The utility model provides a coating equipment, bearing metal mask and substrate by evaporation to support Taiwan in level, non evaporation area through the bottom and metal mask in the metal mask plate corresponding to the position setting adsorption device under the surface to adsorb metal mask, adsorption device to the metal mask plate applying a vertical downward force, increase friction force between metal mask plate and the supporting table. By pressing the cover plate on the substrate to be evaporated, the weight of the cover plate is applied to treat the vapor deposition substrate to increase the friction between the plated base plate and the metal mask plate. During the evaporation process, when the rotating support table, can avoid the relative movement of the metal mask plate and support Taiwan at the same time, it can avoid to be evaporated metal substrate and the relative motion between the mask film plate, improve the metal mask plate and the vapor deposited substrate alignment precision, the point source evaporation the material can be accurately evaporated to be evaporated on the substrate, solve the problem of bad OLED color mixing.
【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀设备
本技术涉及真空蒸镀设备
,特别涉及一种蒸镀设备。
技术介绍
有机发光二极管显示器件(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)被认为是下一代显示的主流技术,受到越来越多的关注。真空蒸镀是OLED制程的主要工艺,目前小尺寸OLED真空蒸镀采用的蒸镀设备包括:点源和支撑台。支撑台承载并固定金属掩膜板,并位于点源的上方,待蒸镀基板位于金属掩膜板的上方。支撑台上设置有多个固定块,固定块与金属掩膜板相抵靠,通过夹持金属掩膜板以使金属掩膜板固定在支撑台上。蒸镀设备工作时,支撑台带动金属掩膜板与待蒸镀基板同步转动,点源上的蒸镀材料按金属掩膜板上的图形均匀的蒸镀到待蒸镀基板上。但是,而支撑台在转动过程中会产生离心力,固定块对金属掩膜板的边缘产生水平方向的夹持力,使得固定块夹持固定金属掩膜板的效果不佳,造成支撑台与金属掩膜板之间产生相对位移,而且,离心力也会造成待蒸镀基板与金属掩膜板之间产生相对位移。由此导致点源上的蒸镀材料蒸镀到待蒸镀基板上的位置发生偏移,使OLED发生混色不良。
技术实现思路
本技术针对现有技术中存在的上述不足,提供一种蒸镀设备,用以至少部分解决金属掩膜板与支撑台固定效果不佳,以及待蒸镀基板与金属掩膜板固定效果不佳的问题。为实现上述目的,本技术提供一种蒸镀设备,包括用于依次水平承载金属掩膜板和待蒸镀基板的支撑台,还包括吸附装置和盖板,所述盖板压覆于所述待蒸镀基板上,所述吸附装置位于所述金属掩膜板的下方,且与所述金属掩膜板的非蒸镀区相对应,用于吸附所述金属掩膜板,并将所述金属掩膜板固定在所述支撑台上。优选的,所述吸附装 ...
【技术保护点】
一种蒸镀设备,包括用于依次水平承载金属掩膜板和待蒸镀基板的支撑台,其特征在于,还包括吸附装置和盖板,所述盖板压覆于所述待蒸镀基板上,所述吸附装置位于所述金属掩膜板的下方,且与所述金属掩膜板的非蒸镀区相对应,用于吸附所述金属掩膜板,并将所述金属掩膜板固定在所述支撑台上。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备,包括用于依次水平承载金属掩膜板和待蒸镀基板的支撑台,其特征在于,还包括吸附装置和盖板,所述盖板压覆于所述待蒸镀基板上,所述吸附装置位于所述金属掩膜板的下方,且与所述金属掩膜板的非蒸镀区相对应,用于吸附所述金属掩膜板,并将所述金属掩膜板固定在所述支撑台上。2.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述吸附装置为磁力吸附装置,所述磁力吸附装置包括磁体组件,所述磁体组件用于产生磁力,并借助产生的磁力吸附所述金属掩膜板的下表面。3.根据权利要求2所述的蒸镀设备,其特征在于,所述磁力吸附装置还包括隔热件,所述隔热件至少覆盖在所述磁体组件的上表面。4.根据权利要求2所述的蒸镀设备,其特征在于,所述磁力吸附装置的上表面与所述支撑台...
【专利技术属性】
技术研发人员:李晓虎,王路,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:北京,11
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