一种抗闪光盖板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种抗闪光盖板的制作方法，其包括以下步骤：根据预设目标设定玻璃基板表面结构的不同结构参数的目标大小范围及其对应的目标占比范围；在所述玻璃基板上形成多个微结构，每个所述微结构的不同结构参数的绝对值大小均在其对应的所述目标大小范围之内，且所述目标大小范围划分为若干个设定范围，参数大小处于该若干个设定范围内的所述微结构的个数与所述微结构的总数的比例大小均在其对应的所述目标占比范围之内，以使所述抗闪光盖板具有抗闪光作用。本发明专利技术可使玻璃基板制作的盖板具有良好的抗闪光作用。

Manufacturing method of anti flash cover plate

The invention provides a method for preparing anti flash cover plate, which comprises the following steps: according to the preset goal setting ratio range accounted for different structural parameters of glass substrate surface structure of the target size range and the corresponding target; forming a plurality of micro structure on the glass substrate, the size is within the corresponding to the target size the scope of the absolute value of each of the different structural parameters of the micro structure, and the target size range is divided into a number of parameters in the set range, the size of the number of the plurality of set within the scope of the micro structure and the micro structure of the proportion of the total size of their counterparts in the target the proportion of range, so that the anti flash cover with anti flash effect. The invention can make the cover plate made of glass substrate have good anti flash function.

【技术实现步骤摘要】
一种抗闪光盖板的制造方法
本专利技术涉及液晶显示领域，特别涉及一种抗闪光盖板的制造方法。
技术介绍
液晶显示装置(LCD，LiquidCrystalDisplay)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。TFT-LCD在日常生活中已经很普及，如电视、电脑、手机等显示屏，该领域技术不断更新以更好的服务消费者。不断的产品升级使对TFT-LCD更高的要求，提出了更高的产品品质的要求。车载显示和小尺寸显示面板的抗眩功能越来越受到人们的关注，传统的抗眩结构的加工方法包括湿刻法和涂布法。湿刻法即采用酸液对盖板玻璃进行表面蚀刻处理，得到粗糙的表面结构。涂布方法即通过在盖板玻璃表面涂布有机或无机粒子的方式得到粗糙表面结构。然而，湿刻和涂布的方法工艺虽然简单，但是无法得到形貌可控的粗糙表面结构，无法控制盖板表面透射光或者反射光的光强空间分布和强度，这就会导致盖板表面发生闪光的现象，严重影响画面的品质。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抗闪光盖板的制造方法，以解决现有技术中，无法得到形貌可控的粗糙表面结构的盖板，无法控制盖板表面透射光或者反射光的光强空间分布和强度，这就会导致盖板表面发生闪光的现象，严重影响画面的品质的问题。本专利技术的技术方案如下：一种抗闪光盖板的制作方法，包括以下步骤：1)根据预设目标设定玻璃基板表面结构的不同结构参数的目标大小范围及其对应的目标占比范围；2)在所述玻璃基板上形成多个微结构，每个所述微结构的不同结构参数的绝对值大小均在其对应的所述目标大小范围之内，且所述目标大小范围划分为若干个设定范围，参数大小处于该若干个设定范围内的所述微结构的个数与所述微结构的总数的比例大小均在其对应的所述目标占比范围之内，以使所述抗闪光盖板具有抗闪光作用。优选地，在玻璃基板上形成多个微结构，包括以下步骤：1)在玻璃基板上形成多个竖截面为圆弧形的凹槽；2)调整部分所述凹槽，使该部分所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比部分或全部改变；3)根据所述预设目标重复若干次所述步骤2)的操作，直至多个所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比的大小范围及其对应的占比范围均与所述预设目标相符合。优选地，多个所述凹槽的大小相同，其相互连接并均匀分布排列。优选地，步骤1)具体包括：在所述玻璃基板表面的预设位置喷涂包括氢氟酸、磷酸及硫酸在内所组成的混酸溶液，并使所述混酸溶液在所述预设位置停留至预设时间长度，使其蚀刻出多个所述凹槽。优选地，步骤2)具体包括：在所述多个凹槽上涂布正光阻层，所述正光阻层覆盖多个所述凹槽；准备设定光罩并将其与所述正光阻层相对合，将紫外光线照射所述设定光罩，以得到曝光区小于未曝光区的光阻结构；在所述光阻结构的曝光区再次喷涂所述混酸溶液对所述玻璃基板进行蚀刻，以改变该曝光区部分的所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比。优选地，所述预设目标具体为：弦切角大小的绝对值处于30°～40°、20°～30°、10°～20°的所述凹槽的个数占所述凹槽的总数的百分比分别为0～0.5％、0.5％～1.5％、7％～15％及85％～91％，多个所述凹槽的平均曲率半径范围为10～30um，且多个所述凹槽的平均深宽比范围为0.05～0.1。优选地，在玻璃基板上形成多个微结构，包括以下步骤：1)在玻璃基板上涂覆一透明有机层，所述透明有机层具有所述玻璃基板的光学性质；2)在所述透明有机层上涂覆一负光阻层，准备设定光罩并将紫外光线照射所述设定光罩，以对所述负光阻层进行曝光显影，得到所述负光阻层的光阻预设结构；3)对所述光阻预设结构及所述透明有机层进行蚀刻，以去除所述光阻预设结构，并得到所述透明有机层的透明有机结构，且所述透明有机结构的外型与所述光阻预设结构的外型相同，所述透明有机结构包括多个所述微结构；其中，所述设定光罩设有全曝光区、半曝光区及无曝光区，所述半曝光区位于所述全曝光区的两侧，所述无曝光区位于所述半曝光区的中部，多个所述透明微结构具有抗闪光作用。优选地，每个所述微结构的外型为中间厚两侧薄的底面横截面为圆弧形的凸包，所述凸包的中部对应所述无曝光区，所述凸包的两侧对应所述半曝光区。优选地，各个所述微结构的大小不完全相同，且相邻两个所述微结构之间设有间距，该间距区对应所述全曝光区。优选地，所述凸包的曲率半径范围为2～100um，相邻两个所述凸包之间的间隔范围为0.2～30um，所述凸包的高度范围为1～100um。本专利技术的有益效果：本专利技术的一种抗闪光盖板的制作方法，包括两种制作方式，其一是通过多次湿蚀刻，并辅助光罩的工艺方式在玻璃基板上制备多个微结构，通过对微结构的相关结构参数进行设计并优化，有效改善微结构在高解析度盖板上产生的闪光现象，使微结构盖板在增强面板户外可读性的同时也避免闪光现象，对于抗眩盖板在小尺寸显示面板上的实际应用起到很好的推动作用。其二是采用光刻的方式制备从圆弧状到球状的抗闪光结构，通过光罩工艺精确控制微结构周期大小、间距和高度，当微结构粒径大小为2～100um范围内，微结构间距为0.2～30um的范围内(间距为粒径大小的0.1～0.3倍)，微结构高度为1～100um的范围内(高度为粒径大小的0.5～2倍)，通过光学软件模拟进行验证，改善盖板表面的抗闪光效果。【附图说明】图1为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤流程图；图2为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，将玻璃基板清洗并烘干后的示意图；图3为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，在玻璃基板上形成多个竖截面为圆弧形的凹槽的示意图；图4为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，在透明有机层上涂覆一正光阻层的示意图；图5为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，将紫外光线照射所述设定光罩的示意图；图6为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，得到曝光区小于未曝光区的光阻结构的示意图；图7为本专利技术实施例一的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，改变该曝光区部分的所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比的示意图；图8为本专利技术实施例一的凹槽的弦切角、曲率半径和深度的结构参数表达示意图；图9为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤流程图；图10为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，将玻璃基板清洗并烘干后的示意图；图11为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，在玻璃基板上涂覆一透明有机层的示意图；图12为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，在透明有机层上涂覆一负光阻层的示意图；图13为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，将紫外光线照射所述设定光罩，对所述负光阻层进行曝光显影的示意图；图14为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，得到负光阻层的光阻预设结构的示意图；图15为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，去除光阻预设结构，并得到透明有机层的透明有机结构的示意图；图16为本专利技术实施例二的抗闪光盖板的制造方法实施步骤中，得到的透明有机材料层形成的多个所述微结构的竖截面近似于圆弧状的示意图；图17为本专利技术实施例二的凸包的弦切角、曲率半径和深度的结构参数表达示意图。【具体实施方式】以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗闪光盖板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)根据预设目标设定玻璃基板表面结构的不同结构参数的目标大小范围及其对应的目标占比范围；2)在所述玻璃基板上形成多个微结构，每个所述微结构的不同结构参数的绝对值大小均在其对应的所述目标大小范围之内，且所述目标大小范围划分为若干个设定范围，参数大小处于该若干个设定范围内的所述微结构的个数与所述微结构的总数的比例大小均在其对应的所述目标占比范围之内，以使所述抗闪光盖板具有抗闪光作用。

