The invention provides a tactile stimulation device and fine-tuning of brain activity components, tactile stimulation of brain activity relates to the technical field, the stimulation device comprises a bracket and the base trim assembly is arranged on the base, the bracket is provided with the adjusting frame is arranged in parallel with the base, one end of the adjusting frame towards the base is provided with an adjusting block arranged for adjusting and the base blocks along the vertical direction of the sliding block are arranged in the adjusting seat provided with a spray head device, and adjusting the first frame is provided with a through screw hole, the regulating block is provided with second screw holes relative to the first thread hole, screw thread hole and passes through the first second threaded hole to rotate the adjusting blocks along with the base vertical position adjustment. The invention provides a touch brain activity stimulation device and a fine adjustment component, wherein the fine adjustment of the spray head device along the vertical direction of the base is realized by means of the adjusting device of the stimulation device, so as to improve the whole adjustment precision.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及触觉脑活动测量的
,尤其是涉及一种触觉脑活动刺激装置及微调组件。
技术介绍
功能磁共振成像,英文简称fMRI,是一种新兴的神经影像学方式,其原理是利用磁振造影来测量神经元活动所引发之血液动力的改变。由于fMRI的非侵入性、没有辐射的优势,从1990年代开始广泛应用于人类在视觉、听觉、躯体感觉皮质和顶叶皮层的功能结构及脑图谱研究。然而,由于缺乏高精度的触觉脑活动刺激终端系统,人脑触觉脑活动的研究受到极大的限制,而高精度的触觉脑活动刺激终端系统面临的主要问题是受限空间下的刺激终端构型和强磁场下设备的兼容性问题。目前,用于手触觉刺激的MRI兼容装置包括压电陶瓷式以及气动式。压电式刺激仪是基于压电效应而开发的刺激器,利用压电材料的逆压电效应,将电能转换为机械能,继而产生机械振动,产生触觉刺激。对于气动式,现有气动式设备大多采用膜片振动的原理来提供触觉刺激,少数采用将喷头直接固定在刺激部位,通过喷气的方式进行刺激。虽然压电式振动触觉刺激仪不能根据需求做出细微调节,调节精度低;而对于气动膜片式刺激仪,少数采用喷气式刺激的刺激仪其喷嘴距皮肤表面的距离以及刺激的位置均为固定,无法随意调节,更无法保证各喷嘴与皮肤保持同样的距离,因而刺激的精度低。因此,现有触觉脑活动刺激装置位置无法精确调整导致刺激精度低,故无法满足使用需求,急需改进。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种触觉脑活动刺激装置及微调组件,其中的刺激装置微调组件,调节螺钉依次穿过第一螺纹孔、第二螺纹孔,旋转调节螺钉,调节架相对底座不动,调节螺钉通过与第二螺纹孔的相对转动,带动调节块沿调节块 ...
【技术保护点】
刺激装置微调组件,其特征在于,包括底座和设置在所述底座上的支架,所述支架上设有与所述底座平行布置的调节架,所述调节架朝向所述底座的一端设有调节块安装座,用于设置喷头装置的调节块沿与所述底座垂直的方向滑动设置在所述调节块安装座上,且所述调节架上设有贯通的第一螺纹孔,所述调节块上设有与所述第一螺纹孔相对的第二螺纹孔,调节螺钉依次穿过所述第一螺纹孔、所述第二螺纹孔以转动实现所述调节块沿与所述底座垂直方向的位置调节。
【技术特征摘要】
1.刺激装置微调组件,其特征在于,包括底座和设置在所述底座上的支架,所述支架上设有与所述底座平行布置的调节架,所述调节架朝向所述底座的一端设有调节块安装座,用于设置喷头装置的调节块沿与所述底座垂直的方向滑动设置在所述调节块安装座上,且所述调节架上设有贯通的第一螺纹孔,所述调节块上设有与所述第一螺纹孔相对的第二螺纹孔,调节螺钉依次穿过所述第一螺纹孔、所述第二螺纹孔以转动实现所述调节块沿与所述底座垂直方向的位置调节。2.根据权利要求1所述的刺激装置微调组件,其特征在于,所述调节架的顶面上设有指示刻度,且所述调节螺钉上设有与所述指示刻度配合的指针。3.根据权利要求1所述的刺激装置微调组件,其特征在于,所述调节块与调节块安装座的配合端设置成T型结构,且所述调节块安装座上设有与所述T型结构配合滑动的滑槽。4.根据权利要求1所述的刺激装置微调组件,其特征在于,所述调节块安装座上设有用于与所述调节块固定安装的螺栓,所述螺栓与所述调节螺钉垂直布置。...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫天翼,吴景龙,黄一恒,
申请(专利权)人:北京理工大学,
类型:发明
国别省市:北京;11
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