作为杀线虫剂的吡唑并吡啶磺酰胺制造技术

本发明专利技术公开了具有杀线虫特性的式(I)的化合物，其中结构要素具有如说明书中所示的含义。

Pyrazole sulfonamide as an agent for killing nematodes

Compounds of formula (I) having nematode killing properties are disclosed, wherein the structural elements have the meaning as illustrated in the instructions.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及吡唑并吡啶磺酰胺，其用于防治农业中的动物害虫、尤其是线虫的用途，包含这类化合物的制剂以及防治动物害虫、尤其是线虫的方法。本专利技术涉及适用于农学和非农学用途的某些磺酰胺、其N-氧化物、盐和制剂，以及其用于防治农学和非农学环境中的动物害虫、尤其是线虫的方法。本专利技术还涉及用于制备这类吡唑并吡啶磺酰胺的方法和中间体化合物。线虫导致包括粮食和经济作物的农产品的重大损失，并且对抗具有杀线虫活性的化合物。为了在农业中有效，这些化合物应具有高的活性、抵抗不同线虫菌株的广谱活性，并且不应对非目标生物体有毒。由于线虫寄生虫对驱虫剂的抗性的广泛发展，尽管有可用的化学治疗剂，但线虫对于牲畜仍持续造成困扰。持续需求更有效、成本更低、毒性更低、环境更安全或具有不同作用模式的新的化合物。欧洲专利申请公开号0244166A2(称为P1)公开了作为除草剂的式(i)的化合物其中，尤其地，R为H或有机取代基，W为O或S，L为芳基或杂芳基部分，且A选自二环、三环和四环杂环基团。PCT专利申请公开号WO2010/129500(P2)公开了式(ii)的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物和其盐，以及包含其的组合物及其用于防治寄生线虫的用途：其中，尤其地，Z为O或S，且Q为苯基、萘基、5元或6元杂芳族环或8元至10元杂芳族双环体系，其各自任选地被1至5个取代基取代。匿名公开的出版物IPcomJournal10，26(2010)(P3)记载了10个明确列举的与多种杀虫剂以数种混合比例混合的通式(ii)的化合物。PCT专利申请公开号WO2012/054233(P4)公开了式(iii)的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物及其盐，以及包含其的组合物及其用于防治寄生线虫的用途：其中，尤其地，Z为O或S，Q为苯基、萘基、5元或6元杂芳族环或8元至10元杂芳族双环体系，其各自任选地被1至5个取代基取代，并且A1、A2、A3和A4独立地为N或CR1，条件是A1、A2、A3和A4中仅一个为N。PCT专利申请公开号WO2013/055584(P5)公开了固体形式的某些杀线虫的式(ii)的咪唑并吡啶磺酰胺。本专利技术的化合物未在这些出版物中公开。本专利技术的目的是提供可用作杀线虫剂的化合物，所述化合物特别是在相对低的施用率下具有令人满意的或改进的杀线虫活性、在作物植物栽培中具有高选择性和高相容性。
技术实现思路
本专利技术涉及式(I)的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物及其盐，和包含其的制剂及其用于防治动物害虫、尤其是线虫、尤其是寄生线虫的用途：其中Z为O或S；每个R1独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(R10)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9或N(R10)S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或苯基、萘基或5元或6元杂芳族环，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；R2为H、卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(R10)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9或N(R10)S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或苯基、萘基或5元或6元杂芳族环，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12、C2-C6-烷氧基烷基、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；R3为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9或S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或C1-C6-烷基，其被1至2个独立地选自苯基或5元或6元杂芳族环的取代基取代，所述苯基或5元或6元杂芳族环各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C2-C6-烷氧基烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；或苯基，其任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、本文档来自技高网...

