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一种还原氧化钨纳米片的制备方法技术

技术编号:15495405 阅读:367 留言:0更新日期:2017-06-03 15:15
一种还原氧化钨纳米片的制备方法,包括以下步骤:(1)根据还原氧化钨的制备量,称取适量的钨酸盐,并按照钨酸盐中钨与有机酸中羧基的摩尔比为1~3,称取相应量的有机酸;(2)将步骤(1)中称取的反应物装入球磨机中,加入反应物质量1~30%的溶剂,球磨0.5~6小时,取出球磨后的物料和磨球,40~100℃干燥1~10小时后,再球磨0.5~4小时;(3)取出步骤(2)得到的产物,洗涤、过滤和干燥;(4)将步骤(3)中所得产物放入还原炉,在还原气体气氛下,400~1000℃保温0.5~6小时,即得还原氧化钨。本发明专利技术具有原料易得,设备简单,合成产率高,无需添加剂,绿色环保和成本低廉的特点。

Method for preparing reduced tungsten oxide nano plate

A tungsten oxide nano film preparation method comprises the following steps: (1) according to the amount of preparation of tungsten oxide, called tungstate amount, and in accordance with the molar ratio of carboxyl tungstate tungsten and organic acid in 1~3, said the corresponding amount of organic acid; (2) the step (1) said the reactant is arranged into the ball mill, adding quality 1~30% reaction solvent, milling 0.5~6 hours, remove the milled materials and grinding ball, drying at 40~100 Deg. C for 1~10 hours, then milling 0.5~4 hours; (3) out of step (2) obtained products, washing, filtering and drying; (4) the step (3) in the product into the reduction furnace, reducing gas in the atmosphere, 400 ~ 1000 DEG C for 0.5 to 6 hours, the reduction of tungsten oxide. The invention has the advantages of easy availability of raw materials, simple equipment, high synthesis yield, no additive, green environment protection and low cost.