【技术特征摘要】
1.一种抗闪光盖板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)根据预设目标设定玻璃基板表面结构的不同结构参数的目标大小范围及其对应的目标占比范围；2)在所述玻璃基板上形成多个微结构，每个所述微结构的不同结构参数的绝对值大小均在其对应的所述目标大小范围之内，且所述目标大小范围划分为若干个设定范围，参数大小处于该若干个设定范围内的所述微结构的个数与所述微结构的总数的比例大小均在其对应的所述目标占比范围之内，以使所述抗闪光盖板具有抗闪光作用。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在玻璃基板上形成多个微结构，包括以下步骤：1)在玻璃基板上形成多个竖截面为圆弧形的凹槽；2)调整部分所述凹槽，使该部分所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比部分或全部改变；3)根据所述预设目标重复若干次所述步骤2)的操作，直至多个所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比的大小范围及其对应的占比范围均与所述预设目标相符合。3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，多个所述凹槽的大小相同，其相互连接并均匀分布排列。4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，步骤1)具体包括：在所述玻璃基板表面的预设位置喷涂包括氢氟酸、磷酸及硫酸在内所组成的混酸溶液，并使所述混酸溶液在所述预设位置停留至预设时间长度，使其蚀刻出多个所述凹槽。5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，步骤2)具体包括：在所述多个凹槽上涂布正光阻层，所述正光阻层覆盖多个所述凹槽；准备设定光罩并将其与所述正光阻层相对合，将紫外光线照射所述设定光罩，以得到曝光区小于未曝光区的光阻结构；在所述光阻结构的曝光区再次喷涂所述混酸溶液对所述玻璃基板进行蚀刻，以改变该曝光区部分的所述凹槽的弦切角、曲率半径及深宽比。6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨勇，李得俊，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42