Three dimensional blind watermarking method of the invention discloses a method using a vertex ring neighborhood area and Beamlet line features to construct watermark synchronization information, which comprises the following steps: Based on a three-dimensional model of the vertex ring neighborhood area, from childhood to the election M non overlapping part of this neighborhood; M ring neighborhood independent tangent projection M Beamlet, extraction line features, determine the embedding position M a watermark bit; vertex coordinates modified with Beamlet line features relative, the two grid connected with the edge length equal to embed watermark information; watermark detection does not need the original 3D model. The method for spatial domain blind watermarking method, the watermark transparency premise, can significantly improve the robustness of the watermarking method against affine transformation attack; attack algorithm against mesh simplification, smoothing and noise also has strong robustness.
【技术实现步骤摘要】
基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法
本专利技术属于数字水印方法
,涉及一种基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法。
技术介绍
三维模型用途广泛,在娱乐业、制造业等都有其身影,因此,保护三维模型的版权相当重要。数字水印作为三维模型版权保护和内容认证的有效手段,近年来得到广泛研究。由于三维模型中的点、线、面数据具有有序性,且模型易受到平移、缩放、旋转、网格简化等处理的攻击,致使水印嵌入过程中,无法利用傅里叶变换、余弦变换、小波变换等数学工具进行分析。这限制了三维模型水印技术的研究与发展,使三维模型水印方法的鲁棒性弱、抗仿射变换攻击能力差。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,对仿射变换的旋转和等比缩放等攻击具有强鲁棒性。本专利技术所采用的技术方案是,基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,包括以下步骤:步骤1,嵌入水印;步骤1.1,确定水印嵌入位置;步骤1.1.1,计算三维模型顶点的一环邻域面积;步骤1.1.2,依据步骤1.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,以中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点,中心顶点的切面为平面建立新坐标系;步骤1.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;步骤1.2,嵌入二值水印序列b′;修改一环邻域内与Beamlet线特征相对的顶点坐标,若修改Beamlet线特征左侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,则嵌入二值水印b′的信息位‘1’ ...
【技术保护点】
基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,嵌入水印;步骤1.1,确定水印嵌入位置;步骤1.1.1,计算三维模型顶点的一环邻域面积;步骤1.1.2,依据步骤1.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,以中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点,中心顶点的切面为平面建立新坐标系;步骤1.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;步骤1.2,嵌入二值水印信息b′;修改Beamlet线特征相对应的顶点坐标,若修改Beamlet线特征左侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,则嵌入二值水印b′的信息位‘1’;若修改Beamlet线特征右侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,嵌入二值水印b′的信息位‘‑1’或‘0’;步骤1.3,将M个水印信息位依照步骤1.2嵌入到M个一环邻域内的相应顶点中,得到水印版三维模型;步骤2,提取水印;步骤2.1,确定携带水印信息的顶点;步骤2.1.1,计算水印版三维模型顶点的一环邻域面积;步骤2.1.2,依据步 ...
【技术特征摘要】
1.基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,嵌入水印;步骤1.1,确定水印嵌入位置;步骤1.1.1,计算三维模型顶点的一环邻域面积;步骤1.1.2,依据步骤1.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,以中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点,中心顶点的切面为平面建立新坐标系;步骤1.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;步骤1.2,嵌入二值水印信息b′;修改Beamlet线特征相对应的顶点坐标,若修改Beamlet线特征左侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,则嵌入二值水印b′的信息位‘1’;若修改Beamlet线特征右侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,嵌入二值水印b′的信息位‘-1’或‘0’;步骤1.3,将M个水印信息位依照步骤1.2嵌入到M个一环邻域内的相应顶点中,得到水印版三维模型;步骤2,提取水印;步骤2.1,确定携带水印信息的顶点;步骤2.1.1,计算水印版三维模型顶点的一环邻域面积;步骤2.1.2,依据步骤2.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点;步骤2.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;步骤2.2,提取二值水印信息b″;步骤2.2.1,确定顶点嵌入的水印信息位:若是Beamlet线特征左侧顶点的相连两条网格边长度相...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘晶,陈进磊,何文娟,
申请(专利权)人:西安理工大学,
类型:发明
国别省市:陕西,61
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