【技术保护点】
式(I)的化合物其中Z为O或S；每个R1独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1‑C6‑烷基、C1‑C6‑卤代烷基、C2‑C6‑烯基、C2‑C6‑卤代烯基、C2‑C6‑炔基、C2‑C6‑卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(R10)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9或N(R10)S(O)2NR11R12；或C3‑C7‑环烷基、C4‑C8‑环烷基烷基、C6‑C14‑环烷基环烷基或C5‑C7‑环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1‑C4‑烷基、C1‑C4‑卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1‑C6‑烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或苯基、萘基或5元或6元杂芳族环，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1‑C4‑烷基、C2‑C4‑烯基、C2‑C4‑炔基、C1‑C4‑卤代烷基、C2‑C4‑卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；R2为H、卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1‑C6‑烷基、C1‑C6‑卤代烷基、C2‑C6‑烯基、C2‑C6‑卤代烯基、C2‑C6‑炔基、C2‑C6‑卤代炔基、C3‑C7‑环烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(R10)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9或N(R10)S(O)2NR11R12；或C3‑C7‑环烷基、C4‑C8‑环烷基烷基、C6‑C14‑环烷基环烷基或C5‑C7‑环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1‑C4‑烷基、C1‑C4‑卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1‑C6‑烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或苯基、萘基或5元或6元杂芳族环，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1‑C4‑烷基、C2‑C4‑烯基、C2‑C4‑炔基、C1‑C4‑卤代烷基、C2‑C4‑卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12、C2‑C6‑烷氧基烷基、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；R3为H、C1‑C6‑烷基、C1‑C6‑卤代烷基、C2‑C6‑烯基、C2‑C6‑卤代烯基、C2‑C6‑炔基、C2‑C6‑卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9或S(O)2NR11R12；或C3‑C7‑环烷基、C4‑C8‑环烷基烷基或C5‑C7‑环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4a和S(O)mR9a；或C1‑C6‑烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或C1‑C6‑烷基，其被1至2个独立地选自苯基或5元或6元杂芳族环的取代基取代，所述苯基或5元或6元杂芳族环各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1‑C4‑烷基、C2‑C4‑烯基、C2‑C4‑炔基、C1‑C4‑卤代烷基、C2‑C4‑卤代烯基、C2‑C6‑烷氧基烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；或苯基，其任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1‑C4‑烷基、C2‑C4‑烯基、C2‑C4‑炔基、C1‑C4‑卤代烷基、C2‑C4‑卤代烯基、C2‑C6‑烷氧基烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.08 EP 14167534.81.式(I)的化合物其中Z为O或S；每个R1独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(R10)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9或N(R10)S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或苯基、萘基或5元或6元杂芳族环，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；R2为H、卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(R10)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9或N(R10)S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或苯基、萘基或5元或6元杂芳族环，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12、C2-C6-烷氧基烷基、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；R3为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9或S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基，其被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4、NR5R6、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9和S(O)2NR11R12；或C1-C6-烷基，其被1至2个独立地选自苯基或5元或6元杂芳族环的取代基取代，所述苯基或5元或6元杂芳族环各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C2-C6-烷氧基烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；或苯基，其任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、OR4、NR5R6、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C2-C6-烷氧基烷基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；Q为C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、苯基、萘基或5元或6元杂芳族环或8元至10元杂芳族双环体系，其各自任选地被1至5个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、SF5、OCN、SCN、Si(R15)3、OR4、NR5R6、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(X)NR11R12、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、OC(O)R7、OC(O)OR8、OC(O)NR11R12、OS(O)2R9、OS(O)2NR11R12、N(R10)C(O)R7、N(Rl0)C(O)NR11R12、N(R10)S(O)2R9、N(Rl0)S(O)2NR11R12和R14；或Q选自(U-1)至(U-61)、(U-81)至(U-87)、(U-89)至(U-103)和(U-105)至(U-123)：其中每个Rv独立地为如R1、R2或R3所定义的任意取代基，且r为0、1、2、3、4或5，其受限于每个U基团上可用位点的数目；每个R4独立地为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基或C2-C6-卤代炔基；或C1-C6-烷基、C2-C6-烯基或C2-C6-炔基，其各自被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4a、NR5aR6a、C(X)R7a、C(O)OR8a、C(O)NR11R12、S(O)mR9a和S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或苯基，其任选地被1至3个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、OR4、C2-C6-烷氧基烷基、S(O)mR9、S(O)2NR11R12、NR5aR6a、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；每个R4a独立地为H、C1-C6-烷基或C1-C6-卤代烷基；每个R5独立地为H、NR5aR6a、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基、C2-C6-卤代炔基、C(X)R7、C(O)OR8、C(O)NR11R12、S(O)mR9或S(O)2NR11R12；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或苯基，其任选地被1至3个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7a、C(O)OR8a、C(O)NR11R12、OR4a、C2-C6-烷氧基烷基、S(O)mR9a、S(O)2NR11R12、NR5aR6a、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；每个R5a独立地为H或C1-C6-烷基；每个R6独立地为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基或C2-C6-卤代炔基；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；每个R6a独立地为H、C1-C6-烷基、C(O)R13或C(O)OR13；每个R7独立地为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基或C2-C6-卤代炔基；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或苯基，其任选地被1至3个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7a、C(O)OR8a、C(O)NR11R12、OR4a、C2-C6-烷氧基烷基、S(O)mR9a、S(O)2NR11R12、NR5aR6a、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；每个R7a独立地为C1-C6-烷基或C1-C6-卤代烷基；每个R8独立地为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基或C2-C6-卤代炔基；或C3-C7-环烷基、C4-C8-环烷基烷基、C6-C14-环烷基环烷基或C5-C7-环烯基，其各自任选地被1至4个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤代烷基、OR4a和S(O)mR9a；或C1-C6-烷基、C2-C6-烯基或C2-C6-炔基，其各自被1至4个独立地选自下列的取代基取代：氰基、硝基、OR4a、NR5aR6a、C(X)R7a、C(O)OR8a、C(O)NR11R12、S(O)mR9a和S(O)2NR11R12；或苯基，其任选地被1至3个独立地选自下列的取代基取代：卤素、氰基、硝基、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-卤代烷基、C2-C4-卤代烯基、C(X)R7a、C(O)OR8a、C(O)NR11R12、OR4a、C2-C6-烷氧基烷基、S(O)mR9a、S(O)2NR11R12、NR5aR6a、OC(O)R7a和N(R10)C(O)R7a；每个R8a独立地为C1-C6-烷基或C1-C6-卤代烷基；每个R9独立地为H、C1-C6-烷基、C1-C6-卤代烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-卤代烯基、C2-C6-炔基或C2-C6-卤代...

【专利技术属性】
技术研发人员：KH·穆勒，S·库贝勒，J·格罗伊，D·波兹，O·马萨姆，K·伊尔格，
申请(专利权)人：拜耳作物科学股份公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE