The utility model discloses a developing device and spin coating liquid curtain with slit, including loading mask and to carry out its rotating load and has two in its length direction extending slit liquid arm, the slit liquid arm can move to the optional position above the rotating disc the liquid; the slit arm toward the side of rotating disk installed slit array, the slit array is composed of a plurality of slits. This device is used to mask the developing process in the manufacture of film version, can guarantee the developering liquid pressure, liquid liquid area and consistent point of view, in a short period of time in the large size mask completely covers the developer layer is thick enough, prevent developer contraction, meet the accuracy and precision of the graph the requirement of uniform.
【技术实现步骤摘要】
一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备
本技术涉及一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备,属于掩膜版制造工艺中显影设备的
技术介绍
LTPS低温多晶硅技术已经成为一项发展相对完整的技术,现已广泛的应用于发光面板中,其优点是发光面板具有更大的可视角度(如应用于曲屏智能手机),色彩还原好,画面更加逼真绚丽。该技术陆续推出的第5.5代,第6代生产线对掩膜版的图形精度要求越来越高。随着市场的需求,LTPS推出了第8.5代甚至10.5代液晶生产线,这些生产线对掩膜版尺寸要求越来越大,这就提出了对显示图形精细度要求越来越高的要求。其中,6代的TFT掩膜版尺寸为800*920*10(mm),CF掩膜版尺寸为850*1200*10(mm);7.5代的TFT掩膜版尺寸为850*1400*10(mm),CF掩膜版尺寸为1100*1100*10(mm);而8.5代的TFT掩膜版尺寸已经为1220*1400*13(mm),CF掩膜版尺寸已经为1300*1500*12(mm),并且该趋势会不断的推陈出新。在显影工艺中,显影液的化学成分已经在不断的改进从而适应市场变化的需求,而显影的方法却没有得到足够的改进。现有技术常用给的显影方法是旋转与喷射的结合,该方法对大尺寸掩膜版精度控制能力较差,难以控制中心与边缘的CD精度差异,尺寸越大,差异越明显,每个喷嘴之间的喷液压力、喷液面积以及喷液角度难以控制,显影液在掩膜版上与光刻胶反应不均匀,造成图形精度及精度均匀性的差异,同时无法再短时间内覆盖足够厚的显影液,容易出现显影液收缩,导致产生液晶MURA。
技术实现思路
本实用提供一种旋覆与狭缝液帘配合 ...
【技术保护点】
一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备,其特征在于包括可以装载掩膜版并且能够进行自身旋转的旋转载盘和两根具有朝自身长度方向延伸的狭缝出液臂,所述狭缝出液臂能够移动至所述旋转载盘的上方任意位置;所述狭缝出液臂朝向旋转载盘的一侧安装狭缝列阵,所述狭缝列阵由若干个狭缝组成。
【技术特征摘要】
1.一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备,其特征在于包括可以装载掩膜版并且能够进行自身旋转的旋转载盘和两根具有朝自身长度方向延伸的狭缝出液臂,所述狭缝出液臂能够移动至所述旋转载盘的上方任意位置;所述狭缝出液臂朝向旋转载盘的一侧安装狭缝列阵,所述狭缝...
【专利技术属性】
技术研发人员:熊启龙,鄢红军,
申请(专利权)人:深圳清溢光电股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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