the same surface tension of the wafer, reduces bending and improves the consistency of the chip performance. The invention does not cause waste of edge material and additional process handling procedures. The invention is applicable to warpage control in ultra-thin wafer fabrication.
【技术实现步骤摘要】
超薄晶圆翘曲的控制方法
本专利技术涉及超薄芯片制作工艺
,用于在超薄晶圆制作过程中控制其翘曲程度,具体地说是一种超薄晶圆翘曲的控制方法。
技术介绍
为提高产品性能,超薄芯片设计正得到越来越广泛的应用。通常集成电路晶圆厚度约1毫米,如果减薄成100微米以下,晶圆会弯曲变形,在大直径晶圆上(8英寸、12英寸…)尤其明显。为了减小超薄晶圆翘曲程度,人们进行了很多研究。公开号为US2013/0001766的美国专利介绍了一种工艺处理方法,Taiko工艺,通过在边缘留下一圈正常厚度的晶圆材料,实现控制中间晶圆材料弯曲程度的目的,缺点是:(1)边缘材料浪费了,增加成本;(2)在晶圆中心和边缘,表面应力不同,造成芯片性能差异;(3)翘曲的晶圆和随后工艺处理不匹配,后面工艺无法或者要特殊对待这种晶圆。专利号为US8536709的美国专利介绍了一种方法控制晶圆的翘曲,在晶圆磨薄后,用透明衬底托住超薄晶圆,缺点是需增加一道处理工序,制作托住晶圆的孔径。参考图1,单个芯片2通常是完全一致的单元,均匀分布在晶圆1上,在后端封装测试中,单个芯片2被切割下来,封装成产品。单个芯片2的表面张力是相同的,如果按照每个单个芯片2表面张力都朝向一样的方式排列单个芯片2,会造成累加效果,导致超薄晶圆向某一方向弯曲。
技术实现思路
为解决现有技术中存在的问题,本专利技术旨在提供一种超薄晶圆翘曲的控制方法,在超薄晶圆版图初始设计阶段就达到晶圆各处表面张力的一致,减少弯曲,提高芯片性能的一致性,并且不需要增加额外工艺处理程序。本专利技术为实现上述目的,通过以下技术方案实现:一种超薄晶圆翘曲的控制方 ...
【技术保护点】
一种超薄晶圆翘曲的控制方法,所述超薄晶圆包括若干单个芯片,每一单个芯片包括若干元胞,其特征在于:在版图设计时,根据单个芯片的版图设计的几何形状确定其表面张力的方向,然后排列单个芯片,使任意相邻单个芯片的表面张力指向相反方向。
【技术特征摘要】
1.一种超薄晶圆翘曲的控制方法,所述超薄晶圆包括若干单个芯片,每一单个芯片包括若干元胞,其特征在于:在版图设计时,根据单个芯片的版图设计的几何形状确定其表面张力的方向,然后排列单个芯片,使任意相邻单个芯片的表面张力指向相反方向。2.根据权利要求1所述的超薄晶圆翘曲的控制方法,其特征在于:所述单个芯片在设计时,将单个芯片所含的每个元胞的长度设计为宽度的2倍;每个元胞组由第一元胞、第二元胞、第三元胞组成,将第一元胞竖置,第二元胞和第三元胞上下水平叠置于第一元胞的同一侧,且第二元胞和第三元胞的表面张力指向远离第一元胞的方向;每一单个芯片包括至少一个元胞组;当每一单个芯片所包括的元胞组数量为至少两个时,任一元胞组中三个元胞的分布状态,与该元胞组的周围的任一元胞组的三个元胞的分布状态于超薄晶圆所...
【专利技术属性】
技术研发人员:步建康,徐朝军,李士垚,
申请(专利权)人:河北昂扬微电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:河北,13
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