The present disclosure relates to a method for inverting tonal patterning. A method of reversing the hue of a pattern with uneven sized features. The method includes depositing a highly conformal hard mask layer over the patterned layer, having an uneven protective coating, and an etching scheme for minimizing the critical size change.
【技术实现步骤摘要】
反转色调图案化的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2015年11月13日提交的美国临时申请No.62/254,891的依据35U.S.C.§119(e)(1)的权益,该美国临时申请通过参考被并入于此。
技术介绍
纳米制造包括具有100纳米量级或更小的特征件(feature)的非常小结构的制造。其中纳米制造已经具有相当大影响的一个应用是集成电路的加工。半导体加工工业持续谋求在增加在衬底上每单位面积形成的电路的同时更大的产品成品率;因此纳米制造变得越来越重要。纳米制造提供更大的工艺控制而同时允许持续减少形成的结构的最小特征尺寸。现在使用的示例性的纳米制造技术通常被称为纳米压印光刻。纳米压印光刻可用于各种应用,包括例如制造集成器件(诸如CMOS逻辑、微处理器、NAND闪速存储器、NOR闪速存储器、DRAM存储器或诸如MRAM、3D交叉点存储器、Re-RAM、Fe-RAM、STT-RAM之类的其它存储器件等等)的层。示例性的纳米压印光刻工艺被详细描述在许多的发行物中,诸如美国专利No.8,349,241、美国专利No.8,066,930和美国专利No.6,936,194,所有这些通过参考被并入于此。在上述美国专利中的每一个中公开的纳米压印光刻技术包括在可成形的(可聚合的)层中形成浮雕(relief)图案并且将与浮雕图案对应的图案转印到下层的衬底中。衬底可以被耦接到移动台以便获得期望的定位从而便于图案化处理。图案化处理使用与衬底间隔开的模板并且在模板和衬底之间施加可成形的液体。可成形的液体被固化从而形成刚性层,该刚性层具有与接触可成形的液体的模板的表面形状一致的图案。在固 ...
【技术保护点】
一种方法,其特征在于包括:在衬底上形成图案化层,所述图案化层限定具有非均匀尺寸的特征件的浮雕图案;在图案化层的特征件之上通过低温沉积来沉积保形的硬掩模层;在保形的层之上施加不平坦的保护层,所述保护层具有小于95%的平坦化效率PE(PE 95%),并且其中在第一刻蚀条件下所述保护层相对于保形的层具有至少5的刻蚀选择性ξ1(ξ1≥5),并且其中在第二刻蚀条件下保形的层相对于保护层具有大于1的刻蚀选择性ξ2(ξ2>1),并且其中在第三刻蚀条件下图案化层相对于保形的层具有至少5的刻蚀选择性ξ3(ξ3≥5);在第一刻蚀条件下选择性地刻蚀保护涂层以便暴露在图案突出的特征件的顶部之上延伸的保形的层的顶表面;在第二刻蚀条件下选择性地刻蚀所暴露的保形的层以便暴露在其下方的图案特征件;以及在第三刻蚀条件下选择性地刻蚀所暴露的图案特征件以便暴露衬底并且形成作为浮雕图案的反转图案的图案。
【技术特征摘要】
2015.11.13 US 62/254,891;2016.10.28 US 15/336,9091.一种方法,其特征在于包括:在衬底上形成图案化层,所述图案化层限定具有非均匀尺寸的特征件的浮雕图案;在图案化层的特征件之上通过低温沉积来沉积保形的硬掩模层;在保形的层之上施加不平坦的保护层,所述保护层具有小于95%的平坦化效率PE(PE95%),并且其中在第一刻蚀条件下所述保护层相对于保形的层具有至少5的刻蚀选择性ξ1(ξ1≥5),并且其中在第二刻蚀条件下保形的层相对于保护层具有大于1的刻蚀选择性ξ2(ξ2>1),并且其中在第三刻蚀条件下图案化层相对于保形的层具有至少5的刻蚀选择性ξ3(ξ3≥5);在第一刻蚀条件下选择性地刻蚀保护涂层以便暴露在图案突出的特征件的顶部之上延伸的保形的层的顶表面;在第二刻蚀条件下选择性地刻蚀所暴露的保形的层以便暴露在其下方的图案特征件;以及在第三刻蚀条件下选择性地刻蚀所暴露的图案特征件以便暴露衬底并且形成作为浮雕图案的反转图案的图案。2.根据权利要求1所述的方法,其中低温沉积是原子层沉积(ALD)。3.根据权利要求1所述的方法,其中不平坦的保护涂层具有至少50%的平坦化效率(PE)(50%≤PE<95%)。4.根据权利要求1所述的方法,其中刻蚀选择性ξ2至少为2(ξ2...
【专利技术属性】
技术研发人员:N·昆斯纳塔迪诺夫,D·L·拉巴拉克,
申请(专利权)人:佳能株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。