磁记录介质用铝基板以及其制造方法技术

本发明专利技术一个方面涉及的磁记录介质用铝基板，是包括铝板、和形成在其表面的皮膜的磁记录介质用铝基板，所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO

Aluminium substrate for magnetic recording medium and method for manufacturing the same

With the aluminum substrate magnetic recording medium is one aspect of the invention relates, including aluminum, and is formed in the magnetic recording medium film on the surface of the aluminum substrate, the film is from the side, which in turn contains aluminum anodic oxide film and SiO

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁记录介质用铝基板以及其制造方法
本专利技术涉及形成有皮膜的铝基板以及其制造方法，所述铝基板适合作为磁记录介质的基板。
技术介绍
就电脑等各种电子设备中使用的磁记录介质而言，在非磁性的基板上形成有成为记录层的磁性膜。磁记录介质用的基板被要求轻量，且被要求具有高硬度、平滑的表面和耐划伤性。因此，作为非磁性、轻量、进而通过镜面加工等可以容易地获得平滑的表面的材料，使用铝板。并且，为了确保铝板表面的硬度和耐划伤性，广泛使用形成有Ni-P镀敷膜的基板(以下，有时称为“镀Ni-P的铝基板”)作为磁记录介质用基板。在实施Ni-P镀敷时，为了除去形成于铝板表面的氧化皮膜以便获得良好的镀敷密合性，进行锌酸盐处理作为前处理，此时，铝板的平滑性有时会恶化。此外，起因于铝板不可避免地包含晶出物(crystallizedintermetalliccompound)，在Ni-P镀敷膜表面形成凹坑等缺陷，从而镀Ni-P的铝基板的平滑性有时下降。在这种状况下，作为可代替Ni-P镀敷膜的皮膜，例如专利文献1、2公开的非晶质的SiO2膜被研究。SiO2膜具有非磁性、高硬度以及耐热性也优异的性质，从而被受到关注。例如，专利文献1记载了一种磁记录用防蚀铝基板的表面处理方法，其在对铝基板的表面进行防蚀铝处理后，在防蚀铝膜的表面涂布氧化硅并进行热处理，从而将防蚀铝膜的表面平滑化。专利文献1公开了防蚀铝膜的表面的平滑性被极大提高的内容。另一方面，专利文献2记载了在表面形成有SiO2膜的磁记录介质用基板。专利文献2还记载了SiO2膜优选由以聚硅氮烷为主要成分的涂布液形成。专利文献2公开了通过在基板的表面形成SiO2膜，从而能够实现其表面粗糙度比基板的表面粗糙度更小的内容。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利公开公报特开平2-73520号专利文献2：日本专利公开公报特开平9-147344号
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种兼具优异的平滑性和耐划伤性的磁记录介质用铝基板以及该基板的制造方法。本专利技术一个方面涉及的磁记录介质用铝基板，是包括铝板、和形成在其表面的皮膜的磁记录介质用铝基板，所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO2膜的层叠膜，所述阳极氧化膜的膜厚为7μm以上且45μm以下，所述SiO2膜的膜厚为1μm以上且5μm以下。本专利技术另一个方面涉及的磁记录介质用铝基板的制造方法，是制造所述磁记录介质用铝基板的方法，该方法包括如下工序：在所述铝板上形成所述阳极氧化膜的工序；在所述阳极氧化膜的表面涂布含有无机聚硅氮烷的溶液后加热，从而使所述无机聚硅氮烷转化为SiO2，在所述阳极氧化膜上形成所述SiO2膜的工序。上述以及此外的本专利技术的目的、特征及优点通过以下的详细说明和附图能更加明确。附图说明图1为示出本专利技术的实施方式的铝基板的结构的简要剖面图。图2为实验3的No.3-1的显微镜照片。图3为示出实验3的No.3-1的表面平滑性的附图代用照片。图4为实验3的No3-2的显微镜照片。图5为示出实验3的No.3-2的表面平滑性的附图代用照片。图6为实验3的No.3-3的显微镜照片。图7为示出实验3的No.3-3的表面平滑性的附图代用照片。具体实施方式本专利技术人通过研究确认到：在专利文献1中作为氧化硅而使用的有机硅氧烷，不能够形成具有充分的硬度和耐热性的SiO2膜。此外，确认到：被阳极氧化膜包覆的铝基板不具有充分的耐划伤性。