一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺及手机盖板制造技术
【技术实现步骤摘要】
一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺及手机盖板
本专利技术涉及手机零件，尤其涉及一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺及手机盖板。
技术介绍
现有技术中，手机盖板SIO2+ITO低温镀膜存在以下问题点：首先，每次生产工艺调试时间长；其次，生产中电阻不易控制，会导致产品批量不良发生，生产良品后要经过真空退火才能达到要求，这样多次操作，产品良率低，浪费人力、物力，生产成本高；此外，由于低温度膜工艺难控制，影响产品交货期；再次，对OGS盖板不能满足工艺要求；综上所述，现有加工工艺无法同时满足客户交期、低成本、高透光率、满足OGS盖板工艺等特点。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足，提供一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺及手机盖板，用以满足高效率、本低成、高透光率等工艺要求。为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案。一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其包括有如下步骤：对镀膜室抽气、加热，使镀膜真空度达到高温镀膜要求，之后在镀膜室内对手机盖板镀制ITO膜和SIO2膜，以令手机盖板上一次成膜。优选地，还包括清洗步骤：在镀膜之前，线对手机盖板进行超声波清洗。优选地，所述清洗步骤之后还包括：将清洗干净的手机盖板移至净化间，以确认清洗效果。优选地，镀制ITO膜和SIO2膜时，先将手机盖板挂片，之后镀制膜层。优选地，还包括有检测步骤：对镀膜后的手机盖板外观、形状检测，之后装箱。一种手机盖板，其包括有玻璃基材，所述玻璃基材上镀制有SIO2膜层，所述SIO2膜层上镀制有ITO膜层。优选地，所述玻璃基材与SIO2膜层之间夹设有油墨。优选地...
【技术保护点】
一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，包括有如下步骤：对镀膜室抽气、加热，使镀膜真空度达到高温镀膜要求，之后在镀膜室内对手机盖板镀制ITO膜和SIO2膜，以令手机盖板上一次成膜。
【技术特征摘要】
1.一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，包括有如下步骤：对镀膜室抽气、加热，使镀膜真空度达到高温镀膜要求，之后在镀膜室内对手机盖板镀制ITO膜和SIO2膜，以令手机盖板上一次成膜。2.如权利要求1所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，还包括清洗步骤：在镀膜之前，线对手机盖板进行超声波清洗。3.如权利要求2所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，所述清洗步骤之后还包括：将清洗干净的手机盖板移至净化间，以确认清洗效果。4.如权利要求1所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，镀制ITO膜和...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐贵鲁，徐士君，
申请(专利权)人：深圳市三鑫精美特玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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