The invention provides a method for impurity control valve metal anode oxide film and the proportion of chemical properties and its products, the method comprises the following steps: S1: pretreatment of valve metal and alloy; S2: valve metal on S1 treated by pulsed voltage and its alloy in anodic oxidation; S3: metal removal valve the unreacted and its alloys, anodic oxide films obtained. The invention of nano pore structure of metal anode oxide film on the surface of the valve and the pulse voltage on the disturbance mechanism of ion migration based on the content of impurities in anode valve metal oxide film greatly improved. The invention also realizes the regulation of the proportion of the chemical bond of the impurity element through the systematic adjustment of the pulse voltage to prepare a series of anode oxide films with different optical and mechanical properties. The invention has the advantages of low environmental pollution, low production cost, high application value, good practicability and wide application.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电化学制备
,特别涉及一种调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法及其产品。
技术介绍
电化学阳极氧化是指以金属或合金作为阳极,采用电解的方法使其表面形成氧化物薄膜。金属氧化物薄膜能够改变金属表面的状态和性能,如表面着色,提高耐腐蚀性,增强耐磨性及硬度,保护金属表面等。以金属铝的阳极氧化为例,将铝及其合金置于相应的电解液中作为阳极,在特定条件和外加电压作用下进行电解,阳极的铝或其合金氧化,表面上形成氧化铝薄膜,氧化铝薄膜具有耐高温、热稳定性好、强度高、化学性质稳定的特点。电化学制备金属氧化物的技术还可以实现电解液中离子对阳极氧化物的掺杂,从而制备出含有掺杂元素的氧化物,利用电化学的方法对金属铝进行阳极氧化,同样可以实现氧化铝薄膜的掺杂。离子的掺杂能够改变氧化物的物性,例如化学、光学和力学等性质。到目前为止存在两种形式的掺杂,一种是利用电解液进行掺杂,另一种是直接对金属的合金进行阳极氧化,实现掺杂。对于多孔型的阳极氧化铝,阳极氧化反应发生在纳米孔洞底部,即金属与氧化物的界面上。在阳极氧化的过程中,在外加电场的作用下,溶液中的阳离子和阴离子会定向迁移,通过离子的迁移,溶液中的酸根离子伴随着氧负离子和氢氧根离子进入纳米孔洞参与阳极氧化反应,从而能够将酸根离子掺入到阳极氧化铝薄膜中。酸根离子的掺杂量依赖于孔洞中微流体的性质,通过调节阳极氧化电压、电流密度、温度、电解液的浓度和化学性质,从而可以调节元素的掺杂量。在恒压阳极氧化或恒流阳极氧化条件下,离子的迁移受纳米管道的约束,导致离子的掺杂量在2at%-7at%范围内。然而,如果稳 ...
【技术保护点】
一种调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:阀金属及其合金的预处理;S2:将S1处理过的阀金属及其合金作为阳极,惰性电极为阴极,在酸性电解液中,利用脉冲电压,对其进行阳极氧化;S3:去除未反应的阀金属及其合金,获得阳极氧化物薄膜。
【技术特征摘要】
1.一种调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:阀金属及其合金的预处理;S2:将S1处理过的阀金属及其合金作为阳极,惰性电极为阴极,在酸性电解液中,利用脉冲电压,对其进行阳极氧化;S3:去除未反应的阀金属及其合金,获得阳极氧化物薄膜。2.根据权利要求1所述的调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法,其特征在于,所述的方法基于阀金属阳极氧化物薄膜表面的纳米孔洞结构与脉冲电压对离子迁移的扰动机制。3.根据权利要求1所述的调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法,其特征在于,所述的阀金属包括铌、钽、钛、锆、铪、钒、钼、钨、铝。4.根据权利要求1所述的调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法,其特征在于,所述的电解液为硫酸溶液、磷酸溶液、氟化铵溶液、硫酸铵溶液、硒酸溶液、铬酸溶液、硼酸溶液、丙二酸溶液、酒石酸溶液和羟乙磷酸溶液中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的调控阀金属阳极氧化物薄膜中杂质元素比例和化学性质的方法,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:王亚,王海,万维,郭虹,
申请(专利权)人:首都师范大学,
类型:发明
国别省市:北京;11
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