一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识及其使用方法技术

本发明专利技术涉及液晶显示技术领域的一种佳能光罩制作色组层的挡板标识及其使用方法。所述挡板标识包括前制程层和色阻层，所述的前制程层上形成有刻度标尺，且所述刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。所述的色阻层为间隔设置的平行条带结构，且相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠。制作完色阻层后，通过观察色阻层对前制程层中的刻度标尺的覆盖情况，既可判断色阻层制作时挡板的遮挡距离是否合理，是否需要补偿。另外，所述挡板标识中的色阻层为间隔设置的平行条带结构，相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠，既能使色阻层的至少一部分与前制程层上的刻度标尺重叠，又克服了色阻曝光解析度低的问题。

Baffle mark for making color barrier layer of Canon mask and its using method

The invention relates to a baffle plate for making a color group layer of a Canon mask in the field of liquid crystal display technology and a method of using the same. The baffle mark comprises a front process layer and a color resistance layer, wherein a scale ruler is formed on the front process layer, and at least a portion of the scale rod overlaps with the color barrier layer. The color barrier layer is a parallel strip structure arranged at intervals, and the adjacent strips are projected in a horizontal direction and are connected and / or partially overlapped. After the color barrier layer is finished, the cover distance of the baffle plate in the prior process layer can be judged whether or not the compensation distance of the baffle is reasonable and the compensation is needed by observing the covering condition of the color barrier layer in the prior process layer. In addition, a parallel structure with a color resistance layer of the logo for baffle arranged at intervals, with adjacent projection in the horizontal direction of the phase and / or overlap, which can make the scale and at least a portion of a pre process color layer on the resistance layer overlap, and overcome the color resistance exposure solution analysis of the problem of low degree.