【技术实现步骤摘要】
一种还原氧化钨纳米片的制备方法
本专利技术属于金属氧化物粉体制备
,涉及还原氧化钨纳米片的制备方法。技术背景纳米WO3在光致变色、电致变色、催化等方面性能优异,不同氧指数的还原氧化钨是具有深蓝色金属光泽的金属氧化物,通常是金属导体或者半导体,其通式为WOx(2<x<3),随着x的不同,其颜色与性能也会有所差异。纳米还原氧化钨因其优异的可见光透过率和红外屏蔽性能而在玻璃透明隔热涂层中有广泛的应用前景。目前制备纳米还原氧化钨的方法有很多种,专利CN102921006A公开了一中还原氧化钨的合成方法,使用钨盐作为钨源,加入有机溶剂,搅拌至溶解,再将混合液加入高压反应釜中,在温度为100~240℃反应0.5~48小时,离心清洗后最终获得WOx的纳米粉体。这种方法合成时间长,产率很低,粉体颜色较浅,红外吸收性能较差。专利CN102921006B(近红外光热诊疗)报道了使用六氯化钨作为钨源,加入乙醇作为溶剂,聚乙二醇为还原剂,在高压反应釜中180℃保温24小时,离心清洗之后得到WO2.72纳米线。该方法制备过程中需要高温高压环境,对设备的气密性要求较高,使用的钨源价格较高,大大增加了成本,且溶剂热法单次合成的样品十分有限,无法实现量产。
技术实现思路
本专利技术提出一种还原氧化钨纳米片的制备方法,以常见的钨酸盐与有机酸为原料,通过机械化学反应法制备前驱体,然后在还原气氛下热处理,便可以获得大小均匀,分散性好的还原氧化钨纳米粉体,原料易得、工艺简单、成本低廉、绿色环保。本专利技术是通过以下技术方案实现的。本专利技术所述的一种还原氧化钨纳米片的制备方法,包括以下步骤。(1)根据还原氧化钨的制备量,称取适量的钨酸盐,并按照钨酸盐中钨与有机酸中羧基的摩尔比为1~3,称取相应量的有机酸。(2)将步骤(1)中称取的反应物装入球磨机中,球磨0.5~6小时,取出球磨后的物料和磨球,40~100℃干燥1~10小时后,再球磨0.5~4小时。(3)取出步骤(2)得到的产物,洗涤、过滤和干燥。(4)将步骤(3)中所得产物放入还原炉,在还原气体气氛下,300~1000℃保温0.5~6小时,即得还原氧化钨。本专利技术步骤(1)中所述的钨酸盐为碱金属钨酸盐、仲钨酸铵或偏钨酸铵中的一种或两种以上,有机酸为柠檬酸、酒石酸或草酸中的一种或两种以上。本专利技术步骤(2)中所述的球磨机为行星式球磨机、搅拌磨、砂磨机或振动磨。本专利技术步骤(4)中所述的还原气体为氢气、氮氢混合气体或者一氧化碳。本专利技术的主要特点是:(1)产物为还原氧化钨大小均匀、分散性好的单晶纳米片;(2)本专利技术以常见的钨酸盐和有机酸为原料,通过机械化学反应法得到前驱体,然后在还原气氛下热处理制备还原氧化钨纳米片,设备要求低,合成产率高,无需添加剂,具有绿色环保和成本低廉的特点。附图说明图1为实例1样品的X射线衍射图谱,该图谱与WO2.72的JCPDS卡片号(84-1516)对应。图2为实例1样品的透射电镜照片,如图所示,样品为片状结构,分散性较好。图3为实例2样品的高分辨透射电镜照片,如图所示,样品为单晶片状结构,晶格条纹清晰,表明结晶性较好。图4为实例3样品的高分辨透射电镜照片,如图所示,样品为单晶片状结构,晶格条纹清晰,表明结晶性较好。图5为实例4样品的高分辨透射电镜照片,如图所示,样品为单晶片状结构,晶格条纹清晰,表明结晶性较好。具体实施方式本专利技术将通过以下实施例作进一步说明。实施例1。首先称取25g二水合钨酸钠和15g柠檬酸,放入行星式球磨机球磨罐中,球磨2小时,取出样品和磨球,60oC干燥2小时,再球磨2小时。经洗涤、过滤和干燥,得到前驱体产物。将前驱体放入还原炉中,在5%H2/N2气体下,升温至500℃保温2小时,即得还原氧化钨。实施例2。首先称取25g二水合钨酸钠和15g酒石酸,放入行星式球磨机球磨罐中,球磨1.5小时,取出样品和磨球,60oC干燥2小时,再球磨2小时。经洗涤、过滤和干燥,得到前驱体产物。将前驱体放入还原炉中,在5%H2/N2气体下,升温至600℃保温2小时,即得还原氧化钨。实施例3。首先称取25g仲钨酸铵和10g草酸,放入行星式球磨机球磨罐中,球磨2小时,取出样品和磨球,60oC干燥2小时,再球磨1小时。经洗涤、过滤和干燥,得到前驱体产物。将前驱体放入还原炉中,在5%H2/N2气体下,升温至600℃保温2小时,即得还原氧化钨。实施例4。首先称取20g二水合钨酸钠和15g草酸,放入行星式球磨机球磨罐中,球磨2小时,取出样品和磨球,60oC干燥3小时,再球磨2小时。经洗涤、过滤和干燥,得到前驱体产物。将前驱体放入还原炉中,在5%H2/N2气体下,升温至700℃保温2小时,即得还原氧化钨。本文档来自技高网...
一种还原氧化钨纳米片的制备方法

【技术保护点】
一种还原氧化钨纳米片的制备方法,其特征是包括以下步骤:(1)根据还原氧化钨的制备量,称取适量的钨酸盐,并按照钨酸盐中钨与有机酸中羧基的摩尔比为1~3,称取相应量的有机酸;(2)将步骤(1)中称取的反应物装入球磨机中,球磨0.5~6小时,取出球磨后的物料和磨球,40~100℃干燥1~10小时后,再球磨0.5~4小时;(3)取出步骤(2)得到的产物,洗涤、过滤和干燥;(4)将步骤(3)中所得产物放入还原炉,在还原气体气氛下,300~1000℃保温0.5~6小时,即得还原氧化钨。

【技术特征摘要】
1.一种还原氧化钨纳米片的制备方法,其特征是包括以下步骤:(1)根据还原氧化钨的制备量,称取适量的钨酸盐,并按照钨酸盐中钨与有机酸中羧基的摩尔比为1~3,称取相应量的有机酸;(2)将步骤(1)中称取的反应物装入球磨机中,球磨0.5~6小时,取出球磨后的物料和磨球,40~100℃干燥1~10小时后,再球磨0.5~4小时;(3)取出步骤(2)得到的产物,洗涤、过滤和干燥;(4)将步骤(3)中所得产物放入还原炉,在还原气体气氛下,...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈伟凡方晓辰尧牡丹郭兰玉
申请(专利权)人:南昌大学
类型:发明
国别省市:江西,36

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