气体密封结构制造技术

本发明专利技术涉及密封结构领域，特别涉及气体密封结构。气体密封结构包括密封槽、封盖件及设置在密封槽内的密封圈，所述的密封槽的横截面为T型，包括靠近密封槽槽口的宽槽段和靠近密封槽槽底的窄槽段，所述的两窄槽段侧壁与宽槽段槽底之间设有过渡连接壁，所述的密封圈与封盖件、密封槽槽底和两过渡连接壁压紧配合以实现密封。与目前的气体密封结构相比，本发明专利技术的气体密封结构增加了密封圈与密封槽的密封面数量，同时也增加了密封圈与封盖件的接触面积，提高了密封效果，解决了目前的气体密封结构密封效果差的问题。

Gas seal structure

The invention relates to the sealing structure field, in particular to a gas sealing structure. The gas sealing structure comprises a sealing groove and sealing parts and is arranged in the sealing groove of the cross section of the sealing groove of the T type, including near the slot width of sealing groove notch and narrow groove section near the sealing groove bottom, connecting wall is arranged between the two side of the narrow groove segment wide slot wall and the bottom of the groove, the sealing ring and the sealing parts, seal groove bottom and two connecting wall press fit to seal. Compared with the current gas seal structure, the gas sealing structure increases the number of the sealing surface of the sealing ring and the sealing groove, while also increasing the contact area of the sealing ring and the sealing piece, the sealing effect is improved, the gas seal structure of the poor.