【技术实现步骤摘要】
一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识及其使用方法
本专利技术属于液晶显示
，具体涉及一种佳能光罩制作色组层的挡板标识及其使用方法。
技术介绍
液晶显示装置(LCD，LiquidCrystalDisplay)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。通常液晶显示面板由彩膜基板(CF，ColorFilter)、薄膜晶体管基板(TFT，ThinFilmTransistor)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封框胶(Sealant)组成。CF基板是LCD用来实现彩色显示的主要器件，其基本构成通常包括：玻璃基板、黑色矩阵、彩色色阻层等等。背光源发出的光经过液晶分子的调制入射到CF基板，通过CF基板上彩色色阻层的红色色阻、绿色色阻、以及蓝色色阻的滤光作用，分别显示红，绿，蓝三种光线，不同颜色的色阻分别透射对应颜色波段的光，从而实现显示器的彩色显示。光罩(Mask)，又称为光掩膜板、掩膜板，是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶的感光材料。把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后底片的光掩模版，然后应用于集成电路的投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。佳能光罩的对位精度较高，当使用佳能光罩制作色阻层时，由于色阻的显影精度较低，若套用佳能光罩常用的挡板标识，会导致该标识上的数字、小线宽标尺等细节无法成型，因而佳能光罩常用的挡板标识无法正常使用。若该标识不能正常使用，会导致挡板无法进行对应的调节，影响色阻曝光范围的控制和补偿。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足提供一种佳能光罩制作色组层的挡板标识及其使用方法，利用该标识替代原本无法用于色阻制作的挡板标识，能够对挡板的遮挡范围进行估算，进而对色阻的曝光范围进行控制和补偿。为此，本专利技术提供了一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识，其包括前制程层和色阻层，所述的前制程层上形成有刻度标尺，且所述刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。在本专利技术的一些实施例中，所述的色阻层为间隔设置的平行条带结构，且相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠。在本专利技术的另一些实施例中，所述的前制程层为金属层或黑矩阵。本专利技术还提供了一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识的使用方法，其包括以下步骤：步骤A：利用佳能光罩上的刻度标尺图形在基板上形成带有刻度标尺的前制程层；步骤B：利用另一佳能光罩上的色阻层图形在前制程层上形成色阻层；步骤C：通过读取色阻层与前制程层上刻度标尺重叠部分的读数，判断色阻层制备时挡板的遮挡范围是否合理。在本专利技术的一些实施例中，所述前制程层上的刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。在本专利技术的另一些实施例中，所述色阻层图形为间隔设置的平行条带，且相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠。在本专利技术的一些实施例中，所述的前制程层为金属层或黑矩阵。在本专利技术的另一些实施例中，所述的基板为玻璃基板。由于色阻材料的曝光解析度较低，当使用佳能光罩制作色组层时，若套用佳能光罩常用的刻度标尺作为挡板标识，会使该标识上的数字、小线宽标尺等细节无法成型，使得佳能光罩常用的刻度标尺挡板标识无法正常使用，进而导致挡板无法进行对应的调节，影响色阻曝光范围的控制和补偿。将佳能光罩常用的刻度标尺刻蚀在曝光解析度好的前制程层上，使得前制程层上形成有结构完整的刻度标尺，然后再将色阻层制备在前制程层上，并且色阻层覆盖前制程层上的刻度标尺，色阻层制作完成后通过观察色阻层对下方前制程层刻度标尺的覆盖情况，就能判断色阻层制作时挡板的遮挡距离是否合理，是否需要补偿。本专利技术正是基于上述方法做出的。本专利技术的有益效果为：色阻层制作完成后，通过观察色阻层对前制程层中的刻度标尺的覆盖情况，既可判断色阻层制作时挡板的遮挡距离是否合理，是否需要补偿。利用该标识替代原本无法用于色阻制作的挡板标识，进而对色阻层的曝光范围进行控制和补偿。另外，所述挡板标识中的色阻层为间隔设置的平行条带结构，相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠，既能使色阻层的至少一部分与前制程层上的刻度标尺重叠，又克服了色阻曝光解析度低的问题。附图说明下面将结合附图来说明本专利技术。图1为佳能光罩上的刻度标尺图形。图2为本专利技术的佳能光罩制作色阻层的挡板标识在基板上形成的所述挡板标识的俯视图；图中附图标记的含义如下：1利用佳能光罩上的刻度标尺图形在基板上形成带有刻度标尺的金属层；2利用另一佳能光罩上的色阻层图形在金属层上形成的色阻层。图3为本专利技术的佳能光罩制作色阻层的挡板标识在基板上形成的所述挡板标识的俯视图；图中附图标记的含义如下：3利用佳能光罩上的刻度标尺图形在基板上形成带有刻度标尺的黑矩阵；4利用另一佳能光罩上的色阻层图形在黑矩阵上形成的色阻层。具体实施方式为使本专利技术容易理解，下面将结合附图和实施例来详细说明本专利技术，这些实施例仅起说明性作用，并不局限于本专利技术的应用范围。本专利技术中所使用的原料或组分若无特殊说明均可以通过商业途径或常规方法制得。具体实施方式一：一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识：所述佳能光罩制作色阻层的挡板标识包括前制程层和色阻层，所述的前制程层上形成有刻度标尺，且所述刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。佳能光罩上的刻度标尺图形如图1。在一些实施例中，所述的色阻层为间隔设置的平行条带结构，且相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠。在一些实施例中，所述的前制程层为金属层或黑矩阵。在一些实施例中，所述的基板为玻璃基板。具体实施方式二图2为本专利技术的佳能光罩制作色阻层的挡板标识在基板上形成的所述挡板标识的俯视图，佳能光罩制作色阻层的挡板标识的使用方法包括以下步骤：(1)利用佳能光罩上的刻度标尺图形(如图1所示)在玻璃基板上形成带有刻度标尺的金属层1。(2)另一佳能光罩上的色阻层图形在金属层1上形成色阻层2，且所述金属层1上的刻度标尺至少有一部分与色阻层2重叠；所述佳能光罩上的色阻层图形为间隔设置的平行条带，且相邻条带在水平方向上的投影相接或部分重叠；形成的挡板标识的俯视图如图2所示。(3)通过读取色阻层2与金属层1上刻度标尺重叠部分的度数，判读色阻层制备时挡板的遮挡范围是否合理。具体实施方式三佳能光罩制作色阻层的挡板标识的使用方法包括以下步骤：(1)利用佳能光罩上的刻度标尺图形(如图1所示)在玻璃基板上形成带有刻度标尺的黑矩阵3。(2)另一佳能光罩上的色阻层图形在黑矩阵3上形成色阻层4，且所述黑矩阵3上的刻度标尺至少有一部分与色阻层4重叠；所述佳能光罩上的色阻层图形为间隔设置的平行条带，且相邻条带在水平方向上的投影部分相接或部分重叠；形成的挡板标识的俯视图如图3所示。(3)通过读取色阻层4与黑矩阵3上刻度标尺重叠部分的度数，判读色阻层制备时挡板的遮挡范围是否合理。应当注意的是，以上所述的实施例仅用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的任何限制。通过参照典型实施例对本专利技术进行了描述，但应当理解为其中所用的词语为描述性和解释性词本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识，其包括前制程层和色阻层，所述的前制程层上形成有刻度标尺，且所述刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。

【技术特征摘要】
1.一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识，其包括前制程层和色阻层，所述的前制程层上形成有刻度标尺，且所述刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。2.根据权利要求1所述的挡板标识，其特征在于，所述的色阻层为间隔设置的平行条带结构，且相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠。3.根据权利要求1所述的挡板标识，其特征在于，所述的前制程层为金属层或黑矩阵。4.一种权利要求1-3任一项所述挡板标识的使用方法，包括以下步骤：步骤A：利用佳能光罩上的刻度标尺图形在基板上形成带有刻度标尺的前制程层；步骤B：利用另一佳能光罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊源，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44