打磨抛光装置及打磨抛光的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种打磨抛光装置及打磨抛光的方法。打磨抛光装置包括支撑部；打磨抛光部，用于对工件进行打磨抛光，打磨抛光部可活动地设置于支撑部上，打磨抛光部可根据其受到的工件的作用力而调整与支撑部的相对位置，以使打磨抛光部接触工件进行打磨抛光。该打磨抛光装置取消了采用现有技术中硬限位的安装方式，使得该打磨抛光部在打磨作业中可以通过调整自身的打磨位置以使打磨抛光装置始终紧贴工件进行打磨抛光作业，保证了被打磨抛光的工件始终处于在一定恒力的作用下进行打磨抛光作业，提高了该打磨抛光装置的打磨抛光效果。

Polishing device and method of polishing

The invention provides a sanding and polishing device and a polishing method. The polishing device comprises a supporting part; polishing part for workpiece polishing, grinding and polishing can be movably arranged on the support part, the relative position of the polishing part can be adjusted according to the workpiece and the supporting part of the force, so that the polishing contact workpiece polishing. The polishing device eliminates the use of existing technology in the installation of a hard limit, so that the Polish Ministry can adjust its position so that the grinding polishing device always polishing operation to the workpiece in grinding operation, ensure the workpiece is polished by grinding and polishing operation is always in a constant role next, the polishing device improves the polishing effect.

【技术实现步骤摘要】
打磨抛光装置及打磨抛光的方法
本专利技术涉及打磨抛光设备
，具体而言，涉及一种打磨抛光装置及打磨抛光的方法。
技术介绍
现有技术中，市面上成熟的打磨抛光机较少，而且大部分的打磨抛光机都采用硬限位安装的方式进行安装，使得在打磨抛光作业过称中，打磨抛光压力不恒定。进一步地，由于现有技术中，打磨抛光机采用硬限位的安装方式，使得当需要被打磨抛光的工件在打磨抛光过程中，运送不到位，或是在打磨抛光过程中由于打磨抛光机和被打磨工件都处于固定的位置，在打磨抛光过程中由于工件不断被打磨抛光会产生一定的磨损，继而容易造成打磨抛光机与被打磨的工件的距离不断增加，使得工件受到打磨抛光机提供的压力不断改变，从而影响工件打磨抛光的效果。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种打磨抛光装置及打磨抛光的方法，以解决现有技术中打磨抛光机压力不恒定的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种打磨抛光装置，包括：支撑部；打磨抛光部，用于对工件进行打磨抛光，打磨抛光部可活动地设置于支撑部上，打磨抛光部可根据其受到的工件的作用力而调整与支撑部的相对位置，以使打磨抛光部接触工件进行打磨抛光。进一步地，打磨抛光部包括：驱动部，驱动部与支撑部相连接；打磨抛光件，驱动部驱动打磨抛光件在支撑部上往复运动。进一步地，打磨抛光件具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置，驱动部的推力为F1，打磨抛光件与工件接触时受到工件的力为F2，当F1＜F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿第一方向运动至第一打磨抛光位置，当F1≥F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿与第一方向相反的第二方向运动至第二打磨抛光位置。进一步地，支撑部包括：支撑架，驱动部与支撑架相连接；导轨，设置于支撑架上，打磨抛光件与导轨相连接，驱动部可驱动打磨抛光件沿导轨的长度方向滑动。进一步地，支撑部还包括：支撑板，支撑板与导轨相连接，支撑板可相对导轨做相对运动，打磨抛光件设置于支撑板上，驱动部的驱动轴与支撑板相连接，驱动部通过驱动支撑板以使打磨抛光件滑动。进一步地，打磨抛光装置包括：打磨抛光件，打磨抛光件具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置；弹性件，弹性件的一端与支撑部相连接，弹性件的另一端与打磨抛光件相连接，弹性件朝向打磨抛光件施加预紧力以使打磨抛光件位于第一打磨抛光位置。进一步地，预紧力为F3，打磨抛光件与工件接触时受到工件的力为F2，当F3≥F2时，弹性件使打磨抛光件沿第三方向运动至第一打磨抛光位置，当F3＜F2时，弹性件使打磨抛光件沿与第三方向相反的第四方向运动至第二打磨抛光位置。进一步地，打磨抛光件与支撑部可拆卸地设置，使打磨抛光件在支撑部具有第一安装位置和第二安装位置。进一步地，打磨抛光装置还包括：气体过滤器，气体过滤器设置于支撑部上。进一步地，打磨抛光件包括：本体；打磨抛光头，可转动地设置于本体上。进一步地，打磨抛光头为多个，多个打磨抛光头对称地设置于本体上。进一步地，打磨抛光头呈圆盘结构。进一步地，驱动部驱动打磨抛光件以使本体带动圆盘结构沿圆盘结构的轴向方向移动，或者，驱动部驱动打磨抛光件以使本体带动圆盘结构沿圆盘结构的径向方向移动。根据本专利技术的另一方面，提供了一种打磨抛光的方法，方法采用上述的打磨抛光装置进行打磨抛光，方法包括以下步骤：设定打磨抛光装置的驱动部的推力为F1；将打磨抛光装置的打磨抛光部对待打磨抛光的工件进行打磨抛光，打磨抛光件与工件接触时受到工件的力为F2，当F1＜F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿第一方向运动至第一打磨抛光位置，当F1≥F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿与第一方向相反的第二方向运动至第二打磨抛光位置。应用本专利技术的技术方案，采用打磨抛光部可活动地设置在支撑部上的方式，且在打磨抛光的过程中，打磨抛光部可根据受到工件的力调整打磨抛光部在支撑部上的打磨位置，以使打磨抛光部始终紧贴工件进行打磨抛光作业。该打磨抛光装置取消了采用现有技术中硬限位的安装方式，使得该打磨抛光部在打磨作业中可以通过调整自身的打磨位置以使打磨抛光装置始终紧贴工件进行打磨抛光作业，保证了被打磨抛光的工件始终处于在一定恒力的作用下进行打磨抛光作业，提高了该打磨抛光装置的打磨抛光效果。附图说明构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了根据本专利技术的打磨抛光装置的实施例的结构示意图；图2示出了图1中的打磨抛光装置的实施例的另一视角的结构示意图；图3示出了图2中的A-A向的剖视结构示意图；图4示出了图3中的B-B向的剖视结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、支撑部；11、支撑架；12、导轨；13、支撑板；14、滑块；20、打磨抛光部；21、驱动部；22、打磨抛光件；221、本体；222、打磨抛光头；30、气体过滤器；40、支撑板法兰；50、气缸固定板。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的术语在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。现在，将参照附图更详细地描述根据本申请的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员，在附图中，为了清楚起见，有可能扩大了层和区域的厚度，并且使用相同的附图标记表示相同的器件，因而将省略对它们的描述。结合图1至图4所示，根本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种打磨抛光装置，其特征在于，包括：支撑部(10)；打磨抛光部(20)，用于对工件进行打磨抛光，所述打磨抛光部(20)可活动地设置于所述支撑部(10)上，所述打磨抛光部(20)可根据其受到的所述工件的作用力而调整与所述支撑部(10)的相对位置，以使所述打磨抛光部(20)接触所述工件进行打磨抛光。