【技术实现步骤摘要】
气体密封结构
本专利技术涉及密封结构领域，特别涉及气体密封结构。
技术介绍
机器设备的密封结构可以防止外界杂质的侵入，同时也可以杜绝被密封介质从结合处泄漏，避免对环境造成污染，保证设备的运行安全。在中低压气体的密封管道中，常以气体工作介质或者输送流体，气体的密封显得尤为重要，气体泄漏会造成设备的损坏，造成经济损失，同时也会污染环境、引起人员伤亡。目前的气体密封结构一般为密封圈与矩形密封槽组合形成，如图1所示，在密封圈10受到封盖件30压力后压缩，如果密封圈10压缩量较大，密封圈10压缩后可能会与密封槽20的两侧面接触，但是侧向的接触力比较小，难以与密封槽侧壁压紧密封，造成气体密封结构的密封效果差的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种气体密封结构，以解决目前的气体密封结构密封效果差的问题。为实现上述目的，本专利技术的气体密封结构的技术方案为：气体密封结构，包括密封槽、封盖件及设置在密封槽内的密封圈，所述的密封槽的横截面为T型，包括靠近密封槽槽口的宽槽段和靠近密封槽槽底的窄槽段，所述的两窄槽段侧壁与宽槽段槽底之间设有过渡连接壁，所述的密封圈与封盖件、密封槽槽底和两过渡连接壁压紧配合以实现密封。所述的宽槽段槽底倾斜设置，宽槽段槽底在远离窄槽段槽口的部分高于靠近窄槽段槽口的部分。两窄槽段侧壁倾斜设置以使窄槽段形成扩口结构。所述的两窄槽段侧壁之间的距离小于处于原始状态的密封圈沿窄槽段槽宽方向的尺寸。所述的宽槽段的高度小于窄槽段的高度。所述的密封圈为O型密封圈。本专利技术的有益效果为：本专利技术的气体密封结构的密封槽的横截面为T型，包括靠近槽口的宽槽段和靠近槽底的窄槽段，两窄槽段侧壁与对应的两宽槽段槽底之间设有过渡连接壁，密封圈与封盖件、密封槽槽底及两过渡连接壁压紧配合以实现密封，增加了密封圈与密封槽的密封面数量，同时由于密封圈与两密封槽侧壁上的过渡连接壁压紧配合以实现密封，在两过渡连接壁的挤压作用下，密封圈处于宽槽段内沿宽槽段槽宽方向的尺寸增大，增大了密封圈与封盖件的接触面积。与目前的气体密封结构相比，本专利技术的气体密封结构的密封圈与密封槽的密封面数量，同时也增加了密封圈与封盖件的接触面积，提高了密封效果，解决了目前的气体密封结构密封效果差的问题。附图说明图1为现有技术中的气体密封结构的结构示意图；图2为本专利技术的气体密封结构的具体实施例的结构示意图；图3为本专利技术的气体密封结构的具体实施例的密封槽的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的实施方式作进一步说明。本专利技术的气体密封结构的具体实施例，如图2和图3所示，气体密封结构包括密封槽2、设置在密封槽内的密封圈1及封盖件3，本实施例中的密封圈1为O型密封圈，密封槽2包括靠近密封槽槽口21的宽槽段22和靠近密封槽槽底23的窄槽段24，密封槽2具有相对设置的两个密封槽侧壁，两个密封槽侧壁均包括宽槽段侧壁221、宽槽段槽底222、窄槽段侧壁241、宽槽段槽底222与窄槽段侧壁241之间的过渡连接壁25。密封圈1与封盖件3、密封槽槽底23及两过渡连接壁25压紧配合以实现密封。本实施例中，密封圈1还与宽槽段槽底靠近过渡连接壁25的部分、与窄槽段侧壁靠近过渡连接壁25的部分密封配合，其他实施例中，密封圈1可以与整个宽槽段槽底密封配合，当然也可仅与过渡连接壁密封配合。本实施例中，两密封槽侧壁上的宽槽段槽底222倾斜设置，宽槽段槽底在远离窄槽段槽口的部分高于靠近窄槽段槽口的部分。两密封槽侧壁上的窄槽段侧壁241在自槽底到槽口方向上相互远离倾斜设置，以使窄槽段形成扩口结构。宽槽段槽底222的倾斜角度为α，窄槽段侧壁241的倾斜角度为α1，本实施例中，过渡连接壁25为半径为R的圆弧过渡连接壁，宽槽段槽底222与宽槽段侧壁221连接处、窄槽段24与密封槽槽底23的连接处均圆弧过渡，过渡圆弧半径也均为R，圆弧过渡设计可以避免密封圈被划伤。本实施例中，为了实现更好的密封效果，使密封圈1与密封槽2之间具有足够大的密封面积，宽槽段槽宽W与窄槽段槽宽W1及密封槽槽深D、窄槽段槽深D1均具有合适的尺寸。本实施例中的窄槽段槽宽W1小于处于原始状态下的密封圈的直径，而宽槽段槽宽W大于处于原始状态下密封圈的直径，窄槽段的高度大于宽槽段的高度，窄槽段的高度大于宽槽段的高度可以使密封圈中心上移，增大密封圈处于宽槽段内部分沿槽宽方向的尺寸。通过限制宽槽段高度、窄槽段高度D1、窄槽段槽宽W1，使密封圈处于窄槽段内的部分不能自由变形，压缩后的密封圈变形，密封圈中心向上移动，使得压缩后的密封圈处于宽槽段内的部分沿槽宽方向的尺寸增加，增大密封圈数量和与密封槽的接触面积，同时也增大了封盖件3与密封圈的接触面积。本专利技术的气体密封结构在使用时，密封圈1在封盖件3的作用下被压进密封槽2内，由于窄槽段侧壁221倾斜设置，密封圈1在窄槽段24受窄槽段侧壁221的限制不能自由变形，使密封圈1的中心朝向密封槽槽口21方向移动，密封圈型心上移，增大密封圈1处于宽槽段221内的沿槽宽方向的尺寸，进而增大密封去圈1与封盖件3的密封面面积。使密封圈1与密封槽侧壁上的过渡连接壁25密封接触配合，在封盖件压力作用下，密封槽在受到侧向的气压后，不会与两密封槽侧壁中其中一个密封槽侧壁上的过渡连接壁相脱离，保证气密封效果与保证密封效果。本专利技术充分利用了密封槽的自身特点，使被压缩后的密封圈受密封槽槽型的影响，密封槽型心高度上移，使宽槽段内的密封圈部分与封盖件的接触面积加大，窄槽段通过槽型控制密封圈的变形，可以使密封圈与窄槽段紧密贴合，增加密封圈与密封圈密封面数量，加大密封面面积，从而保证年泄漏率在0.1%以下。其他实施例中，宽槽段槽底可以与密封槽槽底平行设置；上述窄槽段侧壁面可以与密封槽槽底垂直设置；上述相对设置的两窄槽段侧壁面之间的距离可以等于或者稍大于处于原始状态下密封圈的直径，上述的窄槽段的高度也可以等于或者小于宽槽段的高度，此时为了保证密封效果，应减小密封槽的高度以使密封圈与密封槽侧壁上的过渡连接壁密封配合；上述O型密封圈还可以为D型等其他类型密封圈。本文档来自技高网...

【技术保护点】
气体密封结构，包括密封槽、封盖件及设置在密封槽内的密封圈，其特征在于：所述的密封槽的横截面为T型，包括靠近密封槽槽口的宽槽段和靠近密封槽槽底的窄槽段，所述的两窄槽段侧壁与宽槽段槽底之间设有过渡连接壁，所述的密封圈与封盖件、密封槽槽底、两过渡连接壁压紧配合以实现密封。

【技术特征摘要】
1.气体密封结构，包括密封槽、封盖件及设置在密封槽内的密封圈，其特征在于：所述的密封槽的横截面为T型，包括靠近密封槽槽口的宽槽段和靠近密封槽槽底的窄槽段，所述的两窄槽段侧壁与宽槽段槽底之间设有过渡连接壁，所述的密封圈与封盖件、密封槽槽底、两过渡连接壁压紧配合以实现密封。2.根据权利要求1所述的气体密封结构，其特征在于：所述的宽槽段槽底倾斜设置，宽槽段槽底在远离窄槽段槽口的部分高于靠近窄槽段槽口的部...

【专利技术属性】
技术研发人员：段阿利，张克选，陈瑞旭，舒金磊，柳少枫，李刚，王会超，李耀文，李金风，李建征，石晶，
申请(专利权)人：河南平芝高压开关有限公司，平高集团有限公司，国家电网公司，
类型：发明
国别省市：河南,41