另外，就专利文献2的SiO2膜而言，确认到：在为了确保耐划伤性而将该SiO2膜厚膜化时，因制造过程或使用时的热历程而异，出现在SiO2膜产生龟裂或SiO2膜从铝板剥离等问题。本专利技术着眼于上述情况而作出，其目的在于，提供一种兼具优异的平滑性和耐划伤性的磁记录介质用铝基板。即，本专利技术的目的在于，提供一种形成有优异的平滑性和耐划伤性兼具的皮膜的磁记录介质用铝基板。此外，本专利技术的目的在于，提供一种上述磁记录介质用铝基板的制造方法。本专利技术人对具有与玻璃同等程度的4.0～8.0GPa的硬度并且平滑性和耐划伤性优异的铝基板反复进行了深入研究。完成本专利技术的过程如下所述。首先，从确保硬度和耐划伤性的观点出发，对以无机聚硅氮烷为原料在铝板表面形成的SiO2膜的厚膜化进行了研究。结果获知：在SiO2膜的形成过程中不可或缺的水、氨等难以控制，工业规模的生产中难以形成超过5μm的膜厚。此外，就设置有膜厚5μm左右的SiO2膜的铝板而言，当制造时或在使用过程中受到冲击时，铝板上会产生伤痕或凹陷，无法获得充分的耐划伤性。从提高耐划伤性的观点出发，对容易厚膜化的皮膜进行了研究，结果获知：阳极氧化膜容易厚膜化。并且获知：为了通过阳极氧化膜确保充分的耐划伤性，需要将膜厚设为20μm以上。进而判明：在该情况下，阳极氧化膜的多孔结构发达，表面粗糙度显著恶化，无法确保平滑性。进而，本专利技术人为了确保耐划伤性和平滑性而进一步进行了研究，结果发现：为了抑制阳极氧化膜的表面粗糙度的恶化并且确保平滑性和耐划伤性，包含具有规定膜厚的阳极氧化膜和SiO2膜的层叠结构是有效的，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的一实施方式的磁记录介质用铝基板具有铝板、和形成在其表面的皮膜。并且，上述皮膜为从上述铝板侧依次包含阳极氧化膜及SiO2膜的层叠膜。而且，上述阳极氧化膜的膜厚为7μm以上且45μm以下，上述SiO2膜的膜厚为1μm以上且5μm以下。该磁记录介质用铝基板通过具有上述那样的皮膜而能够兼具平滑性和耐划伤性。即，可以获得形成有优异的平滑性和耐划伤性兼具的皮膜的磁记录介质用铝基板。具体而言，本专利技术人认为是基于以下理由。如上所述，为了让阳极氧化膜单独确保耐划伤性，需要将阳极氧化膜厚膜化，但如果用具有与玻璃同等程度的硬度的SiO2膜包覆，则在阳极氧化膜的膜厚变薄的情况下也能够确保充分的耐划伤性。本专利技术人认为：特别是在形成SiO2膜时，若SiO2前体侵入阳极氧化膜的多孔结构内，则阳极氧化膜与SiO2形成复合结构，从而提高密合性，此外，即使在薄膜化的情况下也能够确保充分的耐划伤性。此外，通过阳极氧化膜薄膜化，来可以抑制阳极氧化膜的表面粗糙度的恶化，因此通过用SiO2膜包覆，则可以获得更优异的平滑性。就阳极氧化膜的膜厚而言，在不具有充分的膜厚时，有无法确保耐划伤性的倾向。阳极氧化膜的膜厚为7μm以上，优选8μm以上，更优选9μm以上。另一方面，若使阳极氧化膜过度厚膜化，则制造成本增加，此外，有耐划伤性提高效果饱和的倾向。进而，有由于厚膜化从而阳极氧化膜的表面粗糙度恶化且平滑性下降的倾向。此外，若厚膜化，则起因于铝板和SiO2膜的热膨胀差异，容易基于热历程而产生阳极氧化膜的破损或剥离，有耐热性恶化的倾向。阳极氧化膜的膜厚为45μm以下，优选40μm以下，更优选35μm以下。根据这些理由，若阳极氧化膜的膜厚在上述范围内，则通过在其表面上形成SiO2膜而成为兼具优异的平滑性和耐划伤性的皮膜。就SiO2膜的膜厚而言，若不具有充分的膜厚，则具有无法确保平滑性的倾向。SiO2膜的膜厚为1μm以上，优选1.5μm以上，更优选2μm以上。从确保平滑性的观点出发，期望对SiO2膜进行厚膜化，但若过度厚膜化，则起因于热历程中的热膨胀差异，有SiO2膜破损或剥离等的耐热性恶化的倾向。SiO2膜的膜厚为5μm以下，优选4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质用铝基板，其特征在于包括铝板、和形成在其表面的皮膜，其中，所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.10 JP 2014-1841991.一种磁记录介质用铝基板，其特征在于包括铝板、和形成在其表面的皮膜，其中，所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO2膜的层叠膜，所述阳极氧化膜的膜厚为7μm以上且45μm以下，所述SiO2膜的膜厚为1μm以上且5μm以下。2.一种磁记录介质用铝基板的...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤原直也，铃木哲雄，饭沼角王，高田悟，
申请(专利权)人：株式会社神户制钢所，
类型：发明
国别省市：日本,JP