【技术特征摘要】
1.一种打磨抛光装置，其特征在于，包括：支撑部(10)；打磨抛光部(20)，用于对工件进行打磨抛光，所述打磨抛光部(20)可活动地设置于所述支撑部(10)上，所述打磨抛光部(20)可根据其受到的所述工件的作用力而调整与所述支撑部(10)的相对位置，以使所述打磨抛光部(20)接触所述工件进行打磨抛光。2.根据权利要求1所述的打磨抛光装置，其特征在于，所述打磨抛光部(20)包括：驱动部(21)，所述驱动部(21)与所述支撑部(10)相连接；打磨抛光件(22)，所述驱动部(21)驱动所述打磨抛光件(22)在所述支撑部(10)上往复运动。3.根据权利要求2所述的打磨抛光装置，其特征在于，所述打磨抛光件(22)具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置，所述驱动部(21)的推力为F1，所述打磨抛光件(22)与所述工件接触时受到所述工件的力为F2，当F1＜F2时，所述驱动部(21)驱动所述打磨抛光件(22)沿第一方向运动至所述第一打磨抛光位置，当所述F1≥F2时，所述驱动部(21)驱动所述打磨抛光件(22)沿与所述第一方向相反的第二方向运动至所述第二打磨抛光位置。4.根据权利要求2或3所述的打磨抛光装置，其特征在于，所述支撑部(10)包括：支撑架(11)，所述驱动部(21)与所述支撑架(11)相连接；导轨(12)，设置于所述支撑架(11)上，所述打磨抛光件(22)与所述导轨(12)相连接，所述驱动部(21)可驱动所述打磨抛光件(22)沿所述导轨(12)的长度方向滑动。5.根据权利要求4所述的打磨抛光装置，其特征在于，所述支撑部(10)还包括：支撑板(13)，所述支撑板(13)与所述导轨(12)相连接，所述支撑板(13)可相对所述导轨(12)做相对运动，所述打磨抛光件(22)设置于所述支撑板(13)上，所述驱动部(21)的驱动轴与所述支撑板(13)相连接，所述驱动部(21)通过驱动所述支撑板(13)以使所述打磨抛光件(22)滑动。6.根据权利要求2所述的打磨抛光装置，其特征在于，所述打磨抛光装置包括：打磨抛光件(22)，所述打磨抛光件(22)具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置；弹性件，所述弹性件的一端与所述支撑部(10)相连接，所述弹性件的另一端与所述打磨抛光件(22)相连接，所述弹性件朝向所述打磨抛光件(...

【专利技术属性】
技术研发人员：李亮，汤琮然，陶通涓，钟泳，李东阳，陈雪峰，余建辉，唐严清，何强锋，
申请(专利权)人：珠海格力智能装备有限公司，珠海格力电